專利名稱：制造光敏性層壓體的方法和設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及通過輸送每一個都包括連續(xù)地沉積在支撐件上的光敏性材料層和保護(hù)膜的兩個或更多細(xì)長的光敏性網(wǎng)膜、將保護(hù)膜剝離以露出光敏性材料層、和將露出的光敏性材料層彼此平行地連接到基板上，制造光敏性層壓(或稱為疊層，分層，或多層)體的設(shè)備和方法。
背景技術(shù)：
用于液晶屏板的基板、用于印刷布線板的基板、和用于PDP屏板的基板，例如具有光敏性薄片(光敏性網(wǎng)膜)，所述光敏性薄片具有光敏性材料(光敏性樹脂)層并被施加到基板表面上。光敏性薄片包括相繼沉積在柔性塑料支撐件上的光敏性材料層和保護(hù)膜。
用于施加光敏性薄片的施加設(shè)備通常操作用于以預(yù)定間隔供給諸如玻璃基板、樹脂基板的基板，并從光敏性薄片剝離對應(yīng)于光敏性材料層的范圍的長度的保護(hù)膜，所述光敏性材料層施加到基板中的每一個上。
根據(jù)披露在公開待審的日本專利公開No.11-34280中的施加膜的方法和設(shè)備，例如，如附圖中的圖32所示，從膜卷1退繞的層壓(或稱為疊層，分層，或多層)膜1a圍繞引導(dǎo)輥2a、2b輸送，并沿著水平的膜供給平面延伸。引導(dǎo)輥2b與編碼器3組合，所述編碼器3基于層壓膜1a被供給的長度輸出盡可能多的脈沖。
沿著水平的膜供給平面從引導(dǎo)輥2a、2b延伸的層壓膜1a圍繞吸輥4輸送。局部切割機(jī)5和覆蓋膜剝離器6沿著水平的膜供給平面設(shè)置在引導(dǎo)輥2b與吸輥4之間。
所述局部切割機(jī)5具有一對圓片切割器5a、5b。圓片切割器5a、5b可橫跨層壓膜1a橫向移動，以切斷層壓膜1a的覆蓋膜(沒有示出)以及覆蓋膜背面的光敏性樹脂層(沒有示出)。
覆蓋膜剝離器6將從粘性膠帶卷7退繞的粘性膠帶7a有力地壓向加壓輥8a、8b之間的覆蓋膜，然后圍繞卷取輥9卷起粘性膠帶7a。覆蓋膜被粘性膠帶7a從光敏性樹脂層剝離，并與粘性膠帶7a一起纏繞在卷取輥9上。
一對層壓輥12a、12b跟隨在吸輥4下游，所述層壓輥12a、12b用于將層壓膜1a重疊并壓在多個基板11的上表面上，所述多個基板11由基板供給器10連續(xù)地間歇供給。支撐膜卷取輥13設(shè)置在層壓輥12a、12b下游。施加到各個基板11上的透光支撐膜(沒有示出)被支撐膜卷取輥13剝離和卷起。
當(dāng)液晶屏板、等離子顯示器屏板、和其它屏板在尺寸上變得更大時，使用在這些屏板中的基板的尺寸也變得更大。更大尺寸的基板具有更大的橫向即更寬的面積，光敏性樹脂層被轉(zhuǎn)移到所述更寬的面積，因此使用光敏性樹脂層的光敏性薄片需要具有更大的橫向尺寸即更大的寬度。
然而，卷形式的更寬的光敏性薄片不能被容易而有效地處理，且從卷退繞光敏性薄片的放出機(jī)構(gòu)尺寸也較大。光敏性薄片越寬就越重，并更易于在其內(nèi)形成折皺，且更難以處理。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提出制造光敏性層壓體(或稱為光敏性疊層體，光敏性分層體，或光敏性多層體)的設(shè)備和方法，利用簡單的過程和布置，通過將兩個或更多細(xì)長光敏性網(wǎng)膜彼此平行地連接到基板上，所述光敏性層壓體易于處理。
根據(jù)本發(fā)明，提出了一種制造光敏性層壓體的設(shè)備，所述設(shè)備包括至少兩個網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)，所述網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)用于同步地放出細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(web)，所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜每一個包括支撐件、設(shè)置在支撐件上的光敏性材料層、和設(shè)置在光敏性材料層上的保護(hù)膜，所述保護(hù)膜具有剝離部分和剩余部分；至少兩個處理機(jī)構(gòu)，所述至少兩個處理機(jī)構(gòu)用于形成處理區(qū)域，所述處理區(qū)域在已經(jīng)由網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)放出的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的保護(hù)膜內(nèi)，在剝離部分與剩余部分之間的相應(yīng)邊界位置可被橫向切斷；至少兩個剝離機(jī)構(gòu)，所述至少兩個剝離機(jī)構(gòu)用于將剝離部分從細(xì)長光敏性網(wǎng)膜中的每一個剝離，并留下所述剩余部分；基板供給機(jī)構(gòu)，所述基板供給機(jī)構(gòu)用于將已經(jīng)被加熱到預(yù)定溫度的基板供給到連接位置；連接機(jī)構(gòu)，所述連接機(jī)構(gòu)用于將所述剩余部分定位在所述基板之間，并將所述光敏性材料層的、剝離部分從其被剝離的至少兩個露出的區(qū)域，彼此平行地一體連接到在連接位置的所述基板上；至少兩個檢測機(jī)構(gòu)，所述至少兩個檢測機(jī)構(gòu)靠近連接位置設(shè)置，用于直接檢測所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的邊界位置，或檢測設(shè)置在細(xì)長光敏性網(wǎng)膜上的、與邊界位置相關(guān)的標(biāo)記；和控制機(jī)構(gòu)，所述控制機(jī)構(gòu)基于由所述檢測機(jī)構(gòu)檢測到的邊界位置信息，調(diào)整所述邊界位置與處在所述連接位置的所述基板的相對位置、和所述邊界位置自身的相對位置。
所述檢測機(jī)構(gòu)可優(yōu)選地設(shè)置在所述連接位置的上游并靠近所述連接位置，因為細(xì)長光敏性網(wǎng)膜和基板的相對位置可以簡單控制方式得到調(diào)整。
儲存機(jī)構(gòu)可優(yōu)選地設(shè)置在處理機(jī)構(gòu)與剝離機(jī)構(gòu)之間，用于改變細(xì)長光敏性網(wǎng)膜被供給的速度和狀態(tài)。因此，細(xì)長光敏性網(wǎng)膜通過處理機(jī)構(gòu)，被分別間歇地供給；且此后，通過儲存機(jī)構(gòu)分別連續(xù)地將所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜供給到相應(yīng)的剝離機(jī)構(gòu)內(nèi)并且隨后供給到那里。
而且，至少兩個張力控制機(jī)構(gòu)可優(yōu)選地設(shè)置在剝離機(jī)構(gòu)與連接機(jī)構(gòu)之間，用于將張力施加到細(xì)長光敏性網(wǎng)膜上。結(jié)果，細(xì)長光敏性網(wǎng)膜中的每一個可以被調(diào)整以便拉伸，這允許邊界部分被容易地調(diào)整為與連接位置對準(zhǔn)。
而且，所述切割機(jī)構(gòu)優(yōu)選地設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)的下游，并用于一起切斷在基板之間的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜。
至少兩個所述支撐剝離機(jī)構(gòu)優(yōu)選地設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)的下游，用于將支撐件從連接的基板中的每一個剝離。支撐件中的每一個在被切割到對應(yīng)于相應(yīng)基板的長度以后可以被自動地剝離，或可以連續(xù)地纏繞從而被自動地剝離。
所述連接機(jī)構(gòu)優(yōu)選地包括一對橡膠輥，所述橡膠輥被加熱到預(yù)定溫度；和輥夾緊單元，所述輥夾緊單元往復(fù)移動所述橡膠輥。所述輥夾緊單元優(yōu)選地包括柱體，所述柱體用于將夾緊壓力施加到橡膠輥中的一個上；和凸輪，所述凸輪可被致動器移動，以便往復(fù)移動所述柱體。
預(yù)加熱單元優(yōu)選地設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)的上游并靠近連接機(jī)構(gòu)，以便將細(xì)長光敏性網(wǎng)膜預(yù)加熱到預(yù)定溫度。
根據(jù)本發(fā)明，也提出了一種制造光敏性層壓體的方法，所述方法包括以下步驟同步放出細(xì)長光敏性網(wǎng)膜，所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜每一個包括支撐件、設(shè)置在支撐件上的光敏性材料層、和設(shè)置在光敏性材料層上的保護(hù)膜，所述保護(hù)膜具有剝離部分和剩余部分；形成處理區(qū)域，所述處理區(qū)域在已經(jīng)由網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)放出的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的保護(hù)膜內(nèi)、在剝離部分與所述剩余部分之間的相應(yīng)邊界位置可被橫向切斷；將剝離部分從細(xì)長光敏性網(wǎng)膜中的每一個剝離，并留下剩余部分；通過直接檢測細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的邊界位置，或檢測設(shè)置在細(xì)長光敏性網(wǎng)膜上的、與邊界位置相關(guān)的標(biāo)記，獲得邊界位置信息；將已經(jīng)加熱到預(yù)定溫度的基板供給到連接位置；基于獲得的邊界位置信息，調(diào)整邊界位置與在連接位置的基板的相對位置、和邊界位置自身的相對位置；和將剩余部分定位在基板之間，并將光敏性材料層的、剝離部分從其被剝離的至少兩個露出的區(qū)域，彼此平行地一體連接到在連接位置的基板上。
根據(jù)本發(fā)明，因為細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的邊界位置或設(shè)置在細(xì)長光敏性網(wǎng)膜上的、與邊界位置相關(guān)的標(biāo)記被直接檢測，所以邊界位置可以相對于連接位置高度精確地定位。當(dāng)邊界位置與在連接位置的基板的相對位置、和邊界位置自身的相對位置，基于獲得的邊界位置信息得到調(diào)整時，通過簡單的過程和布置，細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的光敏性材料層可以被彼此平行地精確地連接到基板的想要的區(qū)域上。
因此，彼此橫向間隔開的至少兩個光敏性材料層可以很好地轉(zhuǎn)移到寬的基板上，且可以高效地生產(chǎn)高質(zhì)量的光敏性層壓體。由于細(xì)長光敏性網(wǎng)膜不必寬且可以被容易地操作，所述制造方法可以被高效地執(zhí)行，并且可以降低制造設(shè)備的費(fèi)用。
通過下面結(jié)合附圖的描述，本發(fā)明的上面和其它目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)將變得更加明顯，在所述附圖中本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)施例通過示范性示例示出。附圖如下圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的制造設(shè)備的示意性側(cè)視圖；
