陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備及方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備，包括機(jī)架、坯體遞送裝置I、蠟盤、掃塵裝置、噴淋裝置；坯體遞送裝置I包括遞送裝置I吸盤。本發(fā)明還提供一種陶瓷坯體上釉前處理方法，通過坯體遞送裝置I使陶瓷坯體底邊浸入蠟液，由掃塵裝置完成掃塵工作，再由噴水裝置完成噴淋水洗工作。本發(fā)明獨(dú)特設(shè)計(jì)的掃塵裝置和噴淋裝置，使得掃塵和噴水能夠完全自動(dòng)化運(yùn)行，巧妙的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠穩(wěn)定吸附陶瓷坯體，并使得陶瓷坯體能夠方便的在水平和下方豎直位置上進(jìn)行切換，在水平位置便于陶瓷坯體的接收和轉(zhuǎn)移，在下方豎直位置時(shí)，使得陶瓷坯體位于外掃塵掃、內(nèi)掃塵掃、內(nèi)噴嘴和外噴嘴的工作位置，實(shí)現(xiàn)其掃塵和噴淋清洗過程。
【專利說明】陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備及方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備及方法，具體涉及一種應(yīng)用于日用陶瓷成型生產(chǎn)中上釉前坯體腳部上腳蠟、坯體表面的掃塵及噴水的設(shè)備及方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在日用陶瓷中，陶瓷坯體成型后表面必須均勻涂上釉料層再進(jìn)行燒制陶瓷表面才能光亮。在坯體上釉前，必須將修坯工序遺留在坯體表面的粉塵清掃干凈再均勻噴上水才能使釉層與坯體良好地結(jié)合，另外，在陶瓷燒制過程中，高溫時(shí)釉料熔化會(huì)與匣缽底部粘結(jié)在一起，所以上釉工序中必須將坯體與匣缽底部接觸的釉料去除干凈，防止陶瓷產(chǎn)品高溫?zé)七^程中與匣缽底部粘結(jié)，坯體腳部上蠟的目的，就是使上釉過程中坯體腳部有蠟的地方不沾上釉料。在傳統(tǒng)工藝中，上腳蠟工序是工人拿住坯體將坯體腳部往蠟盤上印，使坯體腳部沾上一層蠟，掃塵工序是工人拿著毛掃將坯體內(nèi)外清掃，噴水工序是工人用沾水的海綿在坯體的內(nèi)外表面抹擦，使坯體表面附上水，這幾個(gè)工序都是工人一個(gè)一個(gè)的操作，工人勞動(dòng)強(qiáng)度大，效率低，由于是人工操作，很難避免坯體表面掃塵不干凈，坯體上腳蠟不均勻，坯體表面上水不均勻的現(xiàn)象，從而影響產(chǎn)品的質(zhì)量，另外，由于人工操作有時(shí)用力不均勻，會(huì)使還體破裂，造成還體損耗，增加了制造成本。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于提供一種陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備及方法，尤其是一種應(yīng)用于日用陶瓷成型生產(chǎn)中上釉前坯體腳部上腳蠟、坯體表面的掃塵及噴水的設(shè)備及方法。解決日用陶瓷生產(chǎn)過程中上腳蠟、掃塵、噴水等工序中人工操作的效率低、質(zhì)量不穩(wěn)定、坯體損耗的問題。
[0004]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案: 陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備包括機(jī)架、坯體遞送裝置1、蠟盤、掃塵裝置、噴淋裝置；坯體遞送裝置I包括遞送裝置I吸盤；
所述的掃塵裝置包括掃塵裝置機(jī)架、掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、掃塵裝置吸盤、掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)、外掃塵掃、內(nèi)掃塵掃、內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源；所述的掃塵裝置機(jī)架上安裝掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有掃塵裝置吸盤和掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)掃塵裝置吸盤自轉(zhuǎn)；所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠以其在掃塵裝置機(jī)架上的安裝點(diǎn)為圓心上下轉(zhuǎn)動(dòng)，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)到豎直方向時(shí)，外掃塵掃與掃塵裝置吸盤的下邊沿相靠近或者接觸，內(nèi)掃塵掃與內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源相連接，朝向掃塵裝置吸盤盤面；
