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一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐的制作方法

文檔序號(hào):1913228閱讀:440來(lái)源:國(guó)知局
一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,包括一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,包括長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的腔體以及位于腔體頂部的爐蓋,腔體和爐蓋的外圍設(shè)置鋼結(jié)構(gòu)固定框架,腔體的長(zhǎng)邊一側(cè)設(shè)有加料口,腔體的兩短邊,一邊設(shè)有煙道,另一邊設(shè)有玻璃出料口,腔體底部為底壁,底壁兩側(cè)設(shè)置為池壁從而形成玻璃池窯,兩側(cè)的池壁上方各設(shè)置胸墻,胸墻上部一定高度處設(shè)有一支以上的燒槍,所述燒槍包括天然氣進(jìn)氣口和純氧進(jìn)氣口。
【專利說(shuō)明】一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種燒制微晶玻璃的裝置,特別是一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐。

【背景技術(shù)】
[0002]低膨脹微晶玻璃由于具有高熔點(diǎn)、高成型溫度的特點(diǎn),用普通的空氣助燃窯爐熔化時(shí),玻璃的缺陷較多。如氣泡、結(jié)石、線條等;同時(shí)無(wú)法保證它的成型溫度,造成玻璃成型作業(yè)困難。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]發(fā)明目的:本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐。
[0004]為了解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明公開(kāi)了一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,包括長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的腔體以及位于腔體頂部的爐蓋,腔體和爐蓋的外圍設(shè)置鋼結(jié)構(gòu)固定框架,腔體的長(zhǎng)邊一側(cè)設(shè)有加料口,腔體的兩短邊,一邊設(shè)有煙道,另一邊設(shè)有玻璃出料口,腔體底部為底壁,底壁兩側(cè)設(shè)置為池壁從而形成玻璃池窯,兩側(cè)的池壁上方各設(shè)置胸墻,胸墻上部一定高度處設(shè)有一支以上的燒槍,所述燒槍包括天然氣進(jìn)氣口和純氧進(jìn)氣口。
[0005]本發(fā)明中,所述底壁下方設(shè)有保溫層。
[0006]本發(fā)明中,所述池壁外側(cè)包覆保溫層。
[0007]本發(fā)明中,所述胸墻外側(cè)包覆保溫層。
[0008]本發(fā)明中,所述的長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)具有一定的長(zhǎng)寬比范圍在1:1?4:1之間;胸墻高度在500?1500mm之間。
[0009]本發(fā)明中,所述燒槍為扁平外混式分級(jí)燒槍。
[0010]本發(fā)明中,所述兩側(cè)胸墻上的燒搶呈交錯(cuò)排列或者平行相對(duì)排列。
[0011]本發(fā)明中,所述燒槍位于玻璃液面以上200?500mm的位置。
[0012]本發(fā)明中,所述池壁深度為500?1000mm。
[0013]有益效果:1、由于使用氧氣與燃料配伍,改善燃燒條件,使燃燒更加充分,可以節(jié)省燃料,提聞企業(yè)綜合效益;
[0014]2、純氧燃燒時(shí)可以產(chǎn)生比普通空氣助燃更高的火焰空間溫度,能加快玻璃的熔化速度,所以純氧燃燒玻璃窯爐可以獲得更高的熔化率,有效提高單位面積出料量(約25%以上);
[0015]3、由于使用氧氣與燃料配伍,改善燃燒條件,燃料的燃燒更加充分徹底,可大幅度減少氧化氮排放量,降幅可達(dá)80%以上;
[0016]4、純氧燃燒窯爐操作時(shí)不需要像傳統(tǒng)玻璃窯爐進(jìn)行換向操作,可有效減少粉塵的排放、配合料的飛揚(yáng),能節(jié)省配合料浪費(fèi),同時(shí)可減輕飛揚(yáng)粉塵對(duì)碹頂及胸墻等部位的侵蝕;
[0017]5、節(jié)省電力消耗(電助熔,鼓風(fēng)機(jī));節(jié)省投資成本(占地面積、鋼結(jié)構(gòu)、EP,蓄熱室,deNOx系統(tǒng),燃燒空氣鼓風(fēng)機(jī)等);
[0018]6、純氧燃燒窯爐可以提供更大的能量?jī)?chǔ)備,可根據(jù)需要在較短的時(shí)間內(nèi)迅速提高窯爐爐溫,使得窯爐出料量變化范圍更加靈活;
[0019]7、燃燒無(wú)需換向,窯爐因燃燒穩(wěn)定,工藝更加穩(wěn)定,有利于提高成品率,改善產(chǎn)品品質(zhì);
[0020]8、減少未熔物,減少微小氣泡量,減少夾雜(條紋)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明做更進(jìn)一步的具體說(shuō)明,本發(fā)明的上述和或其他方面的優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更加清楚。
