具有降低的貴金屬含量的輸送玻璃纖維的裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種使用電源通過(guò)焦耳效應(yīng)加熱輸送熔融材料，尤其是玻璃的長(zhǎng)絲的裝置，包含側(cè)板、裝有用于熔融材料流的噴嘴的底板和任選的上部格柵，其特征在于能夠與熔融材料接觸的這些部件的至少一種由以下構(gòu)成：由構(gòu)成基底的具有高于1450℃的熔點(diǎn)的鐵基合金制成的固體部件，在該基底的表面的至少一部分上形成的金屬連接層，覆蓋金屬連接層的陶瓷層，該金屬層與該陶瓷層構(gòu)成對(duì)構(gòu)成基底的合金的組分的擴(kuò)散阻隔層，和直接沉積在該陶瓷層上的由鉑或鉑合金制成的保護(hù)性涂層。
【專利說(shuō)明】具有降低的貴金屬含量的輸送玻璃纖維的裝置
[0001]本發(fā)明涉及一種輸送纖維的成纖設(shè)備，更特別涉及輸送熔融材料、尤其是玻璃的長(zhǎng)絲的裝置，并涉及制造這種裝置的方法。
[0002]常規(guī)上，成纖設(shè)備包含接收來(lái)自進(jìn)料器(canal)的熔融玻璃的玻璃流動(dòng)塊(flowblock),所述進(jìn)料器連接到在其中熔融玻璃的熔爐,套管塊(bushing block)和輸送熔融材料的長(zhǎng)絲的裝置:套管(bushing)或拉絲套管(drain bushing)。該裝置的上部可以包含能夠分布來(lái)自套管塊的玻璃流并通過(guò)焦耳效應(yīng)(effet Joule)加熱該玻璃的格柵(grille)。該裝置通過(guò)將兩個(gè)各自位于該裝置相對(duì)末端的端子與裝置外部的電連接部件相連使用電力變壓器來(lái)加熱。該端子通過(guò)焊接接合到套管側(cè)壁上，并且該端子突出以便連接到導(dǎo)電材料制成的夾爪形式的外部鏈接部件。該裝置的底步安裝著具有孔或噴嘴(t6tons)的板，熔融的玻璃流經(jīng)這些孔或噴嘴拉制成多根長(zhǎng)絲。
[0003]將直徑通常為5至33微米不等的這些長(zhǎng)絲收集為至少一個(gè)片層(nappe)，該片層聚集在組裝裝置上以形成至少一個(gè)絲束(πι--θ)，并例如卷繞起來(lái)。取決于其用途，也可以將該絲束截短(以形成短切絲束)，或投射到帶上(以形成連續(xù)的纖維氈)。獲得的產(chǎn)品主要用于各種強(qiáng)化應(yīng)用。
[0004]該套管或拉絲套管承受熔融玻璃與其運(yùn)行的高溫所施加的腐蝕性環(huán)境。這些裝置常規(guī)上由貴金屬，通常由鉬或鉬合金，非限制性地例如PtRh、PtAu或PtIr合金——經(jīng)時(shí)耐受極高溫度的導(dǎo)電材料——制成。但是，這些材料非常昂貴，并且看起來(lái)在經(jīng)濟(jì)上希望限制成纖設(shè)備中必需的貴金屬量。在上下文中，本發(fā)明提出了一種解決方案，能夠減少如套管或拉絲套管的裝置中的貴金屬量。
[0005]文獻(xiàn)US 2007/0178329描述了由鑰或鎢制成的包含基于鎢與選自銥、錸、鋨和釕的金屬的合金的保護(hù)性涂層的坩堝。但是，如鑰或鎢的金屬因其低抗氧化性而不能用于輸送玻璃纖維的裝置。在成纖過(guò)程中，裝置的外部部件暴露于大約1100至1400°C溫度下的空氣，并因此遭受顯著的氧化現(xiàn)象。此外，諸如錸、鋨或釕的金屬是稀有和昂貴的金屬，難以用于所需應(yīng)用。
[0006]專利申請(qǐng)WO 99/00336描述了穿刺式成纖旋轉(zhuǎn)器，其孔口為了限制腐蝕而覆蓋有基于鈷和鉻的合金。專利US 5，417，735提出了在旋轉(zhuǎn)器的孔口放置交替的鉻和鎳的層以形成耐腐蝕涂層。根據(jù)這些文獻(xiàn)，涂層直接沉積到金屬基底上。但是，對(duì)于高溫應(yīng)用而言，會(huì)遭遇擴(kuò)散問(wèn)題，并在界面處形成脆性的多孔結(jié)構(gòu)。此外，鉻-基涂層是不合意的，因?yàn)檫@種金屬存在在這些溫度下轉(zhuǎn)化為六價(jià)鉻的風(fēng)險(xiǎn)。