所述的噴淋裝置包括噴水裝置支架、噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、噴水裝置吸盤、噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)、內(nèi)噴嘴和外噴嘴；所述的噴水裝置支架上安裝噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有噴水裝置吸盤和噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)噴水裝置吸盤自轉(zhuǎn)；所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠以其在噴水裝置支架為的安裝點(diǎn)圓心上下轉(zhuǎn)動(dòng)，噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)到豎直方向時(shí)，內(nèi)噴嘴朝向噴水裝置吸盤側(cè)面，外噴嘴朝向噴水裝置吸盤的盤面；
所述的坯體遞送裝置I包括遞送裝置I吸盤，通過遞送裝置I吸盤吸附坯體，將坯體依次傳遞至蠟盤、掃塵裝置吸盤或噴淋裝置吸盤上。
[0005]所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)、掃塵吸盤支承板和掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸；所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)安裝于掃塵裝置機(jī)架上，掃塵吸盤支承板通過掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸安裝于掃塵裝置機(jī)架上，掃塵吸盤支承板能在掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)下以掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸的軸向?yàn)閳A心上下轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0006]所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)、噴水吸盤支承板和噴水吸盤轉(zhuǎn)軸；所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)安裝于噴水裝置支架上，噴水吸盤支承板通過掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸安裝于噴水裝置支架上，噴水吸盤支承板能在噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)下以掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸的軸向?yàn)閳A心上下轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0007]優(yōu)選的，所述的坯體遞送裝置I包括遞送裝置I支架、遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)、遞送裝置I伸縮動(dòng)力源、遞送裝置I導(dǎo)套、遞送裝置I導(dǎo)桿、遞送裝置I吸盤；遞送裝置I支架上安裝有遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)、遞送裝置I伸縮動(dòng)力源、遞送裝置I導(dǎo)套；所述的遞送裝置I支架的頂部安裝有遞送裝置I伸縮動(dòng)力源，遞送裝置I伸縮動(dòng)力源與遞送裝置I導(dǎo)桿相連接，控制遞送裝置I導(dǎo)桿上下運(yùn)動(dòng)；所述的遞送裝置I導(dǎo)桿為中空管狀結(jié)構(gòu)，中空部分與真空管連通，其末端設(shè)有與中空結(jié)構(gòu)連通的遞送裝置I吸盤；所述的遞送裝置I導(dǎo)套安裝于遞送裝置I支架底部，與遞送裝 置I導(dǎo)桿相配合；遞送裝置I支架通過滑塊安裝于機(jī)架上的滑軌上，在遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下沿著導(dǎo)軌做進(jìn)給運(yùn)動(dòng)。
[0008]還可以包括坯體遞送裝置II，所述的坯體遞送裝置II包括遞送裝置II支架、遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)、遞送裝置II伸縮動(dòng)力源、遞送裝置II導(dǎo)套、遞送裝置II導(dǎo)桿、遞送裝置II吸盤；遞送裝置II支架上安裝有遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)、遞送裝置II伸縮動(dòng)力源、遞送裝置II導(dǎo)套；所述的遞送裝置II支架的頂部安裝有遞送裝置II伸縮動(dòng)力源，遞送裝置II伸縮動(dòng)力源與遞送裝置II導(dǎo)桿相連接，控制遞送裝置II導(dǎo)桿上下運(yùn)動(dòng)；所述的遞送裝置II導(dǎo)桿為中空管狀結(jié)構(gòu)，中空部分與真空管連通，其末端設(shè)有與中空結(jié)構(gòu)連通的遞送裝置II吸盤；所述的遞送裝置II導(dǎo)套安裝于遞送裝置II支架底部，與遞送裝置II導(dǎo)桿相配合；遞送裝置II支架通過滑塊安裝于機(jī)架上的滑軌上，在遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下沿著導(dǎo)軌做進(jìn)給運(yùn)動(dòng)。