圖2是使用在制造設(shè)備中的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的局部放大橫截面視圖；圖3是具有施加到其上的粘性標(biāo)簽的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜的局部俯視圖；圖4是制造設(shè)備的連接機(jī)構(gòu)的主視圖；圖5是膜供給輥和夾輥組的透視圖；圖6是通過制造設(shè)備的區(qū)域的局部橫截面視圖；圖7是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了制造設(shè)備的一部分的初始狀態(tài)；圖8是顯示保護(hù)膜從細(xì)長光敏性網(wǎng)膜剝離的方式的局部側(cè)視圖；圖9是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了玻璃基板進(jìn)入橡膠輥之間的方式；圖10是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了橡膠輥開始旋轉(zhuǎn)的方式；圖11是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了當(dāng)完成在第一玻璃基板上的層壓過程時制造設(shè)備的一部分的操作；圖12是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了橡膠輥和基板供給輥旋轉(zhuǎn)的方式；圖13是光敏性樹脂層轉(zhuǎn)移到其上的玻璃基板的局部橫截面視圖；圖14是是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了基板供給輥與連接的基板的端部間隔開的方式；圖15是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了細(xì)長光敏性網(wǎng)膜被供給到連接的基板之間的方式；圖16是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了制造設(shè)備的一部分的停止的狀態(tài)；圖17是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了制造設(shè)備的一部分的完成的狀態(tài)；圖18是制造設(shè)備的一部分的示意圖，并顯示了細(xì)長光敏性網(wǎng)膜將它們的前端設(shè)定在適當(dāng)位置的方式；圖19是顯示光敏性樹脂層相對于玻璃基板提升的方式的俯視圖；圖20是顯示光敏性樹脂層相對于玻璃基板伸展的方式的俯視圖；圖21是顯示光敏性樹脂層使它們的前端相對于玻璃基板處在不同位置的方式的俯視圖；圖22是顯示光敏性樹脂層相對于玻璃基板具有不同長度的方式的俯視圖；圖23是顯示光敏性樹脂層相對于玻璃基板具有不同長度且使它們的前端處在不同位置的方式的俯視圖；圖24是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的制造設(shè)備的示意性側(cè)視圖；圖25是顯示具有前述長度的光敏性樹脂層施加到玻璃基板上的方式的俯視圖；圖26是顯示比規(guī)定長度長的光敏性樹脂層施加到玻璃基板上的方式的俯視圖；圖27是顯示比規(guī)定長度短的光敏性樹脂層施加到玻璃基板上的方式的俯視圖；圖28是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的制造設(shè)備的示意性側(cè)視圖；圖29是根據(jù)第三實(shí)施例的制造設(shè)備的預(yù)剝離器的放大橫截面視圖；圖30是顯示預(yù)剝離器的操作方式的放大橫截面視圖；圖31是圖示施加到玻璃基板上的光敏性樹脂層的位置的檢測方式的視圖；和圖32是傳統(tǒng)膜施加設(shè)備的示意性側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
圖1以示意性側(cè)視圖的方式顯示了根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的制造光敏性層壓體(或稱為光敏性疊層體，光敏性分層體，或光敏性多層體)的設(shè)備20。在制造液晶或有機(jī)EL濾色器的過程中，所述制造設(shè)備20操作以便用熱的方法將彼此平行的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜22a、22b的各個光敏性樹脂層28(后面描述)轉(zhuǎn)移到玻璃基板24上。所述光敏性網(wǎng)膜22a、22b具有相應(yīng)的寬度，即例如細(xì)長光敏性網(wǎng)膜22a比光敏性網(wǎng)膜22b寬。
圖2以橫截面的形式顯示了使用在制造設(shè)備20中的光敏性網(wǎng)膜22a、22b中的每一個。光敏性網(wǎng)膜22a、22b中的每一個包括柔性基膜(支撐件)26、設(shè)置在柔性基膜26上的光敏性樹脂層(光敏性材料層)28、和設(shè)置在光敏性樹脂層28上的保護(hù)膜30的層壓組件。
如圖1中所示，制造設(shè)備20具有第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b；所述第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b用于容納卷著的光敏性網(wǎng)膜22a、22b形式的兩個(或更多)光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b，并用于從光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b同步地放出光敏性網(wǎng)膜22a、22b；第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b，所述第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b用于形成部分切割區(qū)域(處理區(qū)域)34，所述切割區(qū)域34位于從光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b放出的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的保護(hù)膜30內(nèi)的橫向可切割的邊界位置；和第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b，所述第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b用于將粘性標(biāo)簽38(見圖3)粘貼到保護(hù)膜30，所述粘性標(biāo)簽38每一個具有沒有粘附力的區(qū)域38a。
制造設(shè)備20在第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b的下游也具有第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b，所述第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b用于將光敏性網(wǎng)膜22a、22b的供給模式從間歇供給模式改變成連續(xù)供給模式；第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b，所述第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b用于從光敏性網(wǎng)膜22a、22b剝離預(yù)定長度的保護(hù)膜30；基板供給機(jī)構(gòu)45，所述基板供給機(jī)構(gòu)45用于將被加熱到預(yù)定溫度的玻璃基板24供給到連接位置；和連接機(jī)構(gòu)46，所述連接機(jī)構(gòu)46用于將光敏性樹脂層28彼此平行地一體連接到玻璃基板24上，所述光敏性樹脂層28已經(jīng)通過剝離保護(hù)膜30而露出。
用于直接檢測光敏性網(wǎng)膜22a、22b的邊界位置處的局部切割區(qū)域34的第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b，設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)46內(nèi)的連接位置的上游并靠近連接機(jī)構(gòu)46內(nèi)的連接位置?；彘g網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)46的下游，所述基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48用于在相鄰玻璃基板24之間一起切割光敏性網(wǎng)膜22a、22b。當(dāng)制造設(shè)備20開始和完成操作時使用的網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a設(shè)置在基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48的上游。
用于連接基本上已經(jīng)用完的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的尾端和將被新使用的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的前端的連接基部49，分別設(shè)置在第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b的下游或者靠近第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b。各個膜端位置檢測器51跟隨在連接基部49的下游，所述膜端位置檢測器51控制光敏性網(wǎng)膜22a、22b的、由于光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b的纏繞不規(guī)則導(dǎo)致的橫向位移。光敏性網(wǎng)膜22a、22b的膜端通過橫向移動第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b進(jìn)行位置調(diào)節(jié)。然而，光敏性網(wǎng)膜22a、22b的膜端可以由與輥組合的位置調(diào)整機(jī)構(gòu)進(jìn)行調(diào)整。第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b中的每一個可以包括具有兩個或三個展開軸的多軸機(jī)構(gòu)，所述多軸機(jī)構(gòu)支撐光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b中的一個并提供光敏性網(wǎng)膜22a、22b中的一個。
第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b設(shè)置在各個輥對50的下游，所述輥對50計算容納在相應(yīng)的第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b中的光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b的直徑。第一和第二處理結(jié)構(gòu)36a、36b具有相應(yīng)的單個圓刀片52，所述單個圓刀片52橫向移動橫過光敏性網(wǎng)膜22a、22b，以在光敏性網(wǎng)膜22a、22b上的給定位置形成光敏性網(wǎng)膜22a、22b內(nèi)的局部切割區(qū)域34。
如圖2中所示，局部切割區(qū)域34需要形成在至少保護(hù)膜30內(nèi)并橫過至少保護(hù)膜30。實(shí)際上，圓刀片52設(shè)定成切割深度足夠大以切割到光敏性樹脂層28或基膜26，以便可靠地切斷保護(hù)膜30。圓刀片52可以抵抗著旋轉(zhuǎn)固定，并橫向移動橫過光敏性網(wǎng)膜22a、22b以形成局部切割區(qū)域34，或可以在光敏性網(wǎng)膜22a、22b上沒有滑動地旋轉(zhuǎn)并橫向移動橫過光敏性網(wǎng)膜22a、22b、以形成局部切割區(qū)域34。圓刀片52可以例如用激光束或超聲切割器、刀片、或推進(jìn)刀片(Thompson刀片)替代。
