專利名稱：制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)
技術(shù)領(lǐng)域：
，
本實(shí)用新型涉及一種氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，尤其涉及一種制程設(shè)備氣流多
段循環(huán)系統(tǒng)。背景技術(shù)：
以特定頻率的光源照射相對(duì)應(yīng)能隙的物體，可令原本位于價(jià)帶的電子跳 躍至傳導(dǎo)帶，以產(chǎn)生較大的活性與特定的反應(yīng)，此種利用特定光源照射的處 理方式，被廣泛的運(yùn)用在各式制程設(shè)備中。
操作高頻率光源，例如紫外線等高頻率光源時(shí)，不可避免的會(huì)伴隨產(chǎn)生 相當(dāng)多的熱量，這些熱量往往不是制程中所需要的，甚至是制程中必須避免 的，否則容易引起產(chǎn)品質(zhì)量的變化。因此制程設(shè)備中便需要搭配各式降溫設(shè) 計(jì)，其中較常見的為氣冷系統(tǒng)，通過(guò)由壓縮機(jī)或鼓風(fēng)機(jī)等設(shè)備將低溫氣體導(dǎo) 入制程設(shè)備中，令受光照的基板等產(chǎn)品，可由氣流帶走多余的熱量，使得基 板等物體可保持在一定的溫度下，以維持產(chǎn)品質(zhì)量，增進(jìn)制程效果。
常用的制程設(shè)備裝置如美國(guó)專利第US3994073號(hào)及第US4646446號(hào)， 均簡(jiǎn)單的以 一壓縮機(jī)或鼓風(fēng)機(jī)，將低溫氣體由 一 出氣端吹入制程設(shè)備的處理 區(qū)；再由吸氣端將溫度升高后的氣體排出。此種方式若使用在具有較大處理 區(qū)的制程設(shè)備上，則該處理區(qū)前段與后段之間保持有一段距離，當(dāng)?shù)蜏貧怏w 經(jīng)由前段流到后段時(shí)，氣體溫度已升高不少。因此對(duì)后段而言，氣冷效果不 佳，進(jìn)而使處理區(qū)內(nèi)受光照的基板等物體散熱效果不一，部分基板無(wú)法有效 散熱，質(zhì)量不佳良率下降，制程效果較差。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題在于提供一種制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系 統(tǒng)，其可均勻有效散熱，降溫散熱及制程效果較好。
為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是提供一種制程設(shè)備氣 流多段循環(huán)系統(tǒng)，其內(nèi)設(shè)有一處理區(qū)；其中，所述處理區(qū)內(nèi)設(shè)有至少一出氣 部及至少一吸氣部，所述出氣部延伸有多個(gè)出氣支部分布在處理區(qū)內(nèi)，而吸 氣部延伸有多個(gè)吸氣支部分布在處理區(qū)內(nèi)；所述出氣支部上設(shè)有多個(gè)出氣孔， 而所述吸氣支部上設(shè)有多個(gè)吸氣孔，且出氣部的出氣支部與吸氣部的吸氣支 部相互間隔設(shè)置。
與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本實(shí)用新型制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)除原本便有
的冷卻氣流之外，更于處理區(qū)各處理板內(nèi)設(shè)置出氣部與吸氣部，每一出氣部
由出氣支部出氣孔所噴出的氣體，由吸氣部吸氣支部的吸氣孔吸入，形成一
行程小但密集的氣流循環(huán)系統(tǒng)，如此可確保處理區(qū)內(nèi)各處的氣流流量均勻，
且氣流的降溫效果相同，可均勻有效散熱，降溫散熱及制程效果較好。

圖1是本實(shí)用新型一較佳實(shí)施例的立體示意圖。
圖2是圖1所示實(shí)施例中出氣部與吸氣部的示意圖。
具體實(shí)施方式
為了使本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚 明白，
以下結(jié)合附圖及實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理
解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí) 用新型。
請(qǐng)參閱圖1及圖2，是本實(shí)用新型制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)的一較佳
實(shí)施例，其上設(shè)有處理區(qū)10,所述處理區(qū)10內(nèi)容置一個(gè)或多個(gè)處理板101, 制程設(shè)備內(nèi)設(shè)有鼓風(fēng)機(jī)，以提供處理區(qū)IO低溫氣流來(lái)降溫。本實(shí)施例的制程 設(shè)備以常用的紫外線多層爐為例，所述處理區(qū)IO在各處理板101上設(shè)有紫外 線燈體，并可承載玻璃基板，通過(guò)燈體的紫外光照射基板達(dá)到制程的目的。
所述處理區(qū)10的處理板101內(nèi)設(shè)置有至少一組出氣部11與吸氣部12。
所述出氣部11具有一入氣口 111，入氣口 111可接設(shè)在制程裝置的鼓風(fēng) 機(jī)等裝置上來(lái)獲得冷卻氣流，而所述出氣部11延伸出多個(gè)出氣支部112。所 述出氣支部112分布在處理區(qū)10的處理板101內(nèi)，且出氣支部112上設(shè)有多 個(gè)出氣孔113,通過(guò)所述出氣孔113噴出冷卻氣流在處理板101內(nèi)。所述出 氣支部112可旋動(dòng)調(diào)整，來(lái)改變出氣孔113的方向。
該吸氣部12系具有一排氣口 121以排除處理區(qū)10內(nèi)之氣流，而該吸氣 部12并延伸出有復(fù)數(shù)之吸氣支部122,該吸氣支部122系分布于處理區(qū)10 之處理板101內(nèi)，且該吸氣支部122上設(shè)有復(fù)數(shù)之吸氣孔123，藉該吸氣孔 123以吸入出氣部11噴出之冷卻氣流，而形成一小循環(huán)；該出氣支部112系 可旋動(dòng)調(diào)整，據(jù)以改變出氣孔113之方向；