[0009]還可以包括傳送帶，所述的坯體遞送裝置II將上釉前處理結(jié)束后的陶瓷坯體送至傳送帶，送至下一工序。
[0010]所述的遞送裝置I伸縮動(dòng)力源、內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源和遞送裝置II伸縮動(dòng)力源可以用電動(dòng)、氣壓、液壓或其它機(jī)械機(jī)構(gòu)代替作為執(zhí)行元件。
[0011]陶瓷坯體上釉前處理方法，包括以下步驟:
A、坯體遞送裝置I通過遞送裝置I吸盤的真空抽取將陶瓷坯體吸起，輸送到蠟盤上，控制遞送裝置I吸盤的下降距離，將陶瓷坯體底邊浸入蠟液；
B、坯體遞送裝置I將浸蠟后的陶瓷坯體輸送至掃塵裝置吸盤上，坯體遞送裝置I停止真空吸取，遞送裝置I吸盤上升離開陶瓷坯體，掃塵裝置吸盤通過真空吸住陶瓷坯體，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)至豎直方向，陶瓷坯體的外部和內(nèi)部分別與外掃塵掃和內(nèi)掃塵掃接觸，掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)啟動(dòng)，驅(qū)動(dòng)掃塵裝置吸盤自轉(zhuǎn)，進(jìn)行掃塵；C、掃塵結(jié)束后，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向上轉(zhuǎn)動(dòng)復(fù)位，掃塵裝置吸盤停止真空吸取，坯遞送裝置I吸盤下降通過真空將陶瓷坯體吸住，輸送至噴水裝置吸盤上，坯體遞送裝置I停止真空吸取，遞送裝置I吸盤上升離開陶瓷坯體，噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)至豎直方向，陶瓷坯體的外部和內(nèi)部分別對(duì)向內(nèi)噴嘴和外噴嘴，噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)啟動(dòng)，輸送至噴水裝置吸盤自轉(zhuǎn)，同時(shí)開啟內(nèi)噴嘴和外噴嘴，向陶瓷坯體噴淋水洗；
D、噴淋水洗結(jié)束后，即完成陶瓷坯體上釉前處理。
[0012]所述的陶瓷坯體上釉前處理方法，還包括以下步驟:
E、噴淋水洗結(jié)束后，坯遞送裝置I吸盤下降通過真空將陶瓷坯體吸住，輸送至傳送帶，經(jīng)傳送帶經(jīng)送至下一工序，即上釉工序進(jìn)行上釉。
[0013]本發(fā)明利用真空吸盤吸附作為陶瓷坯體的運(yùn)送方法，真空吸附的好處在于便于控制吸附力大小，并且不容易損傷陶瓷坯體，能夠避免生產(chǎn)過程中出現(xiàn)不必要的損耗。并且通過配合使用的導(dǎo)桿和導(dǎo)套，能夠在豎直方向上上下運(yùn)動(dòng)，這使得陶瓷坯體底邊能夠準(zhǔn)確的浸蠟，保證了浸蠟工序的順利進(jìn)行。
[0014]本發(fā)明獨(dú)特設(shè)計(jì)的掃塵裝置和噴淋裝置，使得掃塵和噴水能夠完全自動(dòng)化運(yùn)行，巧妙的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠穩(wěn)定吸附陶瓷坯體，并使得陶瓷坯體能夠方便的在水平和下方豎直位置上進(jìn)行切換，在水平位置便于陶瓷坯體的接收和轉(zhuǎn)移，在下方豎直位置時(shí)，使得陶瓷坯體位于外掃塵掃、內(nèi)掃塵掃、內(nèi)噴嘴和外噴嘴的工作位置，實(shí)現(xiàn)其掃塵和噴淋清洗過程。
[0015]本發(fā)明結(jié)構(gòu)科學(xué)合理，生產(chǎn)效率高，損耗低，能夠完美的解決日用陶瓷生產(chǎn)過程中上腳蠟、掃塵、噴水等工序中人工操作的效率低、質(zhì)量不穩(wěn)定、坯體損耗的問題，具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)和顯著的進(jìn)步。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖 圖2為與本發(fā)明實(shí)施例提供的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備的左視圖
圖3為本發(fā)明的實(shí)施例提供的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備的A-A向示意圖 附圖標(biāo)識(shí):