第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b中的每一個可以包括兩個處理機(jī)構(gòu)，所述兩個處理機(jī)構(gòu)在箭頭A表示的光敏性網(wǎng)膜22a、22b供給的方向上以預(yù)定間隔設(shè)置，以便同時形成兩個局部切割區(qū)域34、且剩余部分30b位于兩個局部切割區(qū)域34之間。
形成在保護(hù)膜30內(nèi)的兩個接近地間隔開的局部切割區(qū)域34設(shè)定相鄰玻璃基板24之間隔開的間隔。例如，這些局部切割區(qū)域34在與玻璃基板24的各個邊緣向內(nèi)間隔開10mm的位置形成在保護(hù)膜30內(nèi)。當(dāng)光敏性樹脂層28在后面要描述的連接機(jī)構(gòu)46內(nèi)作為框架施加到玻璃基板24上時，保護(hù)膜30的、位于局部切割區(qū)域34之間并在玻璃基板24之間露出的部分起掩模的作用。
第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b供給粘性標(biāo)簽38，所述粘性標(biāo)簽38用于互連前剝離部分30aa和后剝離部分30ab，以便將保護(hù)模30的剩余部分30b留在玻璃基板24之間。如圖2中所示，將被最初剝離的前剝離部分30aa和將被隨后剝離的后剝離部分30ab位于剩余部分30b的相應(yīng)兩側(cè)。
如圖3中所示，粘性標(biāo)簽38中的每一個是矩形帶形狀并由與保護(hù)膜30相同的材料制成。粘性標(biāo)簽38中的每一個具有處于中心的、沒有粘附力(或具有輕微粘附力)的區(qū)域38a，所述沒有粘附力的區(qū)域38a沒有粘合劑；以及第一粘附區(qū)域38b和第二粘附區(qū)域38c，所述第一粘附區(qū)域38b和所述第二粘附區(qū)域38c分別設(shè)置在沒有粘附力的區(qū)域38a的背面(粘附側(cè))的縱向相對端，且第一粘附區(qū)域38b和所述第二粘附區(qū)域38c分別連接到前剝離部分30aa和后剝離部分30ab。
如圖1中所示，第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b中的每一個具有吸墊54a-54e，所述吸墊54a-54e用于以預(yù)定間隔施加最多5個膠粘標(biāo)簽38?？纱怪币苿右詮南旅娣謩e保持光敏性網(wǎng)膜22a、22b的支撐基部56，設(shè)置在粘性標(biāo)簽38通過吸墊54a-54e被施加到光敏性網(wǎng)膜22a、22b上的相應(yīng)位置。
第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b具有相應(yīng)的跳動輥60，所述跳動輥60可旋轉(zhuǎn)并可擺動以便吸收間歇供給模式與連接供給模式之間的速度差，在間歇供給模式中光敏性網(wǎng)膜22a、22b在第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b的上游供給，在連續(xù)供給模式中光敏性網(wǎng)膜22a、22b在第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b的下游供給。第二儲存機(jī)構(gòu)42b也具有跳動輥61，所述跳動輥61用于平衡光敏性網(wǎng)膜22a、22b從第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b行進(jìn)到連接機(jī)構(gòu)46的供給通路長度。
設(shè)置在相應(yīng)的第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b下游的第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b，具有相應(yīng)的吸鼓62，所述吸鼓62用于阻止被供給的光敏性網(wǎng)膜22a、22b經(jīng)受的張力的變化，以便因此當(dāng)光敏性網(wǎng)膜22a、22b隨后被層壓時穩(wěn)定光敏性網(wǎng)膜22a、22b的張力。第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b也具有相應(yīng)的剝離輥63，所述剝離輥63靠近吸鼓62設(shè)置。以尖銳的剝離角從光敏性網(wǎng)膜22a、22b剝離的保護(hù)膜30，除了剩余部分30b以外，被相應(yīng)的保護(hù)膜卷取單元64纏繞。
將張力施加到光敏性網(wǎng)膜22a、22b的第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b，分別設(shè)置在第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b的下游。第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b具有相應(yīng)的柱體68，所述柱體68可致動以角位移相應(yīng)的張力調(diào)節(jié)輥70，以便調(diào)整與張力調(diào)節(jié)輥70保持滾動接觸的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的張力。第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b可以僅在必要時采用，并可以被省去。
第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b具有相應(yīng)的例如激光傳感器、光敏器件等的光電傳感器72a、72b，所述光電傳感器用于直接檢測光敏性網(wǎng)膜22a、22b內(nèi)的，由于局部切割區(qū)域34內(nèi)的楔形凹槽、由保護(hù)膜30的不同厚度產(chǎn)生的梯階，或兩者的組合導(dǎo)致的變化。來自光電傳感器72a、72b的檢測到的信號被用作代表保護(hù)膜30內(nèi)的邊界位置的邊界位置信號。光電傳感器72a、72b以面向相應(yīng)的支撐輥73a、73b的關(guān)系設(shè)置?？蛇x地，代替光電傳感器72a、72b，可以采用非接觸式位移計或例如CCD照相機(jī)等的圖像檢查裝置。
被第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b檢測的局部切割區(qū)域34的位置數(shù)據(jù)可以被進(jìn)行統(tǒng)計處理，并被轉(zhuǎn)換成實(shí)時的圖像數(shù)據(jù)。當(dāng)由第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b檢測的位置數(shù)據(jù)顯示不適當(dāng)?shù)淖兓蚱x時，制造設(shè)備20可以產(chǎn)生警報。
制造設(shè)備20可以采用用于產(chǎn)生邊界位置信號的不同的系統(tǒng)。根據(jù)這種不同的系統(tǒng)，局部切割區(qū)域34不是被直接檢測，而是標(biāo)記被施加到光敏性網(wǎng)膜22a、22b上。例如，孔或凹部可以靠近在第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b附近的局部切割區(qū)域34形成在光敏性網(wǎng)膜22a、22b內(nèi)，或者光敏性網(wǎng)膜22a、22b可以被激光束或液體射流割開，或可以通過噴墨或打印機(jī)作標(biāo)記。在光敏性網(wǎng)膜22a、22b上的標(biāo)記被檢測，且檢測到的信號被用作邊界位置信號。
基板供給機(jī)構(gòu)45具有多個基板加熱單元(例如加熱器)74，所述基板加熱單元74被設(shè)置用于將玻璃基板24夾在中間并加熱玻璃基板24；和供給器76，所述供給器76在由箭頭C表示的方向上供給玻璃基板24。在基板加熱單元74內(nèi)的玻璃基板24的溫度一直受到監(jiān)視。當(dāng)玻璃基板24的監(jiān)視溫度變得異常時，供給器76被停止致動，警告被發(fā)出，且在隨后的過程中異常信息被發(fā)送以舍棄并卸下異常玻璃基板24，并且異常信息也用于質(zhì)量控制和生產(chǎn)管理。供給器76具有空氣浮動的板(沒有示出)，所述空氣浮動的板在箭頭C表示的方向上漂浮并供給玻璃基板24。代替地，供給器76可以包括用于供給玻璃基板24的輥式輸送器。
玻璃基板24的溫度應(yīng)該優(yōu)選地根據(jù)接觸處理(例如使用熱電偶)或非接觸處理，在基板加熱單元74內(nèi)被測量或在到達(dá)連接位置之前被直接測量。
存儲多個玻璃基板24的基板存儲框架71設(shè)置在基板加熱單元74的上游。存儲在基板存儲框架71內(nèi)的玻璃基板24被機(jī)器人75的手75a上的吸墊79一個接一個地吸取，從基板存儲框架71中取出，并被插入到基板加熱單元74內(nèi)。
基板加熱單元74的下游設(shè)置有停止器77，所述停止器77鄰接玻璃基板24的前端并保持玻璃基板24；和位置傳感器78，所述位置傳感器78檢測玻璃基板24前端的位置。在玻璃基板24到連接位置的途中，位置傳感器78檢測玻璃基板24前端的位置。在位置傳感器78已經(jīng)檢測到玻璃基板24前端的位置時，玻璃基板24被供給預(yù)定的距離并被定位在連接機(jī)構(gòu)46的橡膠輥80a、80b之間。優(yōu)選地，當(dāng)玻璃基板24開始供給時，多個位置傳感器78以預(yù)定間隔沿供給通路設(shè)置，以便監(jiān)視玻璃基板24到達(dá)位置傳感器78的相應(yīng)位置的時間，從而檢查由于玻璃基板24的滑動等導(dǎo)致的延遲。在圖1中，玻璃基板24被基板加熱單元加熱，同時玻璃基板24被供給。然而，玻璃基板24可以在批量加熱爐中加熱，并通過機(jī)器人供給。
連接機(jī)構(gòu)46具有可以被加熱到預(yù)定溫度的一對垂直間隔開的層壓橡膠輥80a、80b。連接機(jī)構(gòu)46也具有分別與橡膠輥80a、80b滾動接觸的一對支撐輥82a、82b。支撐輥82b通過輥夾緊單元83中的擠壓柱體84a、84b壓向橡膠輥80b。
如圖4中所示，輥夾緊單元83具有驅(qū)動電動機(jī)93，所述驅(qū)動電動機(jī)93具有連接到減速器93a的驅(qū)動軸，所述減速器93a具有驅(qū)動軸93b，驅(qū)動軸93b同軸連接到滾珠絲杠94。螺母95螺紋地套在滾珠絲杠94上并固定到滑動基部96。漸縮(或錐形)凸輪97a、97b在光敏性網(wǎng)膜22a、22b的橫向方向(用箭頭B示出)上固定地安裝到滑動基部96的相應(yīng)的相對端。漸縮凸輪97a、97b在箭頭B1表示的方向上逐漸變高。輥98a、98b放置在相應(yīng)的漸縮凸輪97a、97b上并被保持在擠壓柱體84a、84b的相應(yīng)的下端上。
如圖1中所示，防止接觸輥86可移動地設(shè)置在橡膠輥80a附近，以便防止光敏性網(wǎng)膜22a、22b接觸橡膠輥80a。將光敏性網(wǎng)膜22a、22b預(yù)加熱到預(yù)定溫度的預(yù)加熱單元87設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)46上游并靠近連接機(jī)構(gòu)46。預(yù)加熱單元87包括紅外線條帶加熱器或供熱裝置。
