專利名稱：退膜后ito薄膜方阻值的控制方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種退膜后ITO薄膜方阻值的控制方法。
背景技術(shù)：
IT0 (Indium Tin Oxides)作為納米銦錫金屬氧化物，具有很好的導(dǎo)電性和透明性， 可以切斷對(duì)人體有害的電子輻射，紫外線及遠(yuǎn)紅外線。因此，噴涂在玻璃，塑料及電子顯示 屏上后，在增強(qiáng)導(dǎo)電性和透明性的同時(shí)切斷對(duì)人體有害的電子輻射及紫外、紅外。
在ITO的退膜工藝過(guò)程中，用目前的退膜方式，固定一個(gè)參數(shù)，退膜后方阻比退膜前要 增加50歐姆左右。由于原材料進(jìn)料有上下限標(biāo)準(zhǔn)，如果材料在上限的話，再經(jīng)過(guò)退膜處理最 終的方阻值可能就會(huì)超差。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是為了解決退膜后最終方阻的超差問(wèn)題以及利用退膜來(lái)控制其方阻的增 長(zhǎng)率，使原材料能通過(guò)兩次加工達(dá)到所需的預(yù)定值。
本發(fā)明的方法具體包括如下步驟 步驟一、封堵部分退膜段的噴淋； 步驟二、調(diào)節(jié)退膜段的滾輪速度； 步驟三、設(shè)定退膜藥水溫度； 步驟四、對(duì)耐酸油墨進(jìn)行沖洗退膜。
本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于使退膜從時(shí)間上進(jìn)行縮短，盡量保證在最短的時(shí)間里能使 IT0 FILM (IT0薄膜)退膜干凈，所以加快了退膜的速度并且縮短了退膜的行程。


圖l是本發(fā)明描述的退膜過(guò)程示意圖
具體實(shí)施例方式
3下面結(jié)合圖l具體描述本發(fā)明的實(shí)施方式。 實(shí)施例l
用堵頭4堵去前3排噴淋5 ，把退膜段滾輪1速度調(diào)至1819，退膜藥水溫度設(shè)定至30度， 對(duì)耐酸油墨3進(jìn)行沖洗退膜，退膜前ITO FILM 2方阻為350 Q \口，該條件下退膜后方阻升為370 ^n口，升高了20Q。
實(shí)施例2
堵去前3排噴淋，把退膜段滾輪1速度調(diào)至1819，退膜藥水溫度設(shè)定至37度，對(duì)耐酸油 墨3進(jìn)行沖洗退膜，退膜前ITO FILM 2方阻為350 0\口，該條件下退膜后方阻升為385 0\口， 升高了35Q。
實(shí)施例3
堵去前3排噴淋，把退膜段滾輪1速度調(diào)至1819，退膜藥水溫度設(shè)定至45度，對(duì)耐酸油 墨3進(jìn)行沖洗退膜，退膜前ITO FILM 2方阻為350 0\口，該條件下退膜后方阻升為400 0\口， 升高了50Q。
權(quán)利要求
1、一種退膜后ITO薄膜方阻值的控制方法，其特征在于，包括如下步驟步驟一、封堵部分退膜段的噴淋；步驟二、調(diào)節(jié)退膜段的滾輪速度；步驟三、設(shè)定退膜藥水溫度；步驟四、對(duì)耐酸油墨進(jìn)行沖洗退膜。
全文摘要
本發(fā)明的目的是為了解決退膜后最終方阻的超差問(wèn)題以及利用退膜來(lái)控制其方阻的增長(zhǎng)率，使原材料能通過(guò)兩次加工達(dá)到所需的預(yù)定值。本發(fā)明具體包括如下步驟步驟一、封堵部分退膜段的噴淋；步驟二、調(diào)節(jié)退膜段的滾輪速度；步驟三、設(shè)定退膜藥水溫度；步驟四、對(duì)耐酸油墨進(jìn)行沖洗退膜。本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于加快了退膜的速度并且縮短了退膜的行程。
文檔編號(hào)C03C17/23GK101462833SQ200710172470
公開(kāi)日2009年6月24日 申請(qǐng)日期2007年12月18日 優(yōu)先權(quán)日2007年12月18日
發(fā)明者唐民超 申請(qǐng)人:上海晨興電子科技有限公司