1-機(jī)架，2-滑軌，3-遞送裝置I支架，4-遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)，5-遞送裝置I伸縮動(dòng)力源，6-遞送裝置I導(dǎo)套，7-遞送裝置I導(dǎo)桿，8-遞送裝置I吸盤，9-蠟盤，10-掃塵裝置機(jī)架，11-掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，12-掃塵吸盤支承板，13-掃塵裝置吸盤，14-掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，15-外掃塵掃，16-內(nèi)掃塵掃，17-內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源，18-噴水裝置支架，19-噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)，20-噴水吸盤支承板，21-噴水裝置吸盤，22-噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)，23-內(nèi)噴嘴，24-外噴嘴，25-遞送裝置II支架，26-遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)，27-遞送裝置II伸縮動(dòng)力源，28-遞送裝置II導(dǎo)套，29-遞送裝置II導(dǎo)桿，30-遞送裝置II吸盤，31-傳送帶，32-掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸，33-噴水吸盤轉(zhuǎn)軸。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0018]如圖1-圖3所示，陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備包括機(jī)架1、坯體遞送裝置1、蠟盤9、掃塵裝置、噴淋裝置；坯體遞送裝置I包括遞送裝置I吸盤8 ;
所述的掃塵裝置包括掃塵裝置機(jī)架10、掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、掃塵裝置吸盤13、掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)14、外掃塵掃15、內(nèi)掃塵掃16、內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源17 ;所述的掃塵裝置機(jī)架10上安裝掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有掃塵裝置吸盤13和掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)14，掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)14驅(qū)動(dòng)掃塵裝置吸盤13自轉(zhuǎn)；所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠以其在掃塵裝置機(jī)架10上的安裝點(diǎn)為圓心上下轉(zhuǎn)動(dòng)，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)到豎直方向時(shí)，外掃塵掃15與掃塵裝置吸盤13的下邊沿相靠近或者接觸，內(nèi)掃塵掃16與內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源17相連接，朝向掃塵裝置吸盤13盤面；
所述的噴淋裝置包括噴水裝置支架18、噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、噴水裝置吸盤21、噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)22、內(nèi)噴嘴23和外噴嘴24 ;所述的噴水裝置支架18上安裝噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有噴水裝置吸盤21和噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)22,噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)22驅(qū)動(dòng)噴水裝置吸盤21自轉(zhuǎn)；所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠以其在噴水裝置支架18為的安裝點(diǎn)圓心上下轉(zhuǎn)動(dòng)，噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)到豎直方向時(shí)，內(nèi)噴嘴23朝向噴水裝置吸盤21側(cè)面，外噴嘴24朝向噴水裝置吸盤21的盤面；
所述的坯體遞送裝置I包括遞送裝置I吸盤8，通過遞送裝置I吸盤8吸附坯體，將坯體依次傳遞至蠟盤9、掃塵裝置吸盤13或噴淋裝置吸盤21上。
[0019]所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11、掃塵吸盤支承板12和掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸32 ;所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11安裝于掃塵裝置機(jī)架10上，掃塵吸盤支承板12通過掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸32安裝于掃塵裝置機(jī) 架10上，掃塵吸盤支承板12能在掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11驅(qū)動(dòng)下以掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸32的軸向?yàn)閳A心上下轉(zhuǎn)動(dòng)；