玻璃基板24沿著供給通路88通過基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48從連接機(jī)構(gòu)46供給，所述供給通路88在箭頭C表示的方向上延伸。供給通路88包括輥陣列，所述輥陣列包括膜供給輥90a、90b和基板供給輥92，且網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a置于膜供給輥90a、90b與基板供給輥92之間。橡膠輥80a、80b與基板供給輥92之間的距離等于或小于一個玻璃基板24的長度。
如圖5中所示，膜供給輥90a、90b是細(xì)長的并橫向橫過光敏性網(wǎng)膜22a、22b，所述光敏性網(wǎng)膜22a、22b彼此平行地從連接機(jī)構(gòu)46供給。膜供給輥90a、90b被驅(qū)動以彼此獨(dú)立地旋轉(zhuǎn)。膜供給輥90a、90b與相應(yīng)的夾輥組94a、94b相聯(lián)系。
夾輥組94a包括多個例如5個夾輥96a，所述夾輥96a以預(yù)定間隔沿膜供給輥90a即在箭頭D表示的方向上設(shè)置。通過相應(yīng)的柱體99a，夾輥96a可單獨(dú)地朝向或遠(yuǎn)離膜供給輥90a移動。相似地，夾輥組94b包括多個例如5個夾輥96b，所述夾輥96b以預(yù)定間隔沿膜供給輥90b即在箭頭D表示的方向上設(shè)置。通過相應(yīng)的柱體99b，夾輥96b可單獨(dú)地朝向或遠(yuǎn)離膜供給輥90b移動。
在制造設(shè)備20中，第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b，第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b，第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b，第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b，第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b，第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b，以及第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)46上方。相反，第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b，第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b，第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b，第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b，第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b，第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b，以及第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b，可以設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)46下方，從而光敏性網(wǎng)膜22a、22b可以被顛倒以致光敏性樹脂層28連接到玻璃基板24的下表面。可選地，制造設(shè)備20的所有機(jī)構(gòu)可以線性排列。
如圖1中所示，制造設(shè)備20整體被層壓過程控制器100控制。制造設(shè)備20也具有用于控制制造設(shè)備20的不同功能構(gòu)件的層壓控制器102、基板加熱控制器104等。這些控制器通過內(nèi)部處理網(wǎng)絡(luò)互連。層壓過程控制器100連接到裝有制造設(shè)備20的工廠的網(wǎng)絡(luò)，并基于來自工廠CPU(沒有示出)的指令信息(條件設(shè)定和生產(chǎn)信息)執(zhí)行用于生產(chǎn)的信息處理，例如生產(chǎn)管理和機(jī)構(gòu)操作管理。
基板加熱控制器104控制基板加熱單元74從上游過程接收玻璃基板24、并將接收的玻璃基板24加熱到想要的溫度；控制供給器76將加熱的玻璃基板24供給到連接機(jī)構(gòu)46；也控制有關(guān)玻璃基板24的信息的處理。
層壓控制器102用作過程控制器(process master)，用于控制制造設(shè)備20的功能構(gòu)件。層壓控制器102作為控制機(jī)構(gòu)操作，基于由第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b檢測的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34的位置信息，用于控制邊界位置和玻璃基板24的相對位置以及邊界位置自身在連接位置內(nèi)的相對位置。
制造設(shè)備20的安裝空間由隔壁110分成第一潔凈室112a和第二潔凈室112b。第一潔凈室112a在其內(nèi)容納第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b，第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b，第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b，第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b，第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b，以及第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b。第二潔凈室112b在其內(nèi)容納第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b以及在第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b之后的其它構(gòu)件。第一潔凈室112a和第二潔凈室112b通過貫穿區(qū)域114彼此連接。
如圖6中所示，貫穿區(qū)域114具有設(shè)置在第一潔凈室112a內(nèi)的除塵器115和設(shè)置在第二潔凈室112b內(nèi)的氣封器116。
除塵器115具有一對吸嘴117a，所述一對吸嘴117a設(shè)置成面向光敏性網(wǎng)膜22a、22b的相應(yīng)的相對表面；和一對噴嘴118，所述一對噴嘴118分別設(shè)置在吸嘴117a內(nèi)。噴嘴118將空氣噴射到光敏性網(wǎng)膜22a、22b以將灰塵顆粒從光敏性網(wǎng)膜22a、22b移除，且吸嘴117a吸入噴射的空氣和移除的灰塵顆粒。優(yōu)選地，來自噴嘴118的空氣可以是電中性(或抗靜電)空氣。
氣封器116具有一對吸嘴117b，所述一對吸嘴117b設(shè)置成面向光敏性網(wǎng)膜22a、22b的相應(yīng)的相對表面。吸嘴117b將空氣吸入以密封貫穿區(qū)域114。除塵器115和氣封器115可以變換位置，或多個除塵器115和多個氣封器116可以彼此組合。只有吸嘴117a，而不是噴嘴118可以設(shè)置成面向光敏性樹脂層28露出處的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的側(cè)面。
在制造設(shè)備20中，隔壁110防止來自連接機(jī)構(gòu)46的加熱的空氣熱影響光敏性網(wǎng)膜22a、22b，即使光敏性網(wǎng)膜22a、22b起皺、變形、熱收縮或拉伸。隔壁110將制造設(shè)備20的上區(qū)域即第一潔凈室112a(此處灰塵顆粒易于出現(xiàn)和降落)與制造設(shè)備20的下區(qū)域即第二潔凈室112b分開，從而保持連接機(jī)構(gòu)46特別清潔。理想的是，保持第二潔凈室112b內(nèi)的壓力高于第一潔凈室112a內(nèi)的壓力，從而防止灰塵顆粒從第一潔凈室112a流到第二潔凈室112b內(nèi)。
供給向下流的清潔空氣的氣源(沒有示出)設(shè)置在第二潔凈室112b的上部分內(nèi)。
下面描述實(shí)施根據(jù)本發(fā)明的制造方法的制造設(shè)備20的操作。
首先為了將光敏性網(wǎng)膜22a、22b的前端定位在適當(dāng)位置，光敏性網(wǎng)膜22a、22b從容納在第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b內(nèi)的相應(yīng)的光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b展開。光敏性網(wǎng)膜22a、22b通過第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b，第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b，第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b，第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b，和連接機(jī)構(gòu)46輸送到膜供給輥90a、90b。
如圖5中所示，夾輥組94a中的、位于較寬的光敏性網(wǎng)膜22a(離觀察者較近)上的三個夾輥96a被相應(yīng)的柱體99a朝向膜供給輥90a移位直到較寬的光敏性網(wǎng)膜22a被夾緊在三個夾輥96a與膜供給輥90a之間。
夾輥組94b中的、位于較窄的光敏性網(wǎng)膜22b(離觀察者較遠(yuǎn))上的兩個夾輥96b被相應(yīng)的柱體99b朝向膜供給輥90b移位直到較窄的光敏性網(wǎng)膜22b被夾緊在兩個夾輥96b與膜供給輥90b之間。
夾輥組94a的剩下兩個夾輥96a(離觀察者較遠(yuǎn))與膜供給輥90a間隔開，且夾輥組94b的剩下三個夾輥96b(離觀察者較近)與膜供給輥90b間隔開。
當(dāng)光敏性網(wǎng)膜22a的局部切割區(qū)域34被第一檢測機(jī)構(gòu)47a的光電傳感器72a檢測到時，膜供給輥90a基于來自光電傳感器72a的檢測到的信號旋轉(zhuǎn)。光敏性網(wǎng)膜22a馬上被將它夾在其間的膜供給輥90a與三個夾輥96a供給預(yù)定距離到連接位置。
當(dāng)光敏性網(wǎng)膜22b的局部切割區(qū)域34被第一檢測機(jī)構(gòu)47b的光電傳感器72b檢測到時，膜供給輥90b基于來自光電傳感器72b的檢測到的信號旋轉(zhuǎn)。光敏性網(wǎng)膜22b馬上被將它夾在其間的膜供給輥90b與兩個夾輥96b供給預(yù)定距離到連接位置。從而光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34現(xiàn)在位于連接位置。光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34可以在連接位置的下游被檢測，且光敏性網(wǎng)膜22a、22b可以停止在給定的位置。
在光敏性網(wǎng)膜22a、22b已經(jīng)被供給預(yù)定距離后，如圖7中所示，防止接觸輥86降低以防止光敏性網(wǎng)膜22a、22b接觸橡膠輥80a。玻璃基板24直接等候在連接位置之前。從而光敏性網(wǎng)膜22a、22b處于制造設(shè)備20的初始狀態(tài)。
下面描述層壓模式的制造設(shè)備20的功能構(gòu)件的操作。
