等離子清洗設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種等離子清洗設(shè)備，包括機體和滾輪；所述滾輪安裝在機體下端；所述機體包括真空腔體、反應(yīng)倉、真空泵裝置、射頻電源、匹配器、PLC控制系統(tǒng)、手控盒和人機界面；所述反應(yīng)倉和人機界面設(shè)置在機體右側(cè)壁；所述真空泵裝置安裝在機體低端內(nèi)；所述真空泵裝置一體制成有一級泵組、一級泵組進氣口、一級泵組出氣口、二級泵組、二級泵組進氣口、二級泵組出氣口和真空泵組機架；所述反應(yīng)倉一體制成有門板雙重密封、雙觀察窗、陽電極、陰電極、配置重型鉸接、第一抽氣口、第二抽氣口和真空檢測口；本實用新型依靠達到去除物體表面污漬的清洗設(shè)備、設(shè)備容量達到120L和配套開發(fā)大功率大容量的等離子清洗設(shè)備。
【專利說明】等離子清洗設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種等離子清洗設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，傳統(tǒng)的清洗設(shè)備主要以濕法清洗為主。濕法清洗已經(jīng)在電子工業(yè)生產(chǎn)中廣泛應(yīng)用，清洗主要依靠物理和化學(xué)(溶劑)的作用，如在化學(xué)活性劑吸附、浸透、溶解、離散作用下輔以超聲波、噴淋、旋轉(zhuǎn)、沸騰、蒸氣、搖動等物理作用下去除污潰，這種方法普遍存在清洗效果差、設(shè)備容量小和配套開發(fā)功率小等問題。
實用新型內(nèi)容
[0003](一)要解決的技術(shù)問題
[0004]為解決上述問題，本實用新型提出了一種依靠處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達到去除物體表面污潰的清洗設(shè)備、設(shè)備容量達到120L和配套開發(fā)大功率大容量的的等離子清洗設(shè)備。
[0005](二)技術(shù)方案
[0006]本實用新型的等離子清洗設(shè)備，包括機體和滾輪；所述滾輪安裝在機體下端；所述機體包括真空腔體、反應(yīng)倉、真空泵裝置、射頻電源、匹配器、PLC控制系統(tǒng)、手控盒和人機界面；所述反應(yīng)倉和人機界面設(shè)置在機體右側(cè)壁；所述真空泵裝置安裝在機體低端內(nèi)；所述真空泵裝置一體制成有一級泵組、一級泵組進氣口、一級泵組出氣口、二級泵組、二級泵組進氣口、二級泵組出氣口和真空泵組機架；所述反應(yīng)倉一體制成有門板雙重密封、雙觀察窗、陽電極、陰電極、配置重型鉸接、第一抽氣口、第二抽氣口和真空檢測口。
[0007]進一步地,所述真空腔體的容量為120L。
[0008]進一步地，所述射頻電源的頻率為13.56MHz ο
[0009]進一步地，所述反應(yīng)倉為矩形腔，且由不銹鋼板制成。
[0010]進一步地，所述人機界面包括自動模式和手動模式。
[0011](三)有益效果
[0012]本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比較，其具有以下有益效果:通過真空腔體依靠PLC控制系統(tǒng)處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達到去除物體表面污潰的清洗設(shè)備、設(shè)備容量達到120L和配套開發(fā)大功率大容量的控制單元。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1是本實用新型的等離子清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0014]圖2是本實用新型的真空泵裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖3是本實用新型的反應(yīng)倉前側(cè)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0016]圖4是本實用新型的反應(yīng)倉后側(cè)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0017]1-機體；2-滾輪；3_真空腔體；4_反應(yīng)倉；5_真空泵裝置；6_射頻電源；7-匹配器；8-PLC控制系統(tǒng)；9-手控盒；10-人機界面；11-一級泵組；12-—級泵組進氣口 ；13_ —級泵組出氣口 ；14_ 二級泵組；15-二級泵組進氣口 ；16_ 二級泵組出氣口 ；17_真空泵組機架；18_門板雙重密封；19_雙觀察窗；20_陽電極；21_陰電極；22_配置重型鉸接；23_第一抽氣口 ；24_第二抽氣口 ；25_真空檢測口。