所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)19、噴水吸盤支承板20和噴水吸盤轉(zhuǎn)軸33 ;所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)19安裝于噴水裝置支架18上，噴水吸盤支承板20通過掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸32安裝于噴水裝置支架18上，噴水吸盤支承板20能在噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)19驅(qū)動(dòng)下以掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸32的軸向?yàn)閳A心上下轉(zhuǎn)動(dòng)；
所述的坯體遞送裝置I包括遞送裝置I支架3、遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)4、遞送裝置I伸縮動(dòng)力源5、遞送裝置I導(dǎo)套6、遞送裝置I導(dǎo)桿7、遞送裝置I吸盤8 ;遞送裝置I支架3上安裝有遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)4、遞送裝置I伸縮動(dòng)力源5、遞送裝置I導(dǎo)套6 ;所述的遞送裝置I支架3的頂部安裝有遞送裝置I伸縮動(dòng)力源5，遞送裝置I伸縮動(dòng)力源5與遞送裝置I導(dǎo)桿7相連接，控制遞送裝置I導(dǎo)桿7上下運(yùn)動(dòng)；所述的遞送裝置I導(dǎo)桿7為中空管狀結(jié)構(gòu)，中空部分與真空管連通，其末端設(shè)有與中空結(jié)構(gòu)連通的遞送裝置I吸盤8 ;所述的遞送裝置I導(dǎo)套6安裝于遞送裝置I支架3底部，與遞送裝置I導(dǎo)桿7相配合；遞送裝置I支架3通過滑塊安裝于機(jī)架I上的滑軌2上，在遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)4的驅(qū)動(dòng)下沿著導(dǎo)軌做進(jìn)給運(yùn)動(dòng)；
所述的坯體遞送裝置II包括遞送裝置II支架25、遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)26、遞送裝置II伸縮動(dòng)力源27、遞送裝置II導(dǎo)套28、遞送裝置II導(dǎo)桿29、遞送裝置II吸盤30 ;遞送裝置II支架25上安裝有遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)26、遞送裝置II伸縮動(dòng)力源27、遞送裝置II導(dǎo)套28 ;所述的遞送裝置II支架25的頂部安裝有遞送裝置II伸縮動(dòng)力源27，遞送裝置II伸縮動(dòng)力源27與遞送裝置II導(dǎo)桿29相連接，控制遞送裝置II導(dǎo)桿29上下運(yùn)動(dòng)；所述的遞送裝置II導(dǎo)桿29為中空管狀結(jié)構(gòu)，中空部分與真空管連通，其末端設(shè)有與中空結(jié)構(gòu)連通的遞送裝置II吸盤30 ;所述的遞送裝置II導(dǎo)套28安裝于遞送裝置II支架25底部，與遞送裝置II導(dǎo)桿29相配合；遞送裝置II支架25通過滑塊安裝于機(jī)架I上的滑軌2上，在遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)26的驅(qū)動(dòng)下沿著導(dǎo)軌做進(jìn)給運(yùn)動(dòng)；
所述的坯體遞送裝置II將上釉前處理結(jié)束后的陶瓷坯體送至傳送帶31，送至下一工
序;
所述的遞送裝置I伸縮動(dòng)力源5、內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源17和遞送裝置II伸縮動(dòng)力源27為氣壓機(jī)構(gòu)，即通過氣缸提供動(dòng)力。
[0020]實(shí)施例1
本實(shí)施例提供的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備式這樣工作的:
A、所述的坯坯體遞送裝置I通過遞送裝置I吸盤8的真空抽取將陶瓷坯體吸住，輸送到蠟盤9上，控制遞送裝置I吸盤8的下降距離，將陶瓷坯體底邊浸入蠟液；
B、坯體遞送裝置I將浸蠟后的陶瓷坯體輸送至掃塵裝置吸盤13上，坯體遞送裝置I停止真空吸取，遞送裝置I吸盤8上升離開陶瓷坯體，掃塵裝置吸盤13通過真空吸住陶瓷坯體，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)至豎直方向，陶瓷坯體的外部和內(nèi)部分別與外掃塵掃15和內(nèi)掃塵掃16接觸，掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)14啟動(dòng)，驅(qū)動(dòng)掃塵裝置吸盤13自轉(zhuǎn)，進(jìn)行掃塵；
