專利名稱：可異地加工且可鋼化的低輻射玻璃的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種鍍膜玻璃，尤其是涉及一種可異地加工且可鋼化的低輻射玻璃
背景技術(shù)：
由于磁控濺射方法已經(jīng)廣泛用于大面積鍍膜，成為生產(chǎn)薄膜玻璃產(chǎn)品的主流技 術(shù)，而膜層材料的選擇對(duì)于玻璃產(chǎn)品的性能至關(guān)重要，尤其是鍍膜玻璃表層的電解質(zhì)層的 材料關(guān)系到產(chǎn)品的存放時(shí)間、性能及鋼化過(guò)程中玻璃顏色的穩(wěn)定性，傳統(tǒng)的可異地加工且 可鋼化的低輻射玻璃的表層的第三電介質(zhì)層的材料為&02，此種材料使得產(chǎn)品存放時(shí)間 短、性能及鋼化過(guò)程中玻璃顏色的穩(wěn)定性不高。
發(fā)明內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種能有效提高玻璃存放 時(shí)間，且在鋼化過(guò)程中玻璃的顏色穩(wěn)定性高的可異地加工且可鋼化的低輻射玻璃。本實(shí)用新型是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的一種可異地加工且可鋼化的低輻射玻璃，包括浮法玻璃和鍍膜層，鍍膜層包括以 浮法玻璃為基礎(chǔ)層向外依次鍍覆的第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、阻隔紅外線層、第二保護(hù) 層、第二電介質(zhì)層和第三電介質(zhì)層，其中，第一電解質(zhì)層和第二電解質(zhì)層的材料為Si3N4，第 一保護(hù)層和第二保護(hù)層的材料為NiCr合金，而阻隔紅外線層則為Ag層，其特征在于，所述 的第三電介質(zhì)層的材料為Nb205。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型通過(guò)采用新材料Nb205作為第三電解質(zhì)層 材料，其鋼化后膜層更耐久，不僅可以提高玻璃的存放時(shí)間，抗氧化性能好，而且在玻璃的 鋼化過(guò)程中玻璃自身的顏色不會(huì)受到高溫的影響而發(fā)生太大變化，使其使用性能達(dá)到了最 佳，且鍍膜玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率大于60 %，而玻璃面反射率為14 %左右。

圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。圖中主要附圖標(biāo)記含義為1、浮法玻璃 2、第一電介質(zhì)層3、第一保護(hù)層4、阻隔紅外線層 5、第二保護(hù)層6、第二電介質(zhì)層7、第三電介質(zhì)層。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖，詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示可異地加工且可鋼化的低輻射玻璃，包括浮法玻璃1和鍍膜層，鍍膜層包括以浮法玻璃1為基礎(chǔ)層向外依次鍍覆的第一電介質(zhì)層2、第一保護(hù)層3、阻隔紅外線 層4、第二保護(hù)層5、第二電介質(zhì)層6和第三電介質(zhì)層7，其中，第一電解質(zhì)層2和第二電解質(zhì) 層6的材料為Si3N4，第一保護(hù)層3和第二保護(hù)層5的材料為NiCr合金，而阻隔紅外線層4 則為Ag層，且所述的第三電介質(zhì)層7的材料為Nb205。其中，第一電解質(zhì)層2的作用為a、阻止玻璃中的Na+向膜層中滲透；b、調(diào)整玻璃 的顏色。第一保護(hù)層3和第二保護(hù)層5的主要作用是保護(hù)Ag層不被氧化、延長(zhǎng)玻璃的存放 時(shí)間。阻隔紅外線層4的作用為a、可以降低輻射率，增加保溫或隔熱效果。
