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一種全息防偽膜的制作方法

文檔序號:2422360閱讀:626來源:國知局
專利名稱:一種全息防偽膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型屬于防偽技術(shù),具體涉及一種具有防揭功能的透明全息防偽膜。
背景技術(shù)
通常,證件(或證卡)上都采用過塑的方法,覆蓋一層保護(hù)膜。這層保護(hù)膜有兩個作用,一方面起到防潮、防水漬的作用,另一方面可以增加涂改的難度。對于一些重要的證件,則主要是要求能防止涂改。但通常的過塑膜只是增加涂改的難度,并不能完全防止涂改。因為還是可以借助于普通的工具,將過塑膜小心地揭開,涂改后再復(fù)原。因此,需要有一種完全不能揭開的證件保護(hù)膜,并在保護(hù)膜上增加防偽功能。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的在于克服上述不足之處,提供一種全息防偽膜。該塑料膜透明、防揭,具有良好的防偽功能。
本實用新型提供的一種全息防偽膜,包括依次疊加的塑料載體薄膜、網(wǎng)點狀鍍鋁層和粘結(jié)膠層,其特征在于在塑料載體薄膜與網(wǎng)點狀鍍鋁層之間依次設(shè)置有分離層和帶全息圖的成像層。
本實用新型的最大的特點是具有防揭功能。這種全息防偽膜由多層結(jié)構(gòu)疊加而成,其塑料基膜在過塑后與證件分離,留在證件上的主要是成膜性弱的成像層材料,無法完整地從證件上揭開,因而可以有效地防止揭開涂改。


圖1為本實用新型的膜系結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖1中鍍鋁層的網(wǎng)點狀示意圖。
圖3是過塑時透明全息防偽膜與證件粘貼和PET塑料薄膜與成像層分離的示意圖。
具體實施方式
如圖1所示,本實用新型包括依次疊加的塑料載體薄膜1、分離層2、成像層3、網(wǎng)點狀鍍鋁層4和粘結(jié)膠層5。
通常情況下,塑料載體薄膜1一般采用PET塑料薄膜,厚度通常為15μm或19μm。分離層2采用聚烯烴類樹脂材料,其厚度幾乎可忽略不計。成像層3又因?qū)︻伾?、表面耐磨性和耐化學(xué)腐蝕性有不同的要求而有所不同,通常采用全息模壓工藝將全息圖模壓到成像層3上,其厚度約為0.5μm。鍍鋁層4的幾何厚度為0.6~0.8μm,采用如圖2所示的網(wǎng)點狀鋁薄膜層,圖1中的5表示的就是這種點狀鋁層。粘結(jié)膠層6為過塑膠層或熱熔膠層,其厚度為1~1.8μm。
成像層3除了有普通的全息圖之外,還可以采用一些特殊的技術(shù),如光化浮雕技術(shù)、譜變換加密技術(shù)、機(jī)讀技術(shù)等,用以提高透明全息膜的防偽力度。
當(dāng)粘結(jié)膠層6為過塑膠層時,得到一種透明全息塑封膜;粘結(jié)膠層6為熱熔膠層時,得到一種透明全息燙印箔。
下面以粘結(jié)膠層采用過塑膠層為例,說明其制備方法和使用方法。
制備本實用新型時,將分離層涂布在塑料薄膜上,然后在分離層上涂布成像層。再將涂有分離層和成像層的塑料薄膜送到模壓機(jī)上進(jìn)行模壓,將全息圖案壓印到成像層上。下一步就是在印有全息圖案的成像層上鍍鋁。鍍鋁后,由于鋁層的反射,成像層上的全息圖顯得非常的明亮,但整個薄膜變成為不透明的。因此,需要再進(jìn)行洗鋁,將鍍鋁層變成圖2所示的網(wǎng)點狀。這樣一來,薄膜又變成為透明的了,而且由于網(wǎng)點處的鋁層仍然可以反射,所以全息圖還是看得很清楚。
如圖3所示,過塑時,將全息防偽膜放在證件7(或證卡)的表面,過塑膠層與證件表面接觸,過塑輥8加溫加壓后作用在全息防偽膜上。過塑輥的溫度使過塑膠熔化,將成像層3和網(wǎng)點狀鍍鋁層4粘結(jié)在證件表面;過塑輥的溫度使分離層2熔化,透明全息膜的塑料薄膜1與成像層3分離,就將記錄有全息圖文的成像層留在了證件表面。
為了增加成像層的耐摩擦性,成像層還可以具有更加精細(xì)的結(jié)構(gòu)。例如,在成像層表面增加二氧化硅介質(zhì)膜或其它類型的保護(hù)膜,就可以顯著增加成像層的耐摩擦性。
權(quán)利要求1.一種全息防偽膜,包括依次疊加的塑料載體薄膜、網(wǎng)點狀鍍鋁層和粘結(jié)膠層,其特征在于在塑料載體薄膜(1)與網(wǎng)點狀鍍鋁層(4)之間依次設(shè)置有分離層(2)和帶全息圖的成像層(3)。
專利摘要本實用新型提供的一種全息防偽膜,包括依次疊加的塑料載體薄膜、網(wǎng)點狀鍍鋁層和粘結(jié)膠層,其特征在于在塑料載體薄膜與網(wǎng)點狀鍍鋁層之間依次設(shè)置有分離層和帶全息圖的成像層。本實用新型的最大的特點是具有防揭功能。這種全息防偽膜由多層結(jié)構(gòu)疊加而成,其塑料基膜在過塑后與證件分離,留在證件上的主要是成膜性弱的成像層材料,無法完整地從證件上揭開,因而可以有效地防止揭開涂改。
文檔編號B32B7/04GK2761412SQ20042005778
公開日2006年3月1日 申請日期2004年12月15日 優(yōu)先權(quán)日2004年12月15日
發(fā)明者鄭成賦, 王樹初, 張建軍, 陳汝鈞, 曹漢強(qiáng), 吳正平 申請人:華中科技大學(xué)
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