C、掃塵結(jié)束后，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向上轉(zhuǎn)動(dòng)復(fù)位，掃塵裝置吸盤13停止真空吸取，坯遞送裝置I吸盤8下降通過真空將陶瓷坯體吸住，輸送至噴水裝置吸盤21上，坯體遞送裝置I停止真空吸取，遞送裝置I吸盤8上升離開陶瓷坯體，噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)至豎直方向，陶瓷坯體的外部和內(nèi)部分別對(duì)向內(nèi)噴嘴23和外噴嘴24，噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)22啟動(dòng)，輸送至噴水裝置吸盤21自轉(zhuǎn)，同時(shí)開啟內(nèi)噴嘴23和外噴嘴24，向陶瓷坯體噴淋水洗； D、噴淋水洗結(jié)束后，即完成陶瓷坯體上釉前處理；
E、噴淋水洗結(jié)束后，坯遞送裝置II吸盤30下降通過真空將陶瓷坯體吸住，輸送至傳送帶31，經(jīng)傳送帶31經(jīng)送至下一工序，即上釉工序進(jìn)行上釉。
[0021]所述的坯體遞送裝置I通過氣缸控制遞送裝置I導(dǎo)桿7在遞送裝置I導(dǎo)套6中進(jìn)行上下運(yùn)動(dòng)；其運(yùn)送陶瓷坯體時(shí)，遞送裝置I導(dǎo)桿7下降，當(dāng)遞送裝置I吸盤8至陶瓷坯體位置時(shí)停止，啟動(dòng)真空，將陶瓷坯體吸起，送裝置I導(dǎo)桿7上升，坯體遞送裝置I沿著滑軌2移動(dòng)；當(dāng)?shù)竭_(dá)掃塵裝置吸盤13或噴淋裝置吸盤21上方，其放置陶瓷坯體時(shí)，遞送裝置I導(dǎo)桿7下降，將陶瓷坯體放在掃塵裝置吸盤13或噴淋裝置吸盤21上，停止真空抽氣，遞送裝置I吸盤8放開陶瓷坯體，裝置I導(dǎo)桿7上升，遞送裝置I吸盤8脫離陶瓷坯體。
[0022]所述的坯體遞送裝置II的運(yùn)送和放置陶瓷坯體過程是一樣的。
[0023]實(shí)施例2
如圖2和圖3所示，本發(fā)明的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備可以設(shè)計(jì)為并列的兩組，只需要通過一組電機(jī)和伸縮動(dòng)力源動(dòng)力源進(jìn)行控制，在提升生產(chǎn)效率的同時(shí)也降低了成本。即通過一阻遞送裝置I伸縮動(dòng)力源5控制兩個(gè)并聯(lián)的遞送裝置I導(dǎo)桿7 ;—組遞送裝置II伸縮動(dòng)力源控制兩個(gè)并聯(lián)的遞送裝置II導(dǎo)桿29 組掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)14通過齒輪傳動(dòng)，帶動(dòng)并聯(lián)的兩個(gè)掃塵裝置吸盤13轉(zhuǎn)動(dòng)；一組噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)19通過齒輪傳動(dòng)，帶動(dòng)并聯(lián)的兩個(gè)噴水裝置吸盤21轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0024]掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)和噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)也均是利用齒輪傳動(dòng)，通過一組掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)11和噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)19控制并聯(lián)的兩組掃塵吸盤支承板12和噴水吸盤支承板20的轉(zhuǎn)動(dòng)。
【權(quán)利要求】
1.一種陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備，包括機(jī)架(I)、坯體遞送裝置1、蠟盤(9)、掃塵裝置、噴淋裝置；坯體遞送裝置I包括遞送裝置I吸盤(8);其特征在于: 所述的掃塵裝置包括掃塵裝置機(jī)架(10)、掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、掃塵裝置吸盤(13)、掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(14)、外掃塵掃(15)、內(nèi)掃塵掃(16)、內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源(17);所述的掃塵裝置機(jī)架(10)上安裝掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有掃塵裝置吸盤(13)和掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(14)，掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(14)驅(qū)動(dòng)掃塵裝置吸盤(13)自轉(zhuǎn)；所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠以其在掃塵裝置機(jī)架(10)上的安裝點(diǎn)為圓心上下轉(zhuǎn)動(dòng)，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)到豎直方向時(shí)，外掃塵掃(15)與掃塵裝置吸盤(13)的下邊沿相靠近或者接觸，內(nèi)掃塵掃(16)與內(nèi)掃塵伸縮動(dòng)力源(17)相連接，朝向掃塵裝置吸盤(13)盤面； 