專利名稱：正反交錯提花面料的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種面料，尤其涉及一種制作服裝、玩具的面料，屬于紡織面料領域。
背景技術：
提花面料手感柔軟舒 適，透氣性能好，頗受人們的喜愛。現(xiàn)有的提花面料多為單面提花或雙面提花，層次感不強。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述不足，提供一種層次感強的正反交錯提花面料。本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的一種正反交錯提花面料，包括基布，所述基布的正反兩面均設有提花層，所述提花層包括若干個提花區(qū)域和非提花區(qū)域，所述提花區(qū)域呈塊狀，所述提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯對稱分布。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是正反交錯提花面料的正反面均設置交錯分布的提花區(qū)域和非提花區(qū)域，增強了面料的層次感。


圖I為本發(fā)明正反交錯提花面料的平面示意圖。圖2為圖I的A-A剖視圖。其中基布I、提花層2、提花區(qū)域21、非提花區(qū)域22。
具體實施例方式參見圖I和圖2，本發(fā)明涉及一種正反交錯提花面料，包括基布1，所述基布I的正反兩面均設有提花層2。所述提花層2包括若干個提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22，所述提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22均呈塊狀且交錯排列。位于正反兩面的提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22交錯對稱分布。
權利要求
1.一種正反交錯提花面料，包括基布(1)，所述基布(I)的正反兩面均設有提花層(2)，其特征在于所述提花層(2)包括若干個提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)，所述提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)交錯對稱分布。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種正反交錯提花面料，屬于紡織面料領域。一種正反交錯提花面料，包括基布(1)，所述基布(1)的正反兩面均設有提花層(2)，其特征在于所述提花層(2)包括若干個提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)，所述提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)交錯對稱分布。正反交錯提花面料的正反面均設置交錯分布的提花區(qū)域和非提花區(qū)域，增強了面料的層次感。
文檔編號D03D21/00GK102650090SQ201110047228
公開日2012年8月29日 申請日期2011年2月28日 優(yōu)先權日2011年2月28日
發(fā)明者趙振宇 申請人:趙振宇