一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，包括第一清洗裝置，其特征在于：所述第一清洗裝置包括清洗池、至少一個擦拭輥、至少一個支撐輥和若干導(dǎo)向棍，在清洗池內(nèi)盛放有清洗液，在清洗液上方和內(nèi)部設(shè)置有若干牽引薄膜的導(dǎo)向棍，在清洗池內(nèi)設(shè)置有伸出清洗液液面的支撐輥，在支撐輥的上方設(shè)置有擦拭輥，所述薄膜通過支撐輥與擦拭輥之間的間隙。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中無法較好清除纖維素膜表面沉積的粉塵，影響后續(xù)薄膜使用的問題，提供了一種結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，能夠去除粉塵，提高薄膜表面質(zhì)量的去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備。
【專利說明】一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于薄膜粉塵處理領(lǐng)域，特別是涉及一種薄膜制作過程中的表面粉塵清理及處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]纖維素膜已廣泛應(yīng)用于快速診斷領(lǐng)域，然而由于纖維素膜的大孔徑(>0.45um)，在薄膜的制作過程中極易產(chǎn)生表面粉塵，這些粉塵的產(chǎn)生主要來源于纖維素高分子相轉(zhuǎn)化過程中低分子量組分的沉積。這些粉塵的存在會導(dǎo)致薄膜兩邊結(jié)構(gòu)的差異性，如果診斷產(chǎn)品應(yīng)用了未清理表面粉塵的薄膜就會產(chǎn)生測試線條邊緣不齊，線條擴(kuò)散等多種不良現(xiàn)象。
[0003]目前市場上現(xiàn)有的除塵方法基本集中于靜電除塵等方式，但該方法無法去除如低分子量沉積這樣的大量粉塵，而只能除去生產(chǎn)過程中引入的少量雜質(zhì)粉塵。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中無法較好清除纖維素膜表面沉積的粉塵，影響后續(xù)薄膜使用的問題，本發(fā)明提供了一種結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，能夠去除粉塵，提高薄膜表面質(zhì)量的去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備。
[0005]為了解決上述問題，本發(fā)明所采取的技術(shù)方案是:
一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，包括第一清洗裝置，其特征在于:所述第一清洗裝置包括清洗池、至少一個擦拭輥、至少一個支撐輥和若干導(dǎo)向棍，在清洗池內(nèi)盛放有清洗液，在清洗液上方和內(nèi)部設(shè)置有若干牽引薄膜的導(dǎo)向棍，在清洗池內(nèi)設(shè)置有伸出清洗液液面的支撐輥，在支撐輥的上方設(shè)置有擦拭輥，所述薄膜通過支撐輥與擦拭輥之間的間隙。
[0006]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:還包括第二處理裝置，所述第二處理裝置位于第一清洗裝置后端，所述第二處理裝置包括處理池和若干導(dǎo)向棍，在處理池內(nèi)盛放有至少一種親水劑，在處理池上方和內(nèi)部設(shè)置有若干牽引第一清洗裝置輸送來薄膜的導(dǎo)向棍。
[0007]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述第一清洗裝置和第二處理裝置位于薄膜涂布機(jī)與薄膜干燥機(jī)之間。
[0008]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:在每個擦拭輥旁設(shè)置有若干向支撐輥與擦拭輥之間間隙噴射清洗液的噴嘴。
[0009]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述第一清洗裝置最末端的導(dǎo)向輥位于清洗液的液面上方，在該導(dǎo)向輥上設(shè)置有向薄膜正反兩面噴射清洗液的噴嘴。
[0010]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述擦拭輥外表面包有彈性的擦拭材料，所述擦拭輥外表面寬度大于薄膜的幅寬。
[0011]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述擦拭輥的表面線速度為薄膜牽引速度的5-20倍。[0012]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:在處理池內(nèi)部通過分離隔板將處理池分成前后兩個處理池。
[0013]前述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:在處理池上設(shè)置有入口和出口，所述親水劑流動方向與薄膜牽引方向相反。
[0014]本發(fā)明的有益效果是:本設(shè)備介于介于薄膜涂布機(jī)(用于蒸發(fā)制作纖維素半成品膜)與薄膜干燥機(jī)之間，用來清理薄膜與空氣接觸面的粉塵，這些粉塵通過薄膜表面與清潔裝置接觸而不傷害膜表面來除去。粉塵通過裝置中的清洗液體除去，例如薄膜在清洗液浴中通過，或者是通過給清洗液加一定的壓力形成水注沖洗膜表面同時不對膜表面造成損傷。另外本發(fā)明在清洗完成后，增加了一個親水處理過程，使得薄膜表面和內(nèi)部帶有親水齊U，便于后續(xù)使用。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0015]圖1是本發(fā)明去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步的描述。
[0017]如圖1所示，一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備1，包括第一清洗裝置2和第二處理裝置4，所述第一清洗裝置2和第二處理裝置4位于薄膜涂布機(jī)7與薄膜干燥機(jī)8之間。