[0007]Johnson 在期刊 Glass, 1972 年 9 月，第 372 頁(yè)的“Platinum coating techniquedeveloped for glass industry”中提出了一種施加耐腐蝕鉬_基涂層的方法，該涂層沉積在成纖旋轉(zhuǎn)器的孔口表面處。如文獻(xiàn)WO 98/50313和US 5，385，595中所述，隨即在通常基于鉻、鎳和鈷的基底的金屬合金與鉬層之間的界面處形成了有害的擴(kuò)散區(qū)。描述了形成基于硼化物、碳化物或氮化物的擴(kuò)散阻隔層。這些解決方案的主要缺陷在于用于該成纖旋轉(zhuǎn)器的基于鈷或鎳的超合金在低于1400°C的溫度下熔融，并因此不能用于諸如套管或拉絲套管的裝置。[0008]本發(fā)明提出了輸送玻璃長(zhǎng)絲的裝置，該裝置至少部分由比目前使用的貴金屬更經(jīng)濟(jì)的材料制成，并具有良好的抗氧化性、與熔融玻璃接觸時(shí)更好的抗腐蝕性和更好的玻璃潤(rùn)濕性。該材料還必須是良好的電導(dǎo)體和熱導(dǎo)體，該套管或拉絲套管通過(guò)焦耳效應(yīng)加熱。
[0009]根據(jù)本發(fā)明，包含側(cè)板、裝有用于熔融材料流的噴嘴的底板，和任選地，上部格柵的通過(guò)使用電源的焦耳效應(yīng)加熱輸送熔融材料(尤其是玻璃)的裝置，其特征在于，能夠與熔融材料接觸的這些部件的至少一種由以下構(gòu)成:
-由構(gòu)成基底的具有高于1450°C的熔點(diǎn)的鐵-基合金制成的固體部件，
-在該基底的表面的至少一部分上形成的金屬連接(liaison)層，
-覆蓋金屬連接層的陶瓷層，該金屬層與該陶瓷層構(gòu)成對(duì)構(gòu)成基底的合金的組分的擴(kuò)散阻隔層，和
-直接沉積在該陶瓷層上的由鉬或鉬合金制成的保護(hù)性涂層。
[0010]根據(jù)本發(fā)明，可以想象的是，由鐵合金制成的基底獨(dú)特地由單獨(dú)的側(cè)板或這些板的一部分構(gòu)成。上部格柵，如果存在的話，也可以由鐵合金制成，并由此構(gòu)成該基底。裝有噴嘴的底板可以由鐵合金制成，而使熔融材料能夠流動(dòng)的噴嘴可以由鉬或鉬合金制成。
[0011]還可以設(shè)想，該底板與該噴嘴由鉬或鉬合金制成。在這種情況下，該基底對(duì)應(yīng)于該側(cè)板和任選存在的上部格柵。 [0012]優(yōu)選地，該金屬、陶瓷和保護(hù)性涂層覆蓋該基底的所有能夠與熔融材料接觸的面。
[0013]能夠與熔融材料接觸的該裝置的部分，如果它們并非由鐵合金制成，可以包含鉬或鉬合金制成的涂層，或由貴金屬或由能夠經(jīng)受與熔融材料接觸時(shí)的腐蝕(如果所討論的裝置的區(qū)域的溫度與使用所述合金或金屬相容的話)的任何其它合金或金屬制成。作為這種類型的合金或金屬，可以提及例如鈀、FeCrNi類型的合金或基于鈷或鎳的超合金。
[0014]該裝置在高于1200°C的溫度下的區(qū)域有利地由覆蓋有金屬、陶瓷和保護(hù)性涂層的鐵-基合金制成。
[0015]該基底優(yōu)選由FeCrAl合金制成。金屬鐵、鉻和鋁是這些合金的主要成分。
[0016]該FeCrAl合金可以以重量百分比為單位包含15%至25%的鉻、4.5%至6.5%的鋁，以及任選地至少一種選自碳、鎳、娃、猛、鈦、鶴、乾、鉭、錯(cuò)、鑭、鋪和鉿的元素，優(yōu)選這些元素各自的含量為最多I重量％，余量為鐵。
