專利名稱：在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒?br> 技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ绕涫巧婕耙环N在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ā?br> 背景技術(shù)：
在人們的日常生活中的許多場(chǎng)合，均會(huì)遇到使用小尺寸光學(xué)窗口的情況。為了提高這種小尺寸光學(xué)窗口器件強(qiáng)度，通常使用鋼化玻璃作為基片，并通過在其表面化鍍?cè)鐾改さ姆椒▉硖岣咚墓鈱W(xué)透過率。但是，人們?cè)谌粘５纳a(chǎn)加工過程中發(fā)現(xiàn)，由于這些光學(xué)窗口器件的尺較小，因此基片通常是使用光學(xué)玻璃進(jìn)行化學(xué)鋼化后制成的。而通過鍍膜制成光學(xué)窗口器件成品后其鋼化強(qiáng)度通常會(huì)受到一定程度的破壞。我們使用目前常用的三種鋼化檢測(cè)方法對(duì)一塊經(jīng)化學(xué)鋼化后的光學(xué)玻璃樣品在單面鍍膜前后的鋼化強(qiáng)度進(jìn)行檢測(cè)后發(fā)現(xiàn)，除鋼化深度和表面應(yīng)力沒有明顯變化外，彎曲強(qiáng)度由1201Mpa下降到942Mpa，抗跌落高度由1500毫米下降到600毫米。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ軌蛟趯?shí)現(xiàn)光學(xué)性能的前提下，保證對(duì)化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的鋼化性能具有較小的影響。本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒?，包括用光學(xué)鍍膜機(jī)在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面鍍?cè)鐾改?，在所述的光學(xué)玻璃基片的表面與所述的增透膜層之間設(shè)置一層緩沖膜層，根據(jù)所述的增透膜層的應(yīng)力特性，將所述的緩沖膜層的應(yīng)力特性設(shè)置成與所述的增透膜層的應(yīng)力特性相反，所述的緩沖膜層的應(yīng)力大小等于所述的增透膜層的應(yīng)力的大小±5%。將所述的增透膜層的應(yīng)力設(shè)置成張應(yīng)力，所述的緩沖膜層的應(yīng)力設(shè)置成壓應(yīng)力。用厚度為130 ISOnm的SiO2層構(gòu)成所述的緩沖膜層，用至少兩層復(fù)合膜層構(gòu)成所述的增透膜層，所述的復(fù)合膜層采用先鍍一層高折射率層，再鍍一層低折射率層的方式構(gòu)成，控制所述的高折射率層的厚度為所述的復(fù)合膜層厚度的5% 15%。所述的緩沖膜層的厚度最好為150nm。所述的高折射率層使用Hf02、Zr02或Ti3O5材料制成，所述的低折射率層使用SiO2 材料制成。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于通過在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面與增透膜層之間設(shè)置一層緩沖膜層，并根據(jù)增透膜層的應(yīng)力特性，將緩沖膜層的應(yīng)力特性設(shè)置成與增透膜層的應(yīng)力特性相反，緩沖膜層的應(yīng)力大小等于增透膜層的應(yīng)力的大小 ±5%，可以有效地防止鍍膜對(duì)光學(xué)窗口器件的鋼化強(qiáng)度造成的破壞；而根據(jù)鋼化玻璃本身的應(yīng)力特性，最好將增透膜層的應(yīng)力設(shè)置成張應(yīng)力，將緩沖膜層的應(yīng)力設(shè)置成壓應(yīng)力。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。實(shí)施例一一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒?，在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面先用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍兩層復(fù)合膜層構(gòu)成增透膜層，復(fù)合膜層采用先鍍一層HfO2層，再鍍一層SiO2層的方式構(gòu)成，控制HfO2層的厚度為復(fù)合膜層厚度的6%。實(shí)施例二 一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ谟苫瘜W(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面先用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍一層130nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍兩層復(fù)合膜層構(gòu)成增透膜層，復(fù)合膜層采用先鍍一層HfO2層，再鍍一層SiO2層的方式構(gòu)成，控制HfO2層的厚度為復(fù)合膜層厚度的15%。實(shí)施例三一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒?