一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法及該粉末的應(yīng)用的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法，包括以下步驟：（1）將氧化鋅鋁殘靶用清水洗凈、烘干；（2）將烘干后的氧化鋅鋁殘靶，放入剛玉質(zhì)的球磨機中研磨，研磨后采用180～220目標(biāo)準(zhǔn)篩過篩，得到氧化鋅鋁殘靶粉末。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中氧化鋅鋁殘靶直接丟棄造成的資源浪費以及環(huán)境污染問題，并且，所制得的氧化鋅鋁殘靶粉末可作為氧化鋅鋁靶材的原材料重新制備新的氧化鋅鋁靶材。
【專利說明】一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法及該粉末的應(yīng)用
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于靶材回收工藝，尤其是一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法及該粉末的應(yīng)用。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著光電工業(yè)技術(shù)的發(fā)展，氧化鋅鋁透明導(dǎo)電薄膜(簡稱AZO透明導(dǎo)電薄膜)己成為近年來研究和開發(fā)的熱點。AZO透明導(dǎo)電薄膜常用作各種光電子器件(如發(fā)光二極管的透明電極(LED)、平板顯示器(FPD)、銅銦鎵錫太陽能電池(CIGS)、硅薄膜太陽能電池等)的透明電極。由于AZO透明導(dǎo)電薄膜具有優(yōu)異的光電性能，良好的穩(wěn)定性，尤其是在太陽能電池領(lǐng)域，AZO透明導(dǎo)電薄膜有望替代ITO薄膜，從而受到廣泛的關(guān)注。
[0003]磁控濺射是常見的最適應(yīng)于工業(yè)化生產(chǎn)的鍍膜方法，其優(yōu)點是:沉積的膜層均勻致密、針孔少、純度高、薄膜附著力強，沉積速度快、成膜速率高，基片的升溫低、對膜層的損傷小，可實現(xiàn)大面積鍍膜。目前，普遍使用長形或方形的氧化鋅鋁陶瓷靶(簡稱AZO陶瓷靶，具體為AZO陶瓷平面靶)進行磁控濺射鍍膜，在對AZO陶瓷平面靶進行磁控濺射過程中，AZO陶瓷靶的利用率普遍較低(一般不超過30%)，而絕大多數(shù)的(占7(T80%) AZO陶瓷靶成為殘靶，由于殘靶的回收利用技術(shù)十分缺乏，目前都當(dāng)作固體廢棄物丟棄。隨著光電薄膜用量的迅速增加，廢棄的AZO陶瓷靶(即AZO殘靶)數(shù)量也不斷增多，這些殘靶直接丟棄，不僅造成了資源浪費，由于其難以降解也對環(huán)境造成了嚴(yán)重污染。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明旨在提供一`種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法，解決了現(xiàn)有技術(shù)中氧化鋅鋁殘靶直接丟棄造成的資源浪費以及環(huán)境污染問題，并且，所制得的氧化鋅鋁殘靶粉末可作為氧化鋅鋁靶材的原材料重新制備新的氧化鋅鋁靶材。
[0005]一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶(簡稱AZO殘靶)制備氧化鋅鋁殘靶粉末(簡稱AZO殘靶粉末)的方法，包括以下步驟:(1)將氧化鋅鋁殘靶(簡稱AZO殘靶)用清水洗凈、烘干；
(2)將烘干后的AZO殘靶，放入剛玉質(zhì)的球磨機中研磨，研磨后采用18(T220目標(biāo)準(zhǔn)篩過篩，得到氧化鋅鋁殘靶粉末(簡稱AZO殘靶粉末)。
[0006]根據(jù)上述利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法制得的氧化鋅鋁殘靶粉末屬于本發(fā)明的保護范圍。