[0017]此外,該FeCrAl合金還可以包含2重量％至4重量％的鑰。
[0018]該擴(kuò)散阻隔層包含至少兩個(gè)層，第一層是金屬連接層，第二層是陶瓷層。優(yōu)選地，該陶瓷層由用氧化釔和/或用氧化鎂穩(wěn)定的氧化鋯制成。
[0019]氧化釔在該氧化鋯中的含量為5重量％至30重量％，優(yōu)選為8重量％至20重量％。
[0020]氧化鎂在該氧化鋯中的含量為4重量％至30重量％，優(yōu)選為6重量％至22重量％。
[0021]該金屬連接層由FeCrAl合金制成，并具有100至300 Mm的厚度。
[0022]沉積在該金屬連接層上的陶瓷層具有200至400 Mm的厚度。
[0023]根據(jù)本發(fā)明，鉬或鉬合金的層具有200至500 Mm、優(yōu)選250至350 Mm的厚度。
[0024]根據(jù)一個(gè)實(shí)施方案，側(cè)板和任選存在的上部格柵由鐵合金制成并覆蓋有金屬、陶瓷和保護(hù)性涂層，包含該噴嘴的底板由鉬或鉬合金制成。
[0025]根據(jù)另一個(gè)實(shí)施方案，側(cè)板、任選存在的上部格柵和底板由鐵合金制成并覆蓋有金屬、陶瓷和保護(hù)性涂層，該噴嘴由鉬或鉬合金制成。[0026]本發(fā)明還涉及制造輸送熔融材料，尤其是玻璃的長(zhǎng)絲的裝置的方法，其中構(gòu)成擴(kuò)散阻隔層的層通過(guò)選自超音速火焰噴涂、真空等離子噴涂或大氣等離子噴涂的技術(shù)沉積。
[0027]有利地，在沉積金屬連接層后，在沉積陶瓷層之前，在900°C至1000°C的溫度下進(jìn)行空氣中的熱處理2至5小時(shí)。
[0028]為了制造本發(fā)明的裝置，通過(guò)使用非消耗電極的電弧焊、激光焊、電子束焊接或擴(kuò)散焊接將并非由鐵合金制造的部件焊接到鐵-基合金上。
[0029]現(xiàn)在將參照附圖更詳細(xì)地描述本發(fā)明，其中:
-圖1示意性描述了本發(fā)明的輸送熔融材料長(zhǎng)絲的裝置的橫截面圖；
-圖2顯示了已經(jīng)在1300°C下暴露于空氣持續(xù)100小時(shí)的保護(hù)性涂層的顯微鏡觀察結(jié)果，以模擬套管的運(yùn)行條件。
[0030]圖1是輸送熔融玻璃的長(zhǎng)絲的裝置的橫截面圖，其常規(guī)上包含裝有多個(gè)在噴嘴6中鉆取的孔以使得熔融材料能夠流動(dòng)并拉伸成多根長(zhǎng)絲的底板5，上部格柵以及側(cè)板。
[0031]根據(jù)本發(fā)明，該裝置的至少一部分由鐵合金制成。為了承受高溫，該合金必須具有高于該裝置運(yùn)行溫度的熔點(diǎn)，即高于1450°C。該裝置通過(guò)將兩個(gè)各自位于該裝置相對(duì)末端的端子連接到外部電連接部件上使用電力變壓器通過(guò)焦耳效應(yīng)來(lái)加熱。這種類型的加熱可能導(dǎo)致存在局部溫度接近1400°C的熱點(diǎn)。
[0032]用作該基底的構(gòu)成材料的合金是鐵合金，尤其是FeCrAl合金。這三種元素是主要元素；在該合金中還可以存在周期表的其它元素作為次要成分，例如碳、鎳、硅、錳、鑰、鈦、鶴、乾、鉭、錯(cuò)、鑭、鋪和鉿。
[0033]例如，該鐵-基合金以重量百分比為單位包含20.5%至23.5%的鉻、5.8%的鋁、最多0.7%的硅、最多0.4%的錳、最多0.08%的碳，余量為鐵。
[0034]例如可以提及具有下列組成的合金:22%的鉻、5.8%的鋁、最多0.7%的硅、最多
0.4%的錳、最多0.08%的碳，余量為鐵。這種合金稱為Kanthal APM?。其熔點(diǎn)為1500°C，并且其具有良好的高溫尺寸穩(wěn)定性。
[0035]其還可以以重量百分比為單位包含20.5%至23.5%的鉻、5%的鋁、3%的鑰、最多
0.7%的硅、最多0.4%的錳、最多0.08%的碳，余量為鐵。