所述的噴淋裝置包括噴水裝置支架(18)、噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)、噴水裝置吸盤(21)、噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(22)、內(nèi)噴嘴(23)和外噴嘴(24);所述的噴水裝置支架(18)上安裝噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)；噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)上安裝有噴水裝置吸盤(21)和噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(22)，噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(22)驅(qū)動(dòng)噴水裝置吸盤(21)自轉(zhuǎn)；所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠以其在噴水裝置支架(18)為的安裝點(diǎn)圓心上下轉(zhuǎn)動(dòng)，噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)到豎直方向時(shí)，內(nèi)噴嘴(23 )朝向噴水裝置吸盤(21)側(cè)面，外噴嘴(24)朝向噴水裝置吸盤(21)的盤面； 所述的坯體遞送裝置I包括遞送裝置I吸盤(8)，通過遞送裝置I吸盤(8)吸附坯體，將坯體依次傳遞至蠟盤(9 )、掃塵裝置吸盤(13)或噴淋裝置吸盤(21)上。
2.如權(quán)利要求1所述的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備，其特征在于:所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(11)、掃塵吸盤支承板(12 )和掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸(32 );所述的掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(11)安裝于掃塵裝置機(jī)架(10)上，掃塵吸盤支承板(12)通過掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸(32)安裝于掃塵裝置機(jī)架(10)上，掃塵吸盤支承板(12)能在掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(11)驅(qū)動(dòng)下以掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸(32)的軸向?yàn)閳A心上下轉(zhuǎn)動(dòng)。`
3.如權(quán)利要求1所述的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備，其特征在于:所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)包括噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(19)、噴水吸盤支承板(20)和噴水吸盤轉(zhuǎn)軸(33);所述的噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(19)安裝于噴水裝置支架(18)上，噴水吸盤支承板(20)通過掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸(32)安裝于噴水裝置支架(18)上，噴水吸盤支承板(20)能在噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)電機(jī)(19)驅(qū)動(dòng)下以掃塵吸盤轉(zhuǎn)軸(32)的軸向?yàn)閳A心上下轉(zhuǎn)動(dòng)。