如圖1中所示，在第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b中，圓刀片52橫向移動橫過光敏性網(wǎng)膜22a、22b以切入保護(hù)膜30、光敏性樹脂層28、和基膜26，從而形成局部切割區(qū)域34(見圖2)。然后，光敏性網(wǎng)膜22a、22b在由箭頭A(見圖1)表示的方向上再次供給對應(yīng)于保護(hù)膜30剩余部分30b的尺寸的距離，然后停止，從而其它局部切割區(qū)域34通過圓刀片52形成在其內(nèi)。如圖2中所示，前剝離部分30aa和后剝離部分30ab現(xiàn)在設(shè)置在光敏性網(wǎng)膜22a、22b中的每一個內(nèi)，且剩余部分30b置于前剝離部分30aa和后剝離部分30ab之間。
然后，光敏性網(wǎng)膜22a、22b供給到第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b，以將保護(hù)膜30的相應(yīng)的預(yù)定粘接區(qū)域放置在支撐基部56上。在第一和第二標(biāo)簽粘接機(jī)構(gòu)40a、40b中，預(yù)定數(shù)量的粘性標(biāo)簽38在吸力作用下被吸引，并被吸墊54b-54e保持，并且牢固地粘接到在保護(hù)膜30的剩余部分30b兩端的保護(hù)膜30的前剝離部分30aa和后剝離部分30ab(見圖3)。
具有5個粘接到其上粘性標(biāo)簽38的光敏性網(wǎng)膜22a、22b，例如，通過第一和第二儲存機(jī)構(gòu)42a、42b與供給的光敏性網(wǎng)膜22a、22b所經(jīng)受的張力變化隔離，然后被連續(xù)地供給到第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b。在第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b中，如圖8中所示，光敏性網(wǎng)膜22a、22b的基膜26被吸引到吸鼓62，且保護(hù)膜30從光敏性網(wǎng)膜22a、22b剝離，并留下剩余部分30b。保護(hù)膜30以尖銳的剝離角剝離，并被保護(hù)膜卷取單元64(見圖1)纏繞。優(yōu)選地，電中性空氣可以吹在被剝離的部分上。
此時，由于光敏性網(wǎng)膜22a、22b被吸鼓62牢固地保持，當(dāng)保護(hù)膜30從光敏性網(wǎng)膜22a、22b剝離時產(chǎn)生的震動沒有傳遞到吸鼓62下游的光敏性網(wǎng)膜22a、22b。結(jié)果，這種震動沒有傳遞到連接機(jī)構(gòu)46，因此玻璃基板24的層壓部分可以有效地防止形成帶條紋的缺陷區(qū)域。
在保護(hù)膜30已經(jīng)被第一和第二剝離機(jī)構(gòu)44a、44b從基膜26剝離并留下剩余部分30b之后，光敏性網(wǎng)膜22a、22b通過第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b調(diào)整張力，然后光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34被第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b的光電傳感器72a、72b檢測到。
基于局部切割區(qū)域34的檢測到的信息，膜供給輥90a、90b旋轉(zhuǎn)以將光敏性網(wǎng)膜22a、22b供給預(yù)定長度到達(dá)連接機(jī)構(gòu)46。此時，接觸防止輥86在對光敏性網(wǎng)膜22a、22b上方等待，且橡膠輥80b設(shè)置在光敏性網(wǎng)膜22a、22b下面。
如圖9中所示，被預(yù)加熱的第一玻璃基板24由基板供給機(jī)構(gòu)45供給到連接位置。玻璃基板24臨時位于橡膠輥80a、80b之間，并與光敏性網(wǎng)膜22a、22b的被連接的光敏性樹脂層28對準(zhǔn)，所述光敏性樹脂層28彼此平行。
然后，如圖4中所示，滾珠絲杠94被連接到驅(qū)動電動機(jī)93的減速器93a在一定方向上旋轉(zhuǎn)，并在箭頭B2表示的方向上與穿在滾珠絲杠94上的螺母95一起移動滑動基部96。因此，漸縮(或楔形)凸輪97a、97b的與輥98a、98b接觸的凸輪表面上升，這使得輥98a、98b向上移位。擠壓柱體84a、84b被提升，并將支撐輥82b和橡膠輥80b提升以將玻璃基板24以預(yù)定擠壓壓力夾在橡膠輥80a、80b之間。此時，擠壓壓力通過施加到擠壓柱體84a、84b的空氣壓力調(diào)整。橡膠輥80a旋轉(zhuǎn)以將平行的光敏性樹脂層28(被加熱熔化)傳遞即層壓到玻璃基板24上。
光敏性樹脂層28在下面條件下層壓到玻璃基板24上光敏性樹脂層28以從1.0m/分鐘至10m/分鐘范圍的速度供給，橡膠輥80a、80b具有從100℃至150℃范圍的溫度，且硬度在40至90的范圍內(nèi)，并施加從50N/cm2至400N/cm2范圍的壓力(線性壓力)。
如圖10中所示，當(dāng)玻璃基板24的前端到達(dá)膜供給輥90a、90b附近的位置時，夾輥96a、96b從膜供給輥90a、90b移開。當(dāng)在箭頭C表示的方向上突出到玻璃基板24前面的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的前端到達(dá)相對于網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a的預(yù)定位置時，網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a被致動，以如圖10中虛線所示地切斷光敏性網(wǎng)膜22a、22b的前端。除了切斷光敏性網(wǎng)膜22a、22b的前端時，操作終止時，和故障情況下切斷光敏性網(wǎng)膜22a、22b時，網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a返回到它的備用位置。制造設(shè)備20處于正常操作時將不使用網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a。
如圖11中所示，當(dāng)光敏性網(wǎng)膜22a、22b一直到它的尾端已經(jīng)被橡膠輥80a、80b層壓到玻璃基板24上時，橡膠輥80a停止旋轉(zhuǎn)，且具有層壓的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的玻璃基板24(也稱之為“連接的基板24a”)被基板供給輥92夾緊。
橡膠輥80b從橡膠輥80a縮回，松開夾緊的連接的基板24a。具體地，如圖4中所示，連接到驅(qū)動電動機(jī)93的減速器93a反轉(zhuǎn)，這使得滾珠絲杠94和螺母95在箭頭B1表示的方向上移動滑動基部96。因此，漸縮凸輪97a、97b的與輥98a、98b接觸的凸輪表面降低，這使得擠壓柱體84a、84b向下移位。支撐輥82b和橡膠輥80b降低，并松開連接的基板24a。
基板供給輥92然后開始旋轉(zhuǎn)以將連接的基板24a在箭頭C表示的方向上供給預(yù)定距離。將要被帶到兩個相鄰的玻璃基板24之間的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的位置現(xiàn)在移位到橡膠輥80a下方的位置。下一個玻璃基板24被基板供給機(jī)構(gòu)45朝向連接位置供給。當(dāng)下一個玻璃基板24的前端位于橡膠輥80a、90b之間時，橡膠輥80b提升，并將下一個玻璃基板24和光敏性網(wǎng)膜22a、22b夾緊在橡膠輥80a、80b之間。橡膠輥80a、80b和基板供給輥92旋轉(zhuǎn)以開始將光敏性網(wǎng)膜22a、22b層壓到玻璃基板24上并在箭頭C表示的方向上供給連接的基板24a(見圖12)。
此時，如圖13中所示，連接的基板24a的相對端覆蓋有相應(yīng)的剩余部分30b。因此，當(dāng)光敏性樹脂層28轉(zhuǎn)移到玻璃基板24時，橡膠輥80a、80b沒有被光敏性樹脂層28弄污。
如圖14中所示，當(dāng)?shù)谝贿B接的基板24a的尾端到達(dá)基板供給輥92時，基板供給輥92的上面一個提升以松開第一連接的基板24a，且基板供給輥92的下面一個和供給通路88的其它輥連續(xù)地旋轉(zhuǎn)以供給連接的基板24a。當(dāng)下一個例如第二連接的基板24a的尾端到達(dá)橡膠輥80a、80b附近的位置時，橡膠輥80a、80b和基板供給輥92停止旋轉(zhuǎn)?；骞┙o輥92的上面一個降低以夾緊第二連接的基板24a，且橡膠輥80b降低以松開第二連接的基板24a。然后，基板供給輥92旋轉(zhuǎn)以供給第二連接的基板24a。被帶到兩個相鄰玻璃基板24之間的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的位置現(xiàn)在移位到橡膠輥80a下方，且光敏性網(wǎng)膜22a、22b被重復(fù)地層壓到第三玻璃基板24上。
如圖15中所示，當(dāng)兩個相鄰的連接基板24a之間的位置到達(dá)對應(yīng)于基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48的位置時，在兩個光敏性網(wǎng)膜22a、22b以與連接的基板24a相同的速度在箭頭C表示的方向上移動的同時，基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48同時切斷在連接的基板24a之間的兩個光敏性網(wǎng)膜22a、22b。此后，基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48返回到備用位置，且基膜26和剩余部分30b從前面的連接的基板24a剝離，從而制造出光敏性層壓體106(見圖1)。
當(dāng)層壓過程臨時停止時，如圖16中所示，夾輥94a、94b和橡膠輥80b被帶到松開位置，且接觸防止輥86降低以防止兩個光敏性網(wǎng)膜22a、22b接觸橡膠輥80a。
當(dāng)制造設(shè)備20將被關(guān)掉時，基板供給輥92旋轉(zhuǎn)以在箭頭C表示的方向上供給連接的基板24a，且網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48夾緊光敏性網(wǎng)膜22a、22b。在旋轉(zhuǎn)的膜供給輥90a、90b夾緊光敏性網(wǎng)膜22a、22b的同時，網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a橫向移動橫過光敏性網(wǎng)膜22a、22b，并切斷光敏性網(wǎng)膜22a、22b。
結(jié)果，如圖17中所示，兩個光敏性網(wǎng)膜22a、22b通過橡膠輥80a、80b之間，并被膜供給輥90a、90b夾緊，且被降低的防止接觸輥86遠(yuǎn)離橡膠輥80a被支撐。網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a已經(jīng)放置在備用位置。
當(dāng)基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48和網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a切斷光敏性網(wǎng)膜22a、22b時，基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48和網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a與光敏性網(wǎng)膜22a、22b在箭頭C表示的方向上同步地移動。然而，基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48和網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a可以僅橫向移動橫過光敏性網(wǎng)膜22a、22b以切斷光敏性網(wǎng)膜22a、22b。光敏性網(wǎng)膜22a、22b可以在保持靜止的同時被Thompson blade切斷，或可以在運(yùn)動的同時被旋轉(zhuǎn)刀片切斷。