所術(shù)出氣部11的出氣支部112與吸氣部12的吸氣支部122呈相互間隔 交錯(cuò)排列設(shè)置，且因所述出氣部11的出氣支部112內(nèi)氣流會(huì)隨出氣孔113向外噴出，故出氣支部112末端的氣體壓力必然較出氣支部112頭端小。為 避免出氣支部112的各出氣孔113所噴出的氣流流量相差甚大而降低散熱等 其它制程效果，故出氣孔113的大小可由出氣支部112的末端向頭端漸縮。 于出氣支部112頭端以較小的出氣孔113來(lái)抑制過(guò)多的氣體噴出，減少頭端 之流量；于出氣支部112末端以較大的出氣孔113來(lái)減少氣體噴出的阻力， 增加末端的流量。吸氣部12上的吸氣孔123設(shè)置原理相同，通過(guò)大小不同的 出氣孔113、吸氣孔123來(lái)均勻噴出氣體的流量。所述出氣支部112與吸氣 支部122的管徑漸縮，來(lái)達(dá)到相同的調(diào)整均勻噴出氣體流量的效果。
請(qǐng)?jiān)俅螀㈤唸D2，每一出氣支部112均有與其相鄰的吸氣支部122，而出 氣支部112出氣孔113所噴出的冷卻氣流可由吸氣支部122排出。因出氣支 部112與吸氣支部122相互間隔設(shè)置，每一出氣部11的出氣孔113與相鄰近 的吸氣部12吸氣孔123形成一小循環(huán)，如此可確保冷卻氣流均保持在低溫具 冷卻效果的狀態(tài)，不因處理區(qū)IO規(guī)模較大而吸收較多熱量失去散熱效果，而 通過(guò)此密集的小循環(huán)達(dá)到平均氣流與散熱效果的目的，提升制程裝置的制程 效果。
本實(shí)用新型制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)的處理區(qū)10內(nèi)設(shè)有出氣部11及 吸氣部12,出氣部11及吸氣部12分別延伸有多個(gè)出氣支部112及吸氣支架 122分布在處理區(qū)10內(nèi)；出氣支部112上設(shè)有多個(gè)出氣孔113,吸氣支部122 上設(shè)有多個(gè)吸氣孔123,且出氣部11的出氣支部112與吸氣部12的吸氣支 部122相互間隔i殳置。所迷處理區(qū)10各處理板內(nèi)i殳置出氣部ll與吸氣部12,
每一出氣部11由出氣支部112出氣孔113所噴出的氣體，由吸氣部12吸氣 支部122的吸氣孔123吸入，形成一行程小但密集的氣流循環(huán)系統(tǒng)，如此可 確保處理區(qū)10內(nèi)各處的氣流流量均勻，且氣流的降溫效果相同，可均勻有效 散熱，降溫散熱及制程效果較好。
以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型， 凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等，均 應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其內(nèi)設(shè)有一處理區(qū)；其特征在于所述處理區(qū)內(nèi)設(shè)有至少一出氣部及至少一吸氣部，所述出氣部延伸有多個(gè)出氣支部分布在處理區(qū)內(nèi)，而吸氣部延伸有多個(gè)吸氣支部分布在處理區(qū)內(nèi)；所述出氣支部上設(shè)有多個(gè)出氣孔，而所述吸氣支部上設(shè)有多個(gè)吸氣孔，且出氣部的出氣支部與吸氣部的吸氣支部相互間隔設(shè)置。
2. 如權(quán)利要求1所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于所述多 個(gè)出氣孔大小不同。
3. 如權(quán)利要求1所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于所述多 個(gè)吸氣孔大小不同。
4. 如權(quán)利要求2所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于所述出 氣孔與吸氣孔大小不同。
5. 如權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特 征在于所述出氣孔為孔方向能調(diào)整的出氣孔。
6. 如權(quán)利要求1至4中任意 一 項(xiàng)所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特 征在于所述吸氣孔為孔方向能調(diào)整的吸氣孔。
7. 如權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特 征在于所述吸氣孔為孔方向能調(diào)整的吸氣孔，所述出氣孔為孔方向能調(diào)整 的出氣孔。
8. 如權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于所述制程設(shè)備為一紫外線多層爐。
9.如權(quán)利要求1至4中任意一項(xiàng)所述的制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其特征在于所述出氣支部或吸氣支部的管徑漸縮。
專利摘要本實(shí)用新型提供一種制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)，其內(nèi)設(shè)有一處理區(qū)；其中，所述處理區(qū)內(nèi)設(shè)有至少一出氣部及至少一吸氣部，所述出氣部延伸有多個(gè)出氣支部分布在處理區(qū)內(nèi)，而吸氣部延伸有多個(gè)吸氣支部分布在處理區(qū)內(nèi)；所述出氣支部上設(shè)有多個(gè)出氣孔，而所述吸氣支部上設(shè)有多個(gè)吸氣孔，且出氣部的出氣支部與吸氣部的吸氣支部相互間隔設(shè)置。本實(shí)用新型制程設(shè)備氣流多段循環(huán)系統(tǒng)內(nèi)每一出氣部由出氣支部出氣孔所噴出的氣體，由吸氣部吸氣支部的吸氣孔吸入，形成一行程小但密集的氣流循環(huán)系統(tǒng)，可確保處理區(qū)內(nèi)各處的氣流流量均勻，且氣流的降溫效果相同，可均勻有效散熱，降溫散熱及制程效果較好。
文檔編號(hào)B41F23/00GK201056085SQ20072014621
公開日2008年5月7日 申請(qǐng)日期2007年6月27日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月27日
發(fā)明者許海津, 邱千瑞 申請(qǐng)人:志圣工業(yè)股份有限公司