4.如權(quán)利要求1所述的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備，其特征在于:所述的坯體遞送裝置I包括遞送裝置I支架(3)、遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)、遞送裝置I伸縮動(dòng)力源(5)、遞送裝置I導(dǎo)套(6)、遞送裝置I導(dǎo)桿(7)、遞送裝置I吸盤(8);遞送裝置I支架(3)上安裝有遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)、遞送裝置I伸縮動(dòng)力源(5)、遞送裝置I導(dǎo)套(6);所述的遞送裝置I支架(3)的頂部安裝有遞送裝置I伸縮動(dòng)力源(5)，遞送裝置I伸縮動(dòng)力源(5)與遞送裝置I導(dǎo)桿(7)相連接，控制遞送裝置I導(dǎo)桿(7)上下運(yùn)動(dòng)；所述的遞送裝置I導(dǎo)桿(7)為中空管狀結(jié)構(gòu)，中空部分與真空管連通，其末端設(shè)有與中空結(jié)構(gòu)連通的遞送裝置I吸盤(8);所述的遞送裝置I導(dǎo)套(6)安裝于遞送裝置I支架(3)底部，與遞送裝置I導(dǎo)桿(7)相配合；遞送裝置I支架(3)通過滑塊安裝于機(jī)架(I)上的滑軌(2)上，在遞送裝置I驅(qū)動(dòng)電機(jī)(4)的驅(qū)動(dòng)下沿著導(dǎo)軌做進(jìn)給運(yùn)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備，其特征在于:還包括坯體遞送裝置II，所述的坯體遞送裝置II包括遞送裝置II支架(25)、遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)(26)、遞送裝置II伸縮動(dòng)力源(27)、遞送裝置II導(dǎo)套(28)、遞送裝置II導(dǎo)桿(29)、遞送裝置II吸盤(30);遞送裝置II支架(25)上安裝有遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)(26)、遞送裝置II伸縮動(dòng)力源(27)、遞送裝置II導(dǎo)套(28);所述的遞送裝置II支架(25)的頂部安裝有遞送裝置II伸縮動(dòng)力源(27)，遞送裝置II伸縮動(dòng)力源(27)與遞送裝置II導(dǎo)桿(29)相連接，控制遞送裝置II導(dǎo)桿(29)上下運(yùn)動(dòng)；所述的遞送裝置II導(dǎo)桿(29)為中空管狀結(jié)構(gòu)，中空部分與真空管連通，其末端設(shè)有與中空結(jié)構(gòu)連通的遞送裝置II吸盤(30);所述的遞送裝置II導(dǎo)套(28)安裝于遞送裝置II支架(25)底部，與遞送裝置II導(dǎo)桿(29)相配合；遞送裝置II支架(25)通過滑塊安裝于機(jī)架(I)上的滑軌(2)上，在遞送裝置II驅(qū)動(dòng)電機(jī)(26)的驅(qū)動(dòng)下沿著導(dǎo)軌做進(jìn)給運(yùn)動(dòng)。
6.如權(quán)利要求5所述的陶瓷坯體上釉前處理設(shè)備，其特征在于:還包括傳送帶(31)，所述的坯體遞送裝置II將上釉前處理結(jié)束后的陶瓷坯體送至傳送帶(31)，送至下一工序。
7.一種陶瓷坯體上釉前處理方法，其特征在于包括以下步驟: A、坯體遞送裝置I通過遞送裝置I吸盤(8)的真空抽取將陶瓷坯體吸起，輸送到蠟盤(9)上，控制遞送裝置I吸盤(8)的下降距離，將陶瓷坯體底邊浸入蠟液； B、坯體遞送裝置I將浸蠟后的陶瓷坯體輸送至掃塵裝置吸盤(13)上，坯體遞送裝置I停止真空吸取，遞送裝置I吸盤(8)上升離開陶瓷坯體，掃塵裝置吸盤(13)通過真空吸住陶瓷坯體，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)至豎直方向，陶瓷坯體的外部和內(nèi)部分別與外掃塵掃(15)和內(nèi)掃塵掃(16 )接觸，掃塵吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(14)啟動(dòng)，驅(qū)動(dòng)掃塵裝置吸盤(13 )自轉(zhuǎn)，進(jìn)行掃/1、.土 ; C、掃塵結(jié)束后，掃塵轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向上轉(zhuǎn)動(dòng)復(fù)位，掃塵裝置吸盤(13)停止真空吸取，坯遞送裝置I吸盤(8)下降通過真空將陶瓷坯體吸住，輸送至噴水裝置吸盤(21)上，坯體遞送裝置I停止真空吸取，遞送裝置I吸盤(8)上升離開陶瓷坯體，噴水吸盤轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)向下轉(zhuǎn)動(dòng)至豎直方向，陶瓷坯體的外部和內(nèi)部分別對(duì)向內(nèi)噴嘴(23)和外噴嘴(24)，噴水裝置吸盤驅(qū)動(dòng)電機(jī)(22)啟動(dòng)，輸送至噴水裝置吸盤(21)自轉(zhuǎn)，同時(shí)開啟內(nèi)噴嘴(23)和外噴嘴(24)，向陶瓷坯體噴淋水洗； D、噴淋水洗結(jié)束后，即完成陶瓷坯體上釉前處理。
8.如權(quán)利要求7所述的陶瓷坯體上釉前處理方法，其特征在于還包括以下步驟: E、噴淋水洗結(jié)束后，坯遞送裝置II吸盤(30)下降通過真空將陶瓷坯體吸住，輸送至傳送帶(31),經(jīng)傳送帶(31)送至下一工序。
【文檔編號(hào)】C04B41/80GK103435368SQ201310332158
【公開日】2013年12月11日 申請(qǐng)日期:2013年8月2日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月2日
【發(fā)明者】梁康寧 申請(qǐng)人:廣西北流市智誠(chéng)陶瓷自動(dòng)化科技有限公司