[0018]所述第一清洗裝置2包括清洗池9、至少一個擦拭輥3、至少一個支撐輥18和若干導(dǎo)向棍5、在清洗池9內(nèi)盛放有清洗液，該清洗池9包含清洗液的出口 10。在清洗液上方和內(nèi)部設(shè)置有若干牽引薄膜6的導(dǎo)向棍5，在清洗池9內(nèi)設(shè)置有伸出清洗液液面的支撐輥18，支撐輥18用于支撐薄膜6背面19，避免薄膜受到機(jī)械損傷。在支撐輥18的上方設(shè)置有擦拭輥3，擦拭輥3外表面包有彈性的擦拭材料，擦拭輥3外表面寬度大于薄膜6的幅寬。
[0019]所述薄膜6通過支撐輥18與擦拭輥3之間的間隙。在每個擦拭輥3旁設(shè)置有若干噴嘴11，所述噴嘴11向支撐輥18與擦拭輥3之間的間隙噴射清洗液。第一清洗裝置2最末端的導(dǎo)向輥5位于清洗液的液面上方，在該導(dǎo)向輥5上設(shè)置有向薄膜6正反兩面噴射清洗液的噴嘴12。設(shè)計時擦拭輥3的表面線速度為薄膜6牽引速度的5-20倍，這樣擦拭輥3可與薄膜形成較好的相對運(yùn)動，從而打散粉塵并除去。
[0020]所述第二處理裝置4位于第一清洗裝置2后端，所述第二處理裝置4包括處理池和若干導(dǎo)向棍5，在處理池內(nèi)盛放有至少一種親水劑，在處理池內(nèi)部通過分離隔板15將處理池分成前處理池13和后處理池14，分離隔板15用來防止不純物流入后處理池14。在處理池上方和內(nèi)部設(shè)置有若干牽引第一清洗裝置2輸送來薄膜的導(dǎo)向棍5。在后處理池14上設(shè)置有入口 16，在前處理池上設(shè)置有出口 17，親水劑通過入口 16流入處理池，并從處理池通過出口 17流出。所述親水劑流動方向與薄膜6牽引方向相反。
[0021]本發(fā)明薄膜6從薄膜涂布機(jī)7中牽引出后通過導(dǎo)向輥5和支撐輥18，再通過第一個清洗裝置2的清洗液，這個過程中，薄膜6的上表面在噴嘴11的沖洗下，再經(jīng)過了擦拭輥3的清理，大多數(shù)的粉塵已經(jīng)變蓬松并被去除。在薄膜6將出第一個清洗裝置2時，薄膜6正反兩面上殘留的粉塵再次被噴嘴12中噴出的清洗液沖刷除去，清除效果更好。薄膜6在處理池上的導(dǎo)向輥5的牽引下進(jìn)入處理池中進(jìn)行親水處理，然后，進(jìn)入薄膜干燥機(jī)8干燥。
[0022]綜上所述，本設(shè)備介于介于薄膜涂布機(jī)7 (用于蒸發(fā)制作纖維素半成品膜)與薄膜干燥機(jī)8之間，用來清理薄膜與空氣接觸面的粉塵，這些粉塵通過薄膜表面與清潔裝置接觸而不傷害膜表面來除去。粉塵通過裝置中的清洗液體除去，例如薄膜在清洗液浴中通過，或者是通過給清洗液加一定的壓力形成水注沖洗膜表面同時不對膜表面造成損傷。另外本發(fā)明在清洗完成后，增加了一個親水處理過程，使得薄膜表面和內(nèi)部帶有親水劑，便于后續(xù)使用。
[0023]以上顯示和描述了本發(fā)明的基本原理、主要特征及優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本發(fā)明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發(fā)明的原理，在不脫離本發(fā)明精神和范圍的前提下，本發(fā)明還會有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本發(fā)明范圍內(nèi)。本發(fā)明要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界。
【權(quán)利要求】
1.一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，包括第一清洗裝置，其特征在于:所述第一清洗裝置包括清洗池、至少一個擦拭輥、至少一個支撐輥和若干導(dǎo)向棍，在清洗池內(nèi)盛放有清洗液，在清洗液上方和內(nèi)部設(shè)置有若干牽引薄膜的導(dǎo)向棍，在清洗池內(nèi)設(shè)置有伸出清洗液液面的支撐輥，在支撐輥的上方設(shè)置有擦拭輥，所述薄膜通過支撐輥與擦拭輥之間的間隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:還包括第二處理裝置，所述第二處理裝置位于第一清洗裝置后端，所述第二處理裝置包括處理池和若干導(dǎo)向棍，在處理池內(nèi)盛放有至少一種親水劑，在處理池上方和內(nèi)部設(shè)置有若干牽引第一清洗裝置輸送來薄膜的導(dǎo)向棍。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述第一清洗裝置和第二處理裝置位于薄膜涂布機(jī)與薄膜干燥機(jī)之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:在每個擦拭輥旁設(shè)置有若干向支撐輥與擦拭輥之間間隙噴射清洗液的噴嘴。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述第一清洗裝置最末端的導(dǎo)向輥位于清洗液的液面上方，在該導(dǎo)向輥上設(shè)置有向薄膜正反兩面噴射清洗液的噴嘴。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述擦拭輥外表面包有彈性的擦拭材料，所述擦拭輥外表面寬度大于薄膜的幅寬。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:所述擦拭輥的表面線速度為薄膜牽引速度的5-20倍。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:在處理池內(nèi)部通過分離隔板將處理池分成前后兩個處理池。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種去除高分子薄膜表面粉塵的設(shè)備，其特征在于:在處理池上設(shè)置有入口和出口，所述親水劑流動方向與薄膜牽引方向相反。
【文檔編號】B08B1/02GK103817093SQ201410067735
【公開日】2014年5月28日 申請日期:2014年2月27日 優(yōu)先權(quán)日:2014年2月27日
【發(fā)明者】邢力, 姚軍 申請人:蘇州奧特福環(huán)境科技有限公司