當(dāng)制造設(shè)備20在初始狀態(tài)操作時，如圖18中所示，接觸防止輥86設(shè)置在較下的位置，且橡膠輥80b與橡膠輥80a隔開。然后，膜供給輥90a旋轉(zhuǎn)以將光敏性網(wǎng)膜22a、22b排出到網(wǎng)膜排出容器(沒有示出)。此時，光敏性網(wǎng)膜22a、22b被網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a剪斷成一定長度。
當(dāng)?shù)谝缓偷诙z測機(jī)構(gòu)47a、47b檢測光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34時，光敏性網(wǎng)膜22a、22b從檢測位置供給了預(yù)定長度。具體地，當(dāng)接觸防止輥86提升時，光敏性網(wǎng)膜22a、22b被供給直到局部切割區(qū)域34到達(dá)光敏性網(wǎng)膜22a、22b將被橡膠輥80a、80b層壓的位置。光敏性網(wǎng)膜22a、22b的前端現(xiàn)在位于適當(dāng)?shù)奈恢谩?br>
在第一實(shí)施例中，光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34，被在連接機(jī)構(gòu)46上方、并靠近連接機(jī)構(gòu)46的相應(yīng)的第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b直接檢測。從第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b到局部切割區(qū)域34被橡膠輥80a、80b停止的位置的距離，需要小于將被層壓的光敏性網(wǎng)膜22a、22b的最小長度。這是因為檢測的局部切割區(qū)域34的信息通過反饋用于下一個層壓過程。
第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b執(zhí)行如下所述的兩個測量過程。根據(jù)第一測量過程，橡膠輥80a、80b夾緊玻璃基板24，且由與旋轉(zhuǎn)橡膠輥80a、80b的驅(qū)動電動機(jī)(沒有示出)組合的編碼器產(chǎn)生的脈沖數(shù)量(所述脈沖數(shù)量代表玻璃基板24從橡膠輥80a、80b開始旋轉(zhuǎn)起被供給的距離)，與當(dāng)相應(yīng)的局部切割區(qū)域34將被第一和第二檢測機(jī)構(gòu)47a、47b檢測時產(chǎn)生的預(yù)設(shè)脈沖數(shù)量相比較，從而測量局部切割區(qū)域34的位移。如果光敏性網(wǎng)膜22a、22b中每一個的局部切割區(qū)域34在預(yù)設(shè)脈沖數(shù)量到達(dá)之前被檢測到，那么局部切割區(qū)域34被判斷為比玻璃基板24上的預(yù)定位置超前移位了由脈沖數(shù)量之間的差別表示的距離。相反，如果光敏性網(wǎng)膜22a、22b中每一個的局部切割區(qū)域34在預(yù)設(shè)脈沖數(shù)量到達(dá)之后被檢測到，那么局部切割區(qū)域34被判斷為移位落后于玻璃基板24上的預(yù)定位置。
根據(jù)第二測量過程，由與旋轉(zhuǎn)橡膠輥80a、80b的驅(qū)動電動機(jī)(沒有示出)組合的編碼器產(chǎn)生的脈沖數(shù)量，從局部切割區(qū)域34的檢測到下一個局部切割區(qū)域34的檢測進(jìn)行測量，從而測量光敏性網(wǎng)膜22a、22b中每一個的層壓長度。光敏性網(wǎng)膜22a、22b中的每一個在正常條件下的對應(yīng)于層壓長度的脈沖的預(yù)設(shè)數(shù)量，與實(shí)際測量的脈沖數(shù)量進(jìn)行比較。如果實(shí)際測量的脈沖數(shù)量大于預(yù)設(shè)脈沖數(shù)量，那么光敏性網(wǎng)膜22a、22b被判斷為由于熱等被拉伸了由脈沖數(shù)量之間的差別所表示的距離。如果實(shí)際測量的脈沖數(shù)量小于預(yù)設(shè)脈沖數(shù)量，那么光敏性網(wǎng)膜22a、22b被判斷為變短。
如果根據(jù)第一測量過程，光敏性樹脂層28的前端被檢測為相對于玻璃基板24的連接范圍P1-P2移位(前進(jìn))相等距離或大體上相等距離，如圖19中所示，那么玻璃基板24和光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34的相對位置得到調(diào)整。
具體地，如果被光電傳感器72a、72b檢測的局部切割區(qū)域34被檢測為從預(yù)定位置超前，那么如圖11中所示，在層壓之后，基板供給輥92將光敏性網(wǎng)膜22a、22b的沒有連接的部分供給由預(yù)設(shè)距離與超前距離之間的差別代表的距離。結(jié)果，局部切割區(qū)域34位置得到調(diào)整并被放置在橡膠輥80a、80b之間的預(yù)定位置。此后，玻璃基板24在正常傳遞控制下在橡膠輥80a、80b之間被傳遞，且光敏性樹脂層28在正常位置連接到玻璃基板24，即在玻璃基板24的連接范圍P1-P2內(nèi)。
如果由光電傳感器72a、72b檢測的局部切割區(qū)域34被檢測為從玻璃基板24的連接范圍P1-P2延遲，那么在層壓之后，基板供給輥92將光敏性網(wǎng)膜22a、22b的沒有連接的部分供給由預(yù)設(shè)距離與延遲的距離的和代表的距離。結(jié)果，局部切割區(qū)域34位置得到調(diào)整并被放置在橡膠輥80a、80b之間的預(yù)定位置。此后，玻璃基板24在正常傳遞控制下在橡膠輥80a、80b之間被傳遞，且光敏性樹脂層28在正常位置連接到玻璃基板24，即在玻璃基板24的連接范圍P1-P2內(nèi)。
基板供給機(jī)構(gòu)45可以被控制以調(diào)整玻璃基板24要停止的位置(調(diào)整量為超前的距離或延遲的距離)，而不是調(diào)整連接的基板24a被基板供給輥92供給的距離。
根據(jù)第二測量過程測量被光電傳感器72a、72b檢測的局部切割區(qū)域34之間的距離，即將被連接到玻璃基板24的光敏性樹脂層28的長度H。如果長度H大于連接的范圍P1-P2相等的長度或大體上相等的長度(見圖20)，那么，局部切割區(qū)域34的位置被第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b改變成局部切割區(qū)域34之間的距離即長度H減少了所述差值。如果長度H小于連接的范圍P1一P2，那么，局部切割區(qū)域34的位置被第一和第二處理機(jī)構(gòu)36a、36b改變成局部切割區(qū)域34之間的距離即長度H增加了所述差值。如此，光敏性樹脂層28的連接的長度被調(diào)整到預(yù)定長度。
利用第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b的張力調(diào)節(jié)輥70，通過調(diào)整光敏性網(wǎng)膜22a、22b的張力，也可以改變光敏性網(wǎng)膜22a、22b的拉伸量。
如果根據(jù)第一測量過程，光敏性樹脂層28的前端被判斷為從玻璃基板24的連接的范圍P1-P2移位，如圖21中所示，那么玻璃基板24在光敏性網(wǎng)膜22a、22b已經(jīng)被層壓到玻璃基板24上之后立即從橡膠輥80a、80b松開，然后，基板供給輥92供給連接的基板24a以便將光敏性網(wǎng)膜22a、22b供給到光敏性網(wǎng)膜22a、22b可以被切斷的位置。在光敏性網(wǎng)膜22a、22b被切斷以后，光敏性網(wǎng)膜22a、22b使用相應(yīng)的膜供給輥90a、90b定位。
將被連接到玻璃基板24的光敏性樹脂層28通過在位置上調(diào)整光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34中的一個或兩個進(jìn)行位置上的調(diào)整。此時，玻璃基板24和光敏性樹脂層28的相對位置可以設(shè)定成，將連接的范圍P1-P2定位成在箭頭C表示的方向上與光敏性樹脂層28的移位的中間位置對準(zhǔn)直到移位得到糾正。所述相對位置可以在層壓之后通過調(diào)整基板供給輥92對光敏性網(wǎng)膜22a或22b的沒有連接的部分的供給進(jìn)行設(shè)定，或在基板供給機(jī)構(gòu)45的控制下通過調(diào)整玻璃基板24的停止位置進(jìn)行設(shè)定。
如果根據(jù)第二測量過程，光敏性網(wǎng)膜22a的光敏性樹脂層28的長度和光敏性網(wǎng)膜22b的光敏性樹脂層28的長度被調(diào)整為彼此不同，如圖22中所示，那么可以調(diào)整光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34中的一個或兩個的位置?？蛇x地，光敏性網(wǎng)膜22a、22b的張力可以通過第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b調(diào)整，而不是調(diào)整局部切割區(qū)域34中的一個或兩個的位置。
如果根據(jù)第一和第二測量過程，光敏性樹脂層28的前端的長度和位置被調(diào)整為彼此不同，如圖23中所示，那么連接的基板24a在光敏性網(wǎng)膜22a、22b已經(jīng)被層壓之后立即從橡膠輥80a、80b松開，并在此后供給到光敏性網(wǎng)膜22a、22b可以被切斷的位置。在光敏性網(wǎng)膜22a、22b已經(jīng)被切斷以后，光敏性網(wǎng)膜22a、22b通過膜供給輥90a、90b位置上對準(zhǔn)。光敏性樹脂層28的長度也可以通過調(diào)整光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34中的一個或兩個的位置，或通過利用第一和第二張力控制機(jī)構(gòu)66a、66b調(diào)整光敏性網(wǎng)膜22a、22b的張力進(jìn)行平衡。
光敏性網(wǎng)膜22a、22b的橫向位置可以通過膜端部位置檢測器51和膜端部位置調(diào)整機(jī)構(gòu)(沒有示出)進(jìn)行控制。玻璃基板24的橫向位置可以通過橫向位置調(diào)整機(jī)構(gòu)(沒有示出)得到糾正，所述橫向位置調(diào)整機(jī)構(gòu)直接設(shè)置在連接位置之前。
結(jié)果，光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34可以相對于連接位置高精度地定位，這允許光敏性網(wǎng)膜22a、22b的光敏性樹脂層28在玻璃基板24想要的區(qū)域內(nèi)彼此平行地精確連接。由此可以通過簡單的過程和布置高效地制造高質(zhì)量的光敏性層壓體106。
根據(jù)第一實(shí)施例，因為彼此橫向間隔開的兩個光敏性樹脂層28可以很好地轉(zhuǎn)移到寬的玻璃基板24上，所以光敏性網(wǎng)膜22a、22b本身不必寬。因此，光敏性網(wǎng)膜22a、22b可以被更加容易地處理，從而整個制造過程可以被高效地執(zhí)行，且可以容易地降低制造設(shè)備的費(fèi)用。
圖24以側(cè)視圖示意性顯示了根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的制造設(shè)備120。根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的制造設(shè)備120的、與根據(jù)第一實(shí)施例的制造設(shè)備20的那些部分相同的那些部分用相同的附圖標(biāo)記表示，且沒有在下面詳細(xì)描述。
