壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法及其陶器的制造方法
【專利摘要】壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法，其特征在于：第一步，陶土制作坯體工藝，且在坯體底部設置壁圈內(nèi)陷結(jié)構(gòu)，壁足部位比壁圈和壁心部位外凸；第二步，制作耐火材料的支架2，且支架上的支撐部與壁圈相對應；第三步，將支架支撐在待燒的配體上，進行燒制，支架的支撐部恰好與壁圈對齊支撐坯體燒制；第四步，燒制好后除壁圈外，陶器本體1外表面均上釉。壁圈為圓形，與之對應的支架2的支撐部也為圓形。壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法加工的陶器，陶器底部的壁圈12內(nèi)陷，且壁足11部位比壁圈和壁心13部位外凸。本發(fā)明的有益效果：壁圈部分內(nèi)陷，壁足部位比壁圈部分外凸，壁足外表面光滑，本發(fā)明在桌面等其他表面摩擦時，不會對桌面或其它表面形成磨痕。
【專利說明】壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法及其陶器
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種陶器(瓷器)的加工方法及其產(chǎn)品，特別涉及一種壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法。
【背景技術(shù)】
[0002]陶器的燒制，中國已經(jīng)有上千年的歷史，我們生活中經(jīng)常用的瓷碗、茶杯、罐等等，都是陶瓷燒制的。但是自古以來，陶瓷的底部，也就是沒有上釉的一圈(稱之為壁圈)，也就是在燒制的時候與被支撐物接觸的部位。底部的壁圈部位都比較粗糙，而且都是向下凸起的，這樣在放置在桌面或其他表面，來回滑動幾下，就會磨損桌面等其他表面，這樣造成其他與之接觸的表面留有劃痕。如圖1所示，陶器本體I的底部壁足11下方是壁圈12，壁圈12外凸與桌面等表面接觸。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是:
[0005]壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法，
[0006]第一步，陶土制作坯體工藝，且在坯體底部設置壁圈內(nèi)陷結(jié)構(gòu)，壁足部位比壁圈和壁心部位外凸；
[0007]第二步，制作耐火材料的支架，且支架上的支撐部與壁圈相對應；
`[0008]第三步，將支架支撐在待燒的配體上，進行燒制，支架的支撐部恰好與壁圈對齊支撐坯體燒制；
[0009]第四步，燒制好后除壁圈外，陶器外表面均上釉。
[0010]壁圈為圓形，與之對應的支架的支撐部也為圓形。
[0011]壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法加工的陶器，陶器底部的壁圈內(nèi)陷，且壁足部位比壁圈和壁心部位外凸。
[0012]本發(fā)明的有益效果:壁圈部分內(nèi)陷，壁足部位比壁圈部分外凸，壁足外表面光滑，本發(fā)明的工藝燒制的瓷器在桌面等其他表面摩擦時，不會對桌面或其它表面形成磨痕。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013]圖1是現(xiàn)有技術(shù)的陶器的剖視圖；
[0014]圖2是本發(fā)明的陶器的剖視圖。
【具體實施方式】
[0015]如圖2所示，壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法:
[0016]第一步，陶土制作坯體工藝，且在坯體底部設置壁圈內(nèi)陷結(jié)構(gòu)，壁足部位比壁圈和壁心部位外凸；[0017]第二步，制作耐火材料的支架2，且支架上的支撐部與壁圈相對應；
[0018]第三步，將支架支撐在待燒的配體上，進行燒制，支架的支撐部恰好與壁圈對齊支撐坯體燒制；
[0019]第四步，燒制好后除壁圈外，陶器本體I外表面均上釉。壁圈為圓形，與之對應的支架2的支撐部也為圓形。
[0020]壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法加工的陶器，陶器底部的壁圈12內(nèi)陷，且壁足11部位比壁圈和壁心13部位外凸。
[0021]本發(fā)明最重要之處是托燒時經(jīng)過隔離處理后不會在陶器的托燒處留下托燒的任何痕跡。 [0022]本發(fā)明的有益效果:壁圈部分內(nèi)陷，壁足部位比壁圈部分外凸，壁足外表面光滑，本發(fā)明的工藝燒制的瓷器在桌面等其他表面摩擦時，不會對桌面或其它表面形成磨痕。
[0023]圖2所示意的圖只是一種實施例的圖，不代表本專利的限制范圍，只要采用壁圈內(nèi)陷的都是本專利的保護范圍。
【權(quán)利要求】
1.壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法，其特征在于， 第一步，陶土制作坯體工藝，且在坯體底部設置壁圈內(nèi)陷結(jié)構(gòu)，壁足部位比壁圈和壁心部位外凸； 第二步，制作耐火材料的支架，且支架上的支撐部與壁圈相對應； 第三步，將支架支撐在待燒的配體上，進行燒制，支架的支撐部恰好與壁圈對齊支撐坯體燒制； 第四步，燒制好后除壁圈外，陶器外表面均上釉。
2.如權(quán)利要求1所述的壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法，其特征在于，壁圈為圓形，與之對應的支架的支撐部也為圓形。
3.采用權(quán)利要求1或2所述的壁圈內(nèi)陷的陶器加工方法加工的陶器，其特征在于，陶器底部的壁圈內(nèi)陷，且壁足 部位比壁圈和壁心部位外凸。
【文檔編號】C04B33/34GK103664139SQ201210322234
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2012年9月3日 優(yōu)先權(quán)日:2012年9月3日
【發(fā)明者】朱小杰 申請人:朱小杰