[0007]此AZO殘靶粉末可用于制備新的氧化鋅鋁靶材(AZO靶材)，采用AZO殘靶粉末制備AZO靶材的具體步驟為:(I)將氧化鋅鋁殘靶粉末、氧化鋁粉末和氧化鋅粉末按照質(zhì)量百分比分別為1(T50%、1.5^2.7 %、48.5^87.3 %混合均勻，制成氧化鋅鋁注漿混合料；(2)以氧化鋅鋁注漿混合料質(zhì)量為100%計，向氧化鋅鋁注漿混合料中分別添加2(T35%水、0.8^2 %阿拉伯樹膠和0.4^0.6%聚丙烯酸銨；(3)按照現(xiàn)有的靶材生產(chǎn)工藝，制得氧化鋅鋁靶材(簡稱AZO靶材)。[0008]本發(fā)明以廢棄的AZO殘靶為原料，并針對廢棄的AZO殘靶純度高、密度大、不吸水、已燒結(jié)、很穩(wěn)定的特點，采用機械方法將殘靶磨碎，制得AZO殘靶粉末，此AZO殘靶粉末可作為AZO靶材的原材料直接摻入氧化鋁粉末和氧化鋅粉末中，制備出性能符合要求的新的AZO革巴材。
[0009]本發(fā)明的球磨機采用剛玉質(zhì)材質(zhì)非常關(guān)鍵，剛玉質(zhì)球磨機不僅耐磨，而且，不會影響靶材的純度。另外，殘靶的研磨細度也很重要，本 申請人:經(jīng)過無數(shù)次的試驗，最終才確定出殘靶的研磨粒度控制在通過18(T220目篩時，制成的新靶材才符合磁控濺射鍍膜用AZO靶材對密度的基本要求(AZ0靶材的密度要達到5.50g/cm3以上)。
【具體實施方式】
[0010]一種利用回收的AZO殘靶制備AZO殘靶粉末的方法，包括以下步驟:(I)將AZO殘靶用清水洗凈、烘干；(2)將烘干后的AZO殘靶，放入剛玉質(zhì)的球磨機中研磨，研磨后采用180^220目標(biāo)準(zhǔn)篩過篩，得到AZO殘靶粉末。
[0011]根據(jù)上述利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法制得的氧化鋅鋁殘靶粉末屬于本發(fā)明的保護范圍。
[0012]此AZO殘靶粉末可用于制備新的氧化鋅鋁靶材(AZO靶材)，采用AZO殘靶粉末制備AZO靶材的具體步驟為:(I)將AZO殘 靶粉末、氧化鋁粉末和氧化鋅粉末按照質(zhì)量百分比分別為1(T50%、1.5^2.7 %、48.5^87.3 %混合均勻，制成氧化鋅鋁注漿混合料；(2)以氧化鋅鋁注漿混合料質(zhì)量為100%計，向氧化鋅鋁注漿混合料中分別添加2(T35%水、0.8^2 %阿拉伯樹膠和0.4^0.6%聚丙烯酸銨；(3)按照現(xiàn)有的靶材生產(chǎn)工藝，制得AZO靶材。
[0013]根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案 申請人:提供了實施例f實施例5?，F(xiàn)將實施例廣5的參數(shù)列舉如下表1:
【權(quán)利要求】
1.一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法，包括以下步驟:(1)將氧化鋅鋁殘靶用清水洗凈、烘干；(2)將烘干后的氧化鋅鋁殘靶，放入剛玉質(zhì)的球磨機中研磨，研磨后采用18(T220目標(biāo)準(zhǔn)篩過篩，得到氧化鋅鋁殘靶粉末。
2.采用根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法制得的氧化鋅鋁殘靶粉末制備氧化鋅鋁殘靶的方法，具體步驟為:(1)將氧化鋅鋁殘靶粉末、氧化鋁粉末和氧化鋅粉末按照質(zhì)量百分比分別為1(T50%、1.5^2.7 %、48.5^87.3%混合均勻，制成氧化鋅鋁注漿混合料；(2)以氧化鋅鋁注漿混合料質(zhì)量為100%計，向氧化鋅鋁注漿混合料中分別添加2(T35%水、0.8^2 %阿拉伯樹膠和0.4^0.6%聚丙烯酸銨；(3)按照現(xiàn)有的靶材生產(chǎn)工藝，制得氧化鋅鋁靶材。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用回收的氧化鋅鋁殘靶制備氧化鋅鋁殘靶粉末的方法制得 的氧化鋅鋁殘靶粉末。
【文檔編號】C04B35/453GK103708819SQ201310737757
【公開日】2014年4月9日 申請日期:2013年12月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月20日
【發(fā)明者】陳明億, 林文寶, 董雪振, 邢駿鵬 申請人:福建省諾希新材料科技有限公司