一種新型環(huán)保清洗器的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種新型環(huán)保清洗器，包括控制柜、進料口、料箱清洗器、物料清洗機構(gòu)、出料口、底座、清洗電機和機架，所述控制柜設(shè)置在所述底座上，在控制柜上設(shè)有控制面板，所述機架位于控制柜的一側(cè)，清洗電機密置在機架的底部，出料口設(shè)置在清洗電機的上方，在出料口的上方連接物料清洗機構(gòu)，所述進料口位于機架的上方，在進料口內(nèi)設(shè)有所述料箱清洗器，在所述料箱清洗器內(nèi)設(shè)有料箱電機，所述進料口的下方與物料清洗機構(gòu)相連接。本發(fā)明設(shè)有兩套清洗系統(tǒng)。物料的清洗速率大大提高。
【專利說明】一種新型環(huán)保清洗器

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種環(huán)保機械設(shè)備，具體涉及一種新型環(huán)保清洗器。

【背景技術(shù)】
[0002] 目前，隨著社會的發(fā)展，人類對環(huán)保設(shè)備的需求量急劇增加，但清洗裝置的結(jié)構(gòu)不 合理，吞吐量小，造成資源浪費，滿足不了社會要求。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 本發(fā)明克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足，提出了一種新型環(huán)保清洗器，所述裝置設(shè)有兩套 清洗系統(tǒng)，物料的清洗速率大大提高。 本發(fā)明的技術(shù)方案為：一種新型環(huán)保清洗器，包括控制柜、進料口、料箱清洗器、物料清 洗機構(gòu)、出料口、底座、清洗電機和機架，所述控制柜設(shè)置在所述底座上，在控制柜上設(shè)有控 制面板，所述機架位于控制柜的一側(cè)，清洗電機密置在機架的底部，出料口設(shè)置在清洗電機 的上方，在出料口的上方連接物料清洗機構(gòu)，所述進料口位于機架的上方，在進料口內(nèi)設(shè)有 所述料箱清洗器，在所述料箱清洗器內(nèi)設(shè)有料箱電機，所述進料口的下方與物料清洗機構(gòu) 相連接。
[0004] 本發(fā)明具有如下有益效果： 1) 本發(fā)明設(shè)有兩套清洗系統(tǒng)，物料的清洗速率大大提高； 2) 本發(fā)明清洗效果好。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0005] 以下結(jié)合附圖和【具體實施方式】進一步說明本發(fā)明。
[0006] 圖1為本發(fā)明新型高速混料清洗池結(jié)構(gòu)示意圖。
[0007] 圖中，1、控制柜；2、進料口；3、料箱清洗器；4、物料清洗機構(gòu)；5、出料口；6、底座； 7、清洗電機；8、機架。
[0008] 【具體實施方式】： 參見圖1所示，本發(fā)明包括控制柜1、進料口 2、料箱清洗器3、物料清洗機構(gòu)4、出料口 5、底座6、清洗電機7和機架8,所述控制柜1設(shè)置在所述底座6上，在控制柜1上設(shè)有控制 面板，所述機架8位于控制柜1的一側(cè)，清洗電機7密置在機架8的底部，出料口 5設(shè)置在 清洗電機7的上方，在出料口 5的上方連接物料清洗機構(gòu)4,所述進料口 2位于機架8的上 方，在進料口 2內(nèi)設(shè)有料箱清洗器3，在所述料箱清洗器3內(nèi)設(shè)有料箱電機，用于對物料進行 先期攪拌，進料口 2的下方與物料清洗機構(gòu)4相連?？刂泼姘逋ㄟ^信號線分別與清洗電機 7和料箱電機相連接。
【權(quán)利要求】
1. 一種新型環(huán)保清洗器，其特征是：包括控制柜、進料口、料箱清洗器、物料清洗機構(gòu)、 出料口、底座、清洗電機和機架，所述控制柜設(shè)置在所述底座上，在控制柜上設(shè)有控制面板， 所述機架位于控制柜的一側(cè)，清洗電機密置在機架的底部，出料口設(shè)置在清洗電機的上方， 在出料口的上方連接物料清洗機構(gòu)，所述進料口位于機架的上方，在進料口內(nèi)設(shè)有所述料 箱清洗器，在所述料箱清洗器內(nèi)設(shè)有料箱電機，所述進料口的下方與物料清洗機構(gòu)相連接。
【文檔編號】B08B13/00GK104107824SQ201410278933
【公開日】2014年10月22日 申請日期:2014年6月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月22日
【發(fā)明者】喬偉光 申請人:青島中利特再生資源有限公司