如圖24中所示，制造設(shè)備120具有第一和第二檢測機(jī)構(gòu)121a、121b，設(shè)置在基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48的下游的冷卻機(jī)構(gòu)122，和設(shè)置在冷卻機(jī)構(gòu)122下游的基部剝離機(jī)構(gòu)124。第一和第二檢測機(jī)構(gòu)121a、121b分別具有光電傳感器123a、123b和光電傳感器123c、123d，所述光電傳感器123a、123b和光電傳感器123c、123d彼此間隔開預(yù)定距離L、并設(shè)置成分別面向支撐輥73a、73c和支撐輥73b、73d。
在光敏性網(wǎng)膜22a、22b在連接的基板24a與后繼連接的基板24a之間被基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48切斷之后，冷卻機(jī)構(gòu)122將冷空氣供給到連接的基板24a以冷卻連接的基板24a。具體地，冷卻機(jī)構(gòu)122以1.0-2.0m/分鐘流速供給10℃的冷空氣。
設(shè)置在冷卻機(jī)構(gòu)122下游的基部剝離機(jī)構(gòu)124具有多個吸墊126，所述吸墊126用于吸引連接的基板24a的下表面。在連接的基板24a被吸墊126在吸力作用下吸引的同時，基膜26和剩余部分30b被機(jī)器人128從連接的基板24a剝離。將離子空氣噴射到連接的基板24a的四面的電中性鼓風(fēng)機(jī)(沒有示出)設(shè)置在吸墊126的上游、下游、和側(cè)面。基膜26和剩余部分30b可以從連接的基板24a剝離，同時將連接的基板24a支撐在其上的工作臺被垂直、傾斜定向，或被顛倒，以便移除灰塵。
存儲多個光敏性層壓體106的光敏性層壓體存儲框132在基部剝離機(jī)構(gòu)124的下游。當(dāng)基膜26和剩余部分30b被基部剝離機(jī)構(gòu)124從連接的基板24a剝離時生產(chǎn)的光敏性層壓體106，被機(jī)器人134的手134a上的吸墊136吸引，從基部剝離機(jī)構(gòu)124去掉，并放入到光敏性層壓體存儲框132內(nèi)。
層壓過程控制器100連接有層壓控制器102、基板加熱控制器104、以及基板剝離控制器138?；鍎冸x控制器138控制基板剝離機(jī)構(gòu)124將基膜26從供給自連接機(jī)構(gòu)46的連接的基板24a剝離，并將光敏性層壓體106排出到下游過程?；縿冸x控制器138也處理關(guān)于連接的基板24a和光敏性層壓體106的信息。
在根據(jù)第二實(shí)施例的第一和第二檢測機(jī)構(gòu)121a、121b中，位于光電傳感器123b、123d上游的光電傳感器123a、123c首先檢測光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34。此后，下游光電傳感器123b、123d檢測光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34。支撐輥73a、73c與支撐輥73b、73d之間的距離對應(yīng)于施加到玻璃基板24的光敏性樹脂層28中每一個的長度。
通過上游光電傳感器123a、123c檢測到光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34的時間與下游光電傳感器123b、123d檢測到光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34的時間之間的差，可以精確計算光敏性樹脂層28實(shí)際施加的長度?；谟嬎愠龅墓饷粜詷渲瑢?8的實(shí)際施加長度，光敏性網(wǎng)膜22a、22b供給的速度被調(diào)整以將光敏性樹脂層28居中地施加到玻璃基板24上。
因此，根據(jù)第二實(shí)施例，光敏性網(wǎng)膜22a、22b的局部切割區(qū)域34之間的距離，即施加到玻璃基板24的光敏性樹脂層28中每一個的長度H被精確地檢測以便將光敏性樹脂層28居中地施加到玻璃基板24上(見圖25)。
如果光敏性樹脂層28中每一個的、由第一和第二檢測機(jī)構(gòu)121a、121b檢測的長度H1大于正常長度H，如圖26中所示，那么光敏性樹脂層28被居中施加到玻璃基板24上，從而光敏性樹脂層28的相對端與施加的長度L向外間隔開相等的距離。
如果光敏性樹脂層28中每一個的、由第一和第二檢測機(jī)構(gòu)121a、121b檢測的長度H2小于正常長度H，如圖27中所示，那么光敏性樹脂層28被居中施加到玻璃基板24上，從而光敏性樹脂層28的相對端與施加的長度L向內(nèi)間隔開相等的距離。在此情況下，光敏性樹脂層28的被施加部分的目標(biāo)位移是在光敏性樹脂層28的相對端沒有與施加長度L的端部向內(nèi)間隔開相等距離的情況下出現(xiàn)的位移的大約二分之一。
而且，根據(jù)第二實(shí)施例，局部切割區(qū)域34形成在從第一和第二放出機(jī)構(gòu)32a、32b展開的光敏性網(wǎng)膜22a、22b內(nèi)，然后保護(hù)膜30被剝離，留下剩余部分30b，此后光敏性網(wǎng)膜22a、22b層壓到玻璃基板24上以轉(zhuǎn)移光敏性樹脂層28，并且然后基膜26和剩余部分30b被基部剝離機(jī)構(gòu)124剝離，從而制造出光敏性層壓體106。光敏性層壓體106可以被容易地自動制造。
圖28以側(cè)視圖示意性顯示了根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的制造設(shè)備140。根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的制造設(shè)備140的、與根據(jù)第一實(shí)施例的制造設(shè)備20的那些部分相同的那些部分用相同的附圖標(biāo)記表示，且沒有在下面詳細(xì)描述。
制造設(shè)備140包括基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48，所述基板間網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48通常不使用，除了在故障和將光敏性網(wǎng)膜22a、22b分開以排出缺陷部分的情況下切斷光敏性網(wǎng)膜22a、22b。制造設(shè)備140具有設(shè)置在網(wǎng)膜切割機(jī)構(gòu)48a下游的冷卻機(jī)構(gòu)122和自動基部剝離機(jī)構(gòu)142。自動基部剝離機(jī)構(gòu)142用于剝離細(xì)長的基膜26，間隔開給定間距的玻璃基板24通過所述基膜26連接在一起。
如圖29和30中所示，預(yù)剝離器144具有一對壓輥組件152、154，和剝離桿156。壓輥組件152、154在玻璃基板24供給的方向上可朝向彼此或遠(yuǎn)離彼此移動。壓輥組件152、154具有可垂直移動的上輥152a、154a和下輥152b、154b。當(dāng)上輥152a、154a降低時，上輥152a、154a和下輥152b、154b將玻璃基板24緊夾在上輥152a、154a與下輥152b、154b之間。剝離桿156在相鄰的玻璃基板24之間可垂直移動。上輥152a、154a可以被壓桿或壓銷代替。
光敏性網(wǎng)膜22a、22b通過剝離輥146或直接在剝離輥146之前的位置再次加熱到30℃至120℃范圍內(nèi)的溫度。當(dāng)光敏性網(wǎng)膜22a、22b由此被再次加熱時，當(dāng)基膜26被剝離時彩色材料層被防止從光敏性網(wǎng)膜22a、22b剝離，從而在玻璃基板24上可以生產(chǎn)出高質(zhì)量的層壓表面。
測量光敏性樹脂層28的、實(shí)際連接到玻璃基板24上的面積的測量單元158跟隨在自動基部剝離機(jī)構(gòu)142的下游。測量單元158具有多個間隔開的照相機(jī)160，每一個照相機(jī)160包括CCD等。如圖31中所示，測量單元158具有四個照相機(jī)160，例如照相機(jī)160用于捕獲玻璃基板24(光敏性樹脂層28連接到其上)的四個角K1至K4的圖像?？蛇x地，測量單元158可以具有至少兩個照相機(jī)，用于捕獲玻璃基板24的縱向側(cè)和橫向側(cè)中每一個的圖像，而不是玻璃基板24的四個角K1至K4的圖像。
測量單元158可以包括顏色傳感器或激光傳感器，用于檢測玻璃基板24的端面，或可以包括LED傳感器、光電二極管傳感器、或線傳感器的組合，用于檢測玻璃基板24的端面。這些傳感器中的至少兩個應(yīng)該理想地被實(shí)施用于捕獲端面中的每一個的圖像，以便檢測端面中每一個的線性度。
表面檢查單元(沒有示出)可以被采用用于檢測光敏性層壓體106的表面缺陷，例如由光敏性網(wǎng)膜22a、22b自身引起的表面不規(guī)則，制造設(shè)備、皺紋、條紋形式、灰塵顆粒、和其它雜質(zhì)引起的層壓膜密度不均勻。當(dāng)這樣的表面缺陷被檢測到時，制造設(shè)備140發(fā)出警報，排出缺陷產(chǎn)品，并基于檢測到的表面缺陷管理隨后的過程。
根據(jù)第三實(shí)施例，光敏性網(wǎng)膜22a、22b層壓到其上的連接的基板24a被冷卻機(jī)構(gòu)122冷卻，然后傳遞到預(yù)剝離器144。在預(yù)剝離器144處，壓輥組件152、154緊夾兩個相鄰玻璃基板24的尾端和前端，且壓輥組件152在箭頭C表示的方向上以與玻璃基板24相同的速度移動，并且壓輥組件154在箭頭C表示的方向上在它的行進(jìn)中減速。
結(jié)果，如圖30中所示，玻璃基板24之間的光敏性網(wǎng)膜22a、22b在壓輥組件152、154之間彎曲。然后，剝離桿156提升以向上推光敏性網(wǎng)膜22a、22b，并將保護(hù)膜30從兩個相鄰玻璃基板24的尾端和前端剝離。
在自動基部剝離機(jī)構(gòu)142中，卷取輥148旋轉(zhuǎn)以連續(xù)從連接的基板24a纏繞基膜26。在光敏性網(wǎng)膜22a、22b在故障和被分開以排出缺陷部分的情況下被切斷之后，光敏性網(wǎng)膜22a、22b開始層壓到其上的連接的基板24a的、基膜26的前端，和基膜26的纏繞在卷取輥148上的尾端通過自動連接單元150彼此自動連接。
基膜26從其上剝離的玻璃基板24放置在組合有測量單元158的檢查站內(nèi)。在檢查站內(nèi)，玻璃基板24固定在適當(dāng)?shù)奈恢?，且四個照相機(jī)160捕獲玻璃基板24和光敏性樹脂層28的圖像。捕獲的圖像被處理以確定施加的位置a至d。
在檢查站中，玻璃基板24可以沒有停止地向前供給，且玻璃基板24的橫向端可以通過照相機(jī)或圖像掃描被檢測，玻璃基板24的縱向端可以通過計時傳感器被檢測。然后，基于由照相機(jī)或圖像掃描和傳感器產(chǎn)生的檢測的數(shù)據(jù)可以測量玻璃基板24。
根據(jù)第三實(shí)施例，在光敏性網(wǎng)膜22a、22b已經(jīng)層壓到玻璃基板24上后，兩個相鄰連接的基板24a之間的光敏性網(wǎng)膜22a、22b沒有被切斷。相反，當(dāng)連接的基板24a被剝離輥146擠壓時，基膜26連續(xù)地從連接的基板24a剝離并被圍繞旋轉(zhuǎn)的卷取輥148纏繞。
根據(jù)第三實(shí)施例，實(shí)現(xiàn)了與第二實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)相同的優(yōu)點(diǎn)，例如光敏性層壓體106可以被自動和高效地制造。而且，制造設(shè)備140結(jié)構(gòu)簡單。在第二和第三實(shí)施例中，兩個光敏性網(wǎng)膜卷23a、23b被采用。然而，根據(jù)第二和第三實(shí)施例的制造設(shè)備可以采用三個或更多光敏性網(wǎng)膜卷。
盡管已經(jīng)詳細(xì)示出和描述了本發(fā)明的一些優(yōu)選實(shí)施例，但是應(yīng)該理解的是，在不偏離權(quán)利要求的保護(hù)范圍的情況下可以對本發(fā)明做出各種改變和修改。
權(quán)利要求