[0036]非常優(yōu)選地，所用合金的組成如下:21%的鉻、5%的鋁、3%的鑰、最多0.7%的硅、最多0.4%的錳、最多0.08%的碳，余量為鐵。這種合金稱為Kanthal APMT?。其熔點(diǎn)為1500°C，并且其也具有良好的高溫尺寸穩(wěn)定性，其機(jī)械強(qiáng)度通過(guò)鑰的存在得以強(qiáng)化。
[0037]Kanthal A_l?或Kanthal AF?類型的其它合金也可用作該基底的構(gòu)成材料。
[0038]可以使用氧化物分散強(qiáng)化合金，也稱為ODS合金。例如可以提及:
MA 956合金，包含20%的鉻和4.5%的鋁、0.3%的鈦、0.04%的碳和0.5%的氧化釔，余量為鐵，
PM 2000合金，包含20%的鉻和大約55%的鋁、0.3%的鈦、0.01%的碳和氧化釔，余量為鐵，或
ODM 751合金，包含16%的鉻和大約4.5%的鋁、0.6%的鈦、0.01%的碳、1%的鑰和氧化
宇乙，余量為鐵。
[0039]在圖1中所示的實(shí)施方案中，由上部格柵和側(cè)板構(gòu)成的該裝置的整個(gè)主體均由鐵合金(4)制成，并構(gòu)成該基底，該底板包含由鉬或鉬合金制成的噴嘴。[0040]不與熔融材料接觸的該裝置的某些部件可以任選保留粗基底的形式，由鐵合金制成，而不需要擴(kuò)散阻隔層或保護(hù)性涂層。
[0041]在基底與保護(hù)性涂層之間沉積的是擴(kuò)散阻隔層。這種阻隔層是必須的，以避免在基底和保護(hù)性涂層之間的界面處形成擴(kuò)散區(qū)域。其包含至少兩個(gè)不同性質(zhì)的層。直接沉積在基底(4)上的第一層(3)是金屬層，稱為金屬連接層。該金屬連接層具有與基底大致相同的組成。該層的成分因此基本上與該基底相同。由此，該金屬連接層與該基底的熔點(diǎn)接近，并且它們的熱膨脹系數(shù)具有相同的量級(jí)。但是，由于在下文中詳細(xì)解釋的沉積該金屬連接層的沉積技術(shù)，它們的顯微結(jié)構(gòu)不同。該金屬連接層的組成以重量百分比為單位包含15%至25%的鉻、4.5%至6.5%的鋁、任選2%至4%的鑰和任選至少一種選自碳、鎳、硅、錳、鈦、鶴、乾、鉭、錯(cuò)、鑭、鋪和鉿的元素，優(yōu)選這些元素各自的含量為最多I重量％，余量為鐵。
[0042]舉例而言，該金屬連接層具有下列組成:20.5%的鉻、6.4%的鋁、0.75%的硅、0.11%的猛，余量為鐵。
[0043]該金屬連接層通過(guò)噴涂法沉積在該基底上。例如可以提及超音速火焰(HVOF)噴涂、真空等離子噴涂(VPS)或大氣等離子噴涂(APS)。
[0044]這些技術(shù)能夠獲得100至300 Mffl的層厚度。如果需要獲得更大的厚度，可以預(yù)期連續(xù)沉積。
[0045]可以想象，為了改變?cè)摻饘龠B接層的組成，同時(shí)保持與基底的組成合金的相容性，并制造包含 幾個(gè)連續(xù)的具有略微不同組成的金屬層的疊層。
[0046]構(gòu)成擴(kuò)散阻隔層的第二層(2)是陶瓷層。所用陶瓷層優(yōu)選是通過(guò)氧化釔Y2O3和/或氧化鎂MgO穩(wěn)定的氧化錯(cuò)ZrO2。
[0047]引入到氧化錯(cuò)中的Y2O3或MgO的含量分別為5重量％至30重量％、優(yōu)選8重量％
至20重量％和4重量％至30重量％、優(yōu)選6重量％至22重量％。
[0048]該陶瓷層的厚度為200至400 Mm。其通過(guò)與用于沉積該金屬連接層的那些相同的技術(shù)進(jìn)行沉積，即超音速火焰噴涂、真空等離子噴涂或大氣等離子噴涂。
[0049]該金屬連接層能夠確保陶瓷層的良好粘附。