【具體實施方式】
[0018]如圖1、圖2、圖3和圖4所示的一種等離子清洗設(shè)備，包括機體I和滾輪2 ;所述滾輪2安裝在機體I下端；所述機體I包括真空腔體3、反應(yīng)倉4、真空泵裝置5、射頻電源
6、匹配器7、PLC控制系統(tǒng)8、手控盒9和人機界面10 ;所述反應(yīng)倉4和人機界面10設(shè)置在機體I右側(cè)壁；所述真空泵裝置5安裝在機體I低端內(nèi)；所述真空泵裝置5 —體制成有一級泵組11、一級泵組進氣口 12、一級泵組出氣口 13、二級泵組14、二級泵組進氣口 15、二級泵組出氣口 16和真空泵組機架17 ;所述反應(yīng)倉4 一體制成有門板雙重密封18、雙觀察窗19、陽電極20、陰電極21、配置重型鉸接22、第一抽氣口 23、第二抽氣口 24和真空檢測口 25。
[0019]其中，所述真空腔體3的容量為120L ;所述射頻電源6的頻率為13.56MHz ;所述反應(yīng)倉4為矩形腔，且由不銹鋼板制成；所述人機界面10包括自動模式和手動模式。
[0020]本實用新型的等離子清洗設(shè)備，其優(yōu)點在于:通過真空腔體依靠PLC控制系統(tǒng)處于“等離子態(tài)”的物質(zhì)的“活化作用”達到去除物體表面污潰的清洗設(shè)備、設(shè)備容量達到120L和配套開發(fā)大功率大容量的控制單元。
[0021]上面所述的實施例僅僅是對本實用新型的優(yōu)選實施方式進行描述，并非對本實用新型的構(gòu)思和范圍進行限定。在不脫離本實用新型設(shè)計構(gòu)思的前提下，本領(lǐng)域普通人員對本實用新型的技術(shù)方案做出的各種變型和改進，均應(yīng)落入到本實用新型的保護范圍，本實用新型請求保護的技術(shù)內(nèi)容，已經(jīng)全部記載在權(quán)利要求書中。
【權(quán)利要求】
1.一種等離子清洗設(shè)備，包括機體(I)和滾輪(2);所述滾輪(2)安裝在機體(I)下端；其特征在于:所述機體(I)包括真空腔體(3)、反應(yīng)倉(4)、真空泵裝置(5)、射頻電源(6)、匹配器(7)、PLC控制系統(tǒng)(8)、手控盒(9)和人機界面(10);所述反應(yīng)倉(4)和人機界面(10 )設(shè)置在機體(I)右側(cè)壁；所述真空泵裝置(5 )安裝在機體(I)低端內(nèi)；所述真空泵裝置(5) —體制成有一級泵組(11)、一級泵組進氣口( 12)、一級泵組出氣口( 13)、二級泵組(14)、二級泵組進氣口(15)、二級泵組出氣口(16)和真空泵組機架(17);所述反應(yīng)倉(4)一體制成有門板雙重密封(18)、雙觀察窗(19)、陽電極(20)、陰電極(21)、配置重型鉸接(22)、第一抽氣口(23)、第二抽氣口(24)和真空檢測口(25)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗設(shè)備，其特征在于:所述真空腔體(3)的容量為120L。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗設(shè)備，其特征在于:所述射頻電源(6)的頻率為13.56MHz ο
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗設(shè)備，其特征在于:所述反應(yīng)倉(4)為矩形腔，且由不銹鋼板制成。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子清洗設(shè)備，其特征在于:所述人機界面(10)包括自動模式和手動模式。
【文檔編號】B08B7/00GK203470419SQ201320528568
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年8月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月28日
【發(fā)明者】梁明剛 申請人:東莞市啟天自動化設(shè)備有限公司