而第二電解質(zhì)層6和第三電解質(zhì)層7的主要作用是a、提高玻璃的物理和化學(xué)性 能；b、調(diào)整玻璃的顏色、提高玻璃的機(jī)械性能；C、保護(hù)整個(gè)膜層，因此，第二電解質(zhì)層6和 第三電解質(zhì)層7的材料至關(guān)重要。此外，本實(shí)用新型的生產(chǎn)工藝為首先選用新鮮的浮法玻璃1，然后通過(guò)清洗機(jī)清 洗達(dá)到要求后，按順序依次鍍制第一電介質(zhì)層2、第一保護(hù)層3、阻隔紅外線層4、第二保護(hù) 層5、第二電介質(zhì)層6和第三電介質(zhì)層7，最后經(jīng)噴塑膠粉粒處理后用PE布密封包裝。更為具體的是其中第一電介質(zhì)層2通過(guò)交流雙靶濺射形成，其中濺射條件為背 景真空度在3. OX IO-3Hibar條件下，充入Ar和N2的混合氣體(其中Ar和N2的體積比為 Ar :N2==30:35)o第二電介質(zhì)層6也是通過(guò)交流雙靶濺射形成，其中濺射條件為背景真空度在 3. 8X l(T3mbar條件下，充入Ar和02的混合氣體(其中Ar和02的體積比為Ar :02==40:60)。第三電介質(zhì)層7也是通過(guò)交流雙靶濺射形成，其中濺射條件為背景真空度 在3. 1 X IO-3Hibar條件下，充入Ar和02的混合氣體(其中Ar和02的體積比為Ar 02==57:4. 5)。第一保護(hù)層3和第二保護(hù)層5通過(guò)直流單靶材濺射形成，其中第一保護(hù)層3濺射 條件為背景真空度在3. 2X10-3mbar條件下，充入純Ar ；第二保護(hù)層5濺射條件為背 景真空度在2. 85 X IO-3Hibar條件下，充入純Ar。而Ag層4也是通過(guò)直流單靶材濺射形成，其中濺射條件為背景真空度在 2. 5 X KT3Hibar條件下，充入純Ar。具體實(shí)施例1 第一電介質(zhì)層2和第二電介質(zhì)層6選用Si3N4，其中第一電介質(zhì)層2的膜層厚度為 20 21nm，而第二電介質(zhì)層6的膜層厚度為30 40nm，而第一保護(hù)層3和第二保護(hù)層5選 用NiCr，其中第一保護(hù)層3和第二保護(hù)層5的膜層厚度為3 8nm，此外，阻隔紅外線層4 即銀層的膜層厚度為10 20nm，第三電介質(zhì)層7選用Nb205，膜層厚度為20 40nm本實(shí)用新型的生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單，降低了生產(chǎn)成本，并極大地降低了玻璃表面的輻射 率，并提高了玻璃對(duì)光譜的選擇性，使其使用性能達(dá)到了最佳。以上已以較佳實(shí)施例公開(kāi)了本實(shí)用新型，然其并非用以限制本實(shí)用新型，凡采用 等同替換或者等效變換方式所獲得的技術(shù)方案，均落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1. 一種可異地加工且可鋼化的低輻射玻璃，包括浮法玻璃和鍍膜層，鍍膜層包括以浮 法玻璃為基礎(chǔ)層向外依次鍍覆的第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、 第二電介質(zhì)層和第三電介質(zhì)層，其中，第一電解質(zhì)層和第二電解質(zhì)層的材料為Si3N4，第一 保護(hù)層和第二保護(hù)層的材料為NiCr合金，而阻隔紅外線層則為Ag層，其特征在于，所述的 第三電介質(zhì)層的材料為Nb205。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種可異地加工且可鋼化的低輻射玻璃，包括浮法玻璃和鍍膜層，鍍膜層包括以浮法玻璃為基礎(chǔ)層向外依次鍍覆的第一電介質(zhì)層、第一保護(hù)層、阻隔紅外線層、第二保護(hù)層、第二電介質(zhì)層和第三電介質(zhì)層，第一電解質(zhì)層和第二電解質(zhì)層的材料為Si3N4，第一保護(hù)層和第二保護(hù)層的材料為NiCr合金，阻隔紅外線層則為Ag層，第三電介質(zhì)層的材料為Nb2O5。本實(shí)用新型通過(guò)采用新材料Nb2O5作為第三電解質(zhì)層材料，其鋼化后膜層更耐久，提高了玻璃的存放時(shí)間，抗氧化性能好，且在鋼化過(guò)程中玻璃自身顏色不會(huì)受到高溫的影響而發(fā)生太大變化，其使用性能達(dá)到了最佳，且鍍膜玻璃的可見(jiàn)光透過(guò)率大于60％，而玻璃面反射率為14％左右。
文檔編號(hào)C03C17/36GK201817409SQ201020545429
公開(kāi)日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2010年9月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月28日
發(fā)明者林嘉宏 申請(qǐng)人:林嘉宏