[0050]根據(jù)其熱膨脹系數(shù)選擇所用陶瓷。穩(wěn)定的氧化鋯具有相對(duì)熱膨脹系數(shù)與金屬連接層的膨脹相容的優(yōu)點(diǎn)。與上述金屬連接層的11 X KT6IT1相比，這些系數(shù)對(duì)用氧化鎂和用氧化釔穩(wěn)定的氧化鋯而言分別為10 X 10_6 1和5至10 X 10_6 IT1，該金屬連接層的組成包含20.5%的鉻、6.4%的鋁、0.75%的硅、0.11%的錳，余量為鐵。
[0051]在擴(kuò)散阻隔層上沉積由鉬或鉬合金制成的保護(hù)性涂層。對(duì)于與熔融玻璃接觸導(dǎo)致的腐蝕，該層確保保護(hù)該裝置。
[0052]該涂層通過(guò)熱噴涂沉積。這種類型的技術(shù)例如由Johnson Matthey開發(fā)并稱為ACT?技術(shù)，其能夠獲得厚度為200至500 Mm的由鉬或鉬-銠合金制成的涂層。
[0053]一旦用鉬-基保護(hù)性涂層覆蓋，該陶瓷層具有在高溫下相對(duì)于鉬保護(hù)性涂層保持惰性的優(yōu)點(diǎn)。這可能容易將鉬-基保護(hù)性涂層與擴(kuò)散阻隔層分離，因?yàn)樵谶@兩個(gè)之間不存在化學(xué)相互作用。由此分離的鉬層可以容易地再循環(huán)。
[0054]本發(fā)明的裝置可以通過(guò)具有不同組成的層的一系列沉積來(lái)制造。
[0055]基底的表面必須通過(guò)本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的任何表面制備技術(shù)清潔。可以在通過(guò)熱噴涂沉積金屬連接涂層之前用醇或用丙酮清洗并隨后用金剛砂噴砂。該清洗能夠產(chǎn)生表面粗糙度，并改善噴涂的層的粘附力。
[0056]一旦沉積該金屬連接層，可以在空氣中熱處理該基底-金屬連接層疊層。這種處理在900°C至1000°C的溫度下進(jìn)行，持續(xù)時(shí)間2至5小時(shí)，并能夠在金屬連接層的表面上產(chǎn)生氧化鋁的層。氧化鋁層改善了抗高溫氧化性。由此，與大氣接觸的該裝置的部件保持穩(wěn)定，而不像用難熔金屬如鑰或鎢所發(fā)生的那樣。
[0057]并非由鐵-基合金制造的該裝置的部件可以有利地焊接到該裝置的其余部分上。
[0058]可以設(shè)想的焊接技術(shù)是使用非消耗電極的電弧焊(鎢惰性氣體或TIG焊接)、激光焊、電子束焊接或擴(kuò)散焊接。
[0059]如果必要的話，由此可以拆開這些部件并再循環(huán)它們。
[0060]圖2顯示了獲自涂有保護(hù)性層(I)和擴(kuò)散阻隔層的基底(4)的顯微鏡觀察的照片。該陶瓷層(2)是Zr02-8%Y203的層。該金屬連接層(3)在表面處略微被氧化，因?yàn)橐呀?jīng)形成氧化鋁薄層并在照片中顯示為深色區(qū)域。由于該金屬連接層與該基底的組成基本相同，這兩個(gè)層之間的區(qū)別 在圖2中難以看出。
【權(quán)利要求】
1.一種使用電源通過(guò)焦耳效應(yīng)加熱輸送熔融材料，尤其是玻璃的長(zhǎng)絲的裝置，包含側(cè)板、裝有用于熔融材料流的噴嘴的底板和任選的上部格柵，其特征在于能夠與熔融材料接觸的這些部件的至少之一由以下構(gòu)成: -由構(gòu)成基底的具有高于1450°c的熔點(diǎn)的鐵-基合金制成的固體部件， -在該基底的表面的至少一部分上形成的金屬連接層， -覆蓋金屬連接層的陶瓷層，該金屬層與該陶瓷層構(gòu)成對(duì)構(gòu)成基底的合金組分的擴(kuò)散阻隔層，和 -直接沉積在該陶瓷層上的由鉬或鉬合金制成的保護(hù)性涂層。
2.如權(quán)利要求1所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該金屬、陶瓷和保護(hù)性涂層覆蓋該基底的所有能夠與熔融材料接觸的面。