[0022]圖1為本發(fā)明俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖2為本發(fā)明側(cè)視結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0024]下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作詳細(xì)說(shuō)明。
[0025]如圖1和圖2所示,包括腔體1、爐蓋2、鋼結(jié)構(gòu)固定框架3、底壁7、玻璃池窯8、胸墻9和池壁13,腔體I和爐蓋2的外圍設(shè)有鋼結(jié)構(gòu)固定框架3,腔體I的長(zhǎng)邊一側(cè)設(shè)有加料口 4,腔體I的兩短邊一邊設(shè)有煙道5,另一邊設(shè)有玻璃出料口 6,腔體I的底部為底壁7,底壁7兩側(cè)為池壁13,底壁7和池壁13形成玻璃池窯8,池壁13上方設(shè)有胸墻9,胸墻9上部一定高度處設(shè)有一個(gè)以上的燒槍10,燒槍10為扁平外混式分級(jí)燒槍,包括天然氣進(jìn)氣口和純氧進(jìn)氣口,其中,底壁7、池壁13和胸墻9外側(cè)均設(shè)有保溫層,腔體具有一定的長(zhǎng)寬比范圍在1:1?4:1之間;胸墻高度在500?1500mm之間,燒槍為扁平外混式分級(jí)燒槍,兩側(cè)胸墻上的燒槍呈交錯(cuò)排列或者平行相對(duì)排列,燒槍位于玻璃液面以上200?500mm的位置處,池壁深度為500?1000mm。
[0026]本發(fā)明提供了一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,具體實(shí)現(xiàn)該技術(shù)方案的方法和途徑很多,以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對(duì)于本【技術(shù)領(lǐng)域】的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),在不脫離本發(fā)明原理的前提下,還可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾,這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。本實(shí)施例中未明確的各組成部分均可用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,包括長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu)的腔體⑴以及位于腔體⑴頂部的爐蓋(2),腔體⑴和爐蓋⑵的外圍設(shè)置鋼結(jié)構(gòu)固定框架(3),腔體⑴的長(zhǎng)邊一側(cè)設(shè)有加料口(4),腔體⑴的兩短邊,一邊設(shè)有煙道(5),另一邊設(shè)有玻璃出料口出),腔體底部為底壁(7),底壁(7)兩側(cè)設(shè)置為池壁(13)從而形成玻璃池窯(8),兩側(cè)的池壁(13)上方各設(shè)置胸墻(9),胸墻(9)上部一定高度處設(shè)有一支以上的燒槍(10),所述燒槍(10)包括天然氣進(jìn)氣口(11)和純氧進(jìn)氣口(12^
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述底壁(7)下方設(shè)有保溫層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述池壁(13)外側(cè)包覆保溫層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述胸墻(9)外側(cè)包覆保溫層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述的腔體⑴具有一定的長(zhǎng)寬比范圍在1:1?4:1之間;胸墻(9)高度在500?1500111111 之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述燒槍(10)為扁平外混式分級(jí)燒槍。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述兩側(cè)胸墻(9)上的燒槍(10)呈交錯(cuò)排列或者平行相對(duì)排列。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述燒槍(10)位于玻璃液面以上200?500111111的位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于低膨脹微晶玻璃制造的全氧燃燒窯爐,其特征在于,所述池壁(13)深度為500?1000臟。
【文檔編號(hào)】C03B5/00GK104402194SQ201410591427
【公開(kāi)日】2015年3月11日 申請(qǐng)日期:2014年10月28日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月28日
【發(fā)明者】章錦明, 吳建林 申請(qǐng)人:遠(yuǎn)東光電股份有限公司
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