1.一種制造光敏性層壓體的設(shè)備，包括至少兩個網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)(32a、32b)，所述網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)(32a、32b)用于同步地放出細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)，所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)每一個包括支撐件(26)、設(shè)置在所述支撐件(26)上的光敏性材料層(28)、和設(shè)置在所述光敏性材料層(28)上的保護(hù)膜(30)，所述保護(hù)膜(30)具有剝離部分(30aa)和剩余部分(30b)；至少兩個處理機(jī)構(gòu)(36a、36b)，所述至少兩個處理機(jī)構(gòu)(36a、36b)用于形成處理區(qū)域(34)，所述處理區(qū)域(34)在已經(jīng)由所述網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)(32a、32b)放出的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)的保護(hù)膜(30)內(nèi)、在所述剝離部分(30aa)與所述剩余部分(30b)之間的相應(yīng)邊界位置能夠被橫向切斷；至少兩個剝離機(jī)構(gòu)(44a、44b)，所述至少兩個剝離機(jī)構(gòu)(44a、44b)用于將所述剝離部分(30aa)從所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)中的每一個剝離，并留下所述剩余部分(30b)；基板供給機(jī)構(gòu)(45)，所述基板供給機(jī)構(gòu)(45)用于將已經(jīng)被加熱到預(yù)定溫度的基板(24)供給到連接位置；連接機(jī)構(gòu)(46)，所述連接機(jī)構(gòu)(46)用于將所述剩余部分(30b)定位在所述基板(24)之間，并將所述光敏性材料層(28)的、所述剝離部分(30aa)從它們被剝離的至少兩個露出的區(qū)域，彼此平行地一體連接到處在所述連接位置的所述基板(24)，以便生產(chǎn)出連接的基板(24a)；至少兩個檢測機(jī)構(gòu)(47a、47b)，所述至少兩個檢測機(jī)構(gòu)(47a、47b)靠近所述連接位置設(shè)置，用于直接檢測所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)的所述邊界位置，或檢測設(shè)置在所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)上的、與所述邊界位置相關(guān)聯(lián)的標(biāo)記；和控制機(jī)構(gòu)(102)，所述控制機(jī)構(gòu)(102)基于由所述檢測機(jī)構(gòu)(47a、47b)檢測到的邊界位置信息，調(diào)整所述邊界位置與處在所述連接位置的所述基板(24)的相對位置、和所述邊界位置自身的相對位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述檢測機(jī)構(gòu)(47a、47b)設(shè)置在所述連接位置的上游并靠近所述連接位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括儲存機(jī)構(gòu)(42a、42b)，所述儲存機(jī)構(gòu)(42a、42b)設(shè)置在所述處理機(jī)構(gòu)(36a、36b)與所述剝離機(jī)構(gòu)(44a、44b)之間，用于改變供給所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)的速度和狀態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括至少兩個張力控制機(jī)構(gòu)(66a、66b)，所述至少兩個張力控制機(jī)構(gòu)(66a、66b)設(shè)置在所述剝離機(jī)構(gòu)(44a、44b)與所述連接機(jī)構(gòu)(46)之間，用于將張力施加到所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)上。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括切割機(jī)構(gòu)(48)，所述切割機(jī)構(gòu)(48)設(shè)置在所述連接機(jī)構(gòu)(46)的下游，用于一起切斷所述基板(24)之間的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括至少兩個支撐剝離機(jī)構(gòu)(124)，所述至少兩個支撐剝離機(jī)構(gòu)(124)設(shè)置在所述連接機(jī)構(gòu)(46)的下游，用于從所述連接的基板(24a)中的每一個剝離所述支撐件(26)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述連接機(jī)構(gòu)(46)包括一對橡膠輥(80a、80b)，所述一對橡膠輥(80a、80b)被加熱到預(yù)定溫度；和輥夾緊單元(83)，所述輥夾緊單元(83)往復(fù)移動所述橡膠輥中的一個(80b)，所述輥夾緊單元(83)包括柱體(84a)，所述柱體(84a)用于將夾緊壓力施加到所述橡膠輥中的所述一個(80b)上；和凸輪(97a)，所述凸輪(97a)能夠被致動器(93)移動，以便往復(fù)移動所述柱體(84a)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，進(jìn)一步包括預(yù)加熱單元(87)，所述預(yù)加熱單元(87)設(shè)置在所述連接機(jī)構(gòu)(46)的上游并靠近所述連接機(jī)構(gòu)(46)，以便將所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)預(yù)加熱到預(yù)定溫度。
9.一種制造光敏性層壓體的方法，所述方法包括以下步驟同步地放出細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)，所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)每一個包括支撐件(26)、設(shè)置在所述支撐件(26)上的光敏性材料層(28)、和設(shè)置在所述光敏性材料層(28)上的保護(hù)膜(30)，所述保護(hù)膜(30)具有剝離部分(30aa)和剩余部分(30b)；形成處理區(qū)域(34)，所述處理區(qū)域(34)在已經(jīng)由所述網(wǎng)膜放出機(jī)構(gòu)(32a、32b)放出的細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)的保護(hù)膜(30)內(nèi)、在所述剝離部分(30aa)與所述剩余部分(30b)之間的相應(yīng)邊界位置能夠被橫向切斷；從所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)中的每一個剝離所述剝離部分(30aa)，并留下所述剩余部分(30b)；通過直接檢測所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)的所述邊界位置，或檢測設(shè)置在所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)上的、與所述邊界位置相關(guān)聯(lián)的標(biāo)記，獲得邊界位置信息；將已經(jīng)被加熱到預(yù)定溫度的基板(24)供給到連接位置；基于獲得的邊界位置信息，調(diào)整所述邊界位置與處在所述連接位置的所述基板(24)的相對位置、和所述邊界位置自身的相對位置；和將所述剩余部分(30b)定位在所述基板(24)之間，并將所述光敏性材料層(28)的、所述剝離部分(30aa)從它們被剝離的至少兩個露出的區(qū)域，彼此平行地一體連接到處在所述連接位置的所述基板(24)，以便生產(chǎn)出連接的基板(24a)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其中所述邊界位置信息在所述連接位置的上游并靠近所述連接位置獲得。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，進(jìn)一步包括下面的步驟通過所述處理機(jī)構(gòu)(36a、36b)，分別間歇地供給所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)；和此后，通過儲存機(jī)構(gòu)(42a、42b)分別連續(xù)地將所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)供給到相應(yīng)的剝離機(jī)構(gòu)(44a、44b)內(nèi)并且隨后供給到那里。
12.根據(jù)權(quán)利要求9-11中任一項所述的方法，進(jìn)一步包括下面的步驟在剝離所述剝離部分(30aa)的步驟與連接所述光敏性材料層(28)的至少兩個露出的區(qū)域的步驟之間，將張力施加到所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)上。
13.根據(jù)權(quán)利要求9-11中任一項所述的方法，進(jìn)一步包括下面的步驟在連接所述光敏性材料層(28)的至少兩個露出的區(qū)域的步驟之后，切斷在所述基板(24)之間的所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)；和此后，從所述連接的基板(24a)剝離所述支撐件(26)以生產(chǎn)出光敏性層壓組件(106)。
14.根據(jù)權(quán)利要求9-11中任一項所述的方法，進(jìn)一步包括下面的步驟在連接所述光敏性材料層(28)的至少兩個露出的區(qū)域的步驟之后，連續(xù)地或間歇地從所述連接的基板(24a)剝離所述支撐件(26)以生產(chǎn)出光敏性組件(106)。
15.根據(jù)權(quán)利要求9-11中任一項所述的方法，進(jìn)一步包括下面的步驟在連接所述光敏性材料層(28)的至少兩個露出的區(qū)域的步驟之前，將所述細(xì)長光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)預(yù)加熱到預(yù)定溫度。
全文摘要
一種制造設(shè)備(20)，具有第一和第二放出機(jī)構(gòu)(32a、32b)，第一和第二處理機(jī)構(gòu)(36a、36b)、第一和第二儲存機(jī)構(gòu)(42a、42b)、第一和第二剝離機(jī)構(gòu)(44a、44b)、基板供給機(jī)構(gòu)(45)、和連接機(jī)構(gòu)(46)。直接檢測光敏性網(wǎng)膜(22a、22b)的邊界位置的第一和第二檢測機(jī)構(gòu)(47a、47b)設(shè)置在連接機(jī)構(gòu)(46)上游并靠近連接機(jī)構(gòu)(46)?；趤碜缘谝缓偷诙z測機(jī)構(gòu)(47a、47b)的檢測到的信息，邊界位置與在連接位置的基板(24)的相對位置以及邊界位置自身的相對位置得到調(diào)整。
文檔編號B32B37/00GK101014904SQ2005800224
公開日2007年8月8日 申請日期2005年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月6日
發(fā)明者末原和芳, 秋好寬和, 伊本賢一, 森亮, 鈴木智明, 杉原了一 申請人:富士膠片株式會社