3.如權(quán)利要求1或2所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該基底由FeCrAl合金制成。
4.如權(quán)利要求1至3之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該FeCrAl合金以重量百分比為單位包含15%至25%的鉻、4.5%至6.5%的招，以及任選地至少一種選自碳、鎳、硅、錳、鈦、鶴、乾、鉭、錯(cuò)、鑭、鋪和鉿的元素，優(yōu)選這些元素各自的含量為最多I重量％，余量為鐵。
5.如權(quán)利要求4所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該FeCrAl合金此外還包含2重量％至4重量％的鑰。
6.如前述權(quán)利要求之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該陶瓷層由用氧化釔和/或用氧化鎂穩(wěn)定的氧化鋯制成。
7.如權(quán)利要求6所要求保護(hù)的裝置，其特征在于氧化釔在該氧化鋯中的含量為5重量％至30重量％，優(yōu)選為8重量％至20重量％。
8.如權(quán)利要求6所要求保護(hù)的裝置，其中氧化鎂在該氧化鋯中的含量為4重量％至30重量％，優(yōu)選為6重量％至22重量％。
9.如權(quán)利要求1至8之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該金屬連接層是FeCrAl合金。
10.如權(quán)利要求1至9之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該金屬連接層具有100至300 Mm的厚度。
11.如權(quán)利要求1至10之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該陶瓷層具有200至400Mm的厚度。
12.如權(quán)利要求1至11之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于該鉬或鉬合金的層具有200至500 Mm的厚度。
13.如權(quán)利要求1至12之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于側(cè)板和任選存在的上部格柵由鐵合金制成并覆蓋有金屬、陶瓷和保護(hù)性涂層，包含該噴嘴的底板由鉬或鉬合金制成。
14.如權(quán)利要求1至12之一所要求保護(hù)的裝置，其特征在于側(cè)板、任選存在的上部格柵和底板由鐵合金制成并覆蓋有金屬、陶瓷和保護(hù)性涂層，該噴嘴由鉬或鉬合金制成。
15.制造如權(quán)利要求1至14所要求保護(hù)的輸送熔融材料，尤其是玻璃的長(zhǎng)絲的裝置的方法，其中構(gòu)成擴(kuò)散阻隔層的層通過(guò)選自超音速火焰噴涂、真空等離子噴涂或大氣等離子噴涂的技術(shù)沉積。
16.如權(quán)利要求15所要求保護(hù)的方法，其中在沉積金屬連接層后，在沉積陶瓷層之前，在900°C至1000°C的溫度下進(jìn)行空氣中的熱處理2至5小時(shí)。
17.如權(quán)利要求15或16所要求保護(hù)的方法，其中通過(guò)使用非消耗電極的電弧焊、激光焊、電子束焊接或擴(kuò)散 焊接將并非由鐵合金制造的該裝置的部件焊接到該基底上。
【文檔編號(hào)】C03B37/095GK103998385SQ201280049059
【公開日】2014年8月20日 申請(qǐng)日期:2012年10月2日 優(yōu)先權(quán)日:2011年10月6日
【發(fā)明者】C.孔多爾夫, A.布勒爾 申請(qǐng)人:圣戈班艾德福斯公司