，在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面先用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍一層180nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍兩層復(fù)合膜層構(gòu)成增透膜層，復(fù)合膜層采用先鍍一層HfO2層，再鍍一層SiO2層的方式構(gòu)成，控制HfO2層的厚度為復(fù)合膜層厚度的13%。實(shí)施例四一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒?，在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面先用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍兩層復(fù)合膜層構(gòu)成增透膜層，復(fù)合膜層采用先鍍一層ZrO2層，再鍍一層SiO2層的方式構(gòu)成，控制HfO2層的厚度為復(fù)合膜層厚度的10%。實(shí)施例五一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒?，在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面先用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍兩層復(fù)合膜層構(gòu)成增透膜層，復(fù)合膜層采用先鍍一層ZrO2層，再鍍一層SiO2層的方式構(gòu)成，控制ZrO2層的厚度為復(fù)合膜層厚度的13%。實(shí)施例六一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ谟苫瘜W(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面先用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍一層150nm的SiO2緩沖膜層，然后再用光學(xué)鍍膜機(jī)鍍兩層復(fù)合膜層構(gòu)成增透膜層，復(fù)合膜層采用先鍍一層Ti3O5層，再鍍一層SiO2層的方式構(gòu)成，控制Ti3O5層的厚度為復(fù)合膜層厚度的8%。
權(quán)利要求
1.一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎㄓ霉鈱W(xué)鍍膜機(jī)在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面鍍?cè)鐾改?，其特征在于在所述的光學(xué)玻璃基片的表面與所述的增透膜層之間設(shè)置一層緩沖膜層，根據(jù)所述的增透膜層的應(yīng)力特性，將所述的緩沖膜層的應(yīng)力特性設(shè)置成與所述的增透膜層的應(yīng)力特性相反，所述的緩沖膜層的應(yīng)力大小等于所述的增透膜層的應(yīng)力的大小±5%。
2.如權(quán)利要求I所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ涮卣髟谟趯⑺龅脑鐾改拥膽?yīng)力設(shè)置成張應(yīng)力，所述的緩沖膜層的應(yīng)力設(shè)置成壓應(yīng)力。
3.如權(quán)利要求I所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒?，其特征在于用厚度?30 ISOnm的SiO2層構(gòu)成所述的緩沖膜層，用至少兩層復(fù)合膜層構(gòu)成所述的增透膜層，所述的復(fù)合膜層采用先鍍一層高折射率層，再鍍一層低折射率層的方式構(gòu)成，控制所述的高折射率層的厚度為所述的復(fù)合膜層厚度的5% 15%。
4.如權(quán)利要求3所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ涮卣髟谟谒龅木彌_膜層的厚度為150nm。
5.如權(quán)利要求3或4所述的一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎ涮卣髟谟谒龅母哒凵渎蕦邮褂肏f02、Zr02或Ti3O5材料制成，所述的低折射率層使用SiO2材料制成。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種在化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃表面鍍?cè)鐾改さ姆椒ǎㄓ霉鈱W(xué)鍍膜機(jī)在由化學(xué)法鋼化的光學(xué)玻璃基片的表面鍍?cè)鐾改?，特點(diǎn)是在光學(xué)玻璃基片的表面與增透膜層之間設(shè)置一層緩沖膜層，根據(jù)增透膜層的應(yīng)力特性，將緩沖膜層的應(yīng)力特性設(shè)置成與增透膜層的應(yīng)力特性相反，緩沖膜層的應(yīng)力大小等于增透膜層的應(yīng)力的大小±5％，優(yōu)點(diǎn)是可以有效地防止鍍膜對(duì)光學(xué)窗口器件的鋼化強(qiáng)度造成的破壞。
文檔編號(hào)C03C17/34GK102584027SQ20121000569
公開日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2012年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月9日
發(fā)明者楊勇, 毛磊, 肖博智, 陳亞君 申請(qǐng)人:寧波永新光學(xué)股份有限公司