一種加熱均勻的煎烤的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種加熱均勻的煎烤機(jī)，包括殼體、加熱體和烤盤，加熱體設(shè)置在烤盤與殼體之間，所述加熱體包括絕緣支撐件和電熱絲，電熱絲設(shè)置在絕緣支撐件上朝向烤盤的一面，并且加熱體與烤盤之間設(shè)有輻射間隙。本實(shí)用新型對烤盤底面直接輻射加熱，使烤盤受熱均勻，熱效率高，煎烤機(jī)的烹飪效果好；同時加熱體與烤盤之間設(shè)置有輻射間隙，在加熱體與烤盤之間設(shè)置透熱絕緣層，增加了用戶使用的安全性。
【專利說明】一種加熱均勻的煎烤機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種烹飪器具，尤其涉及一種加熱均勻的煎烤機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的煎烤機(jī)的烤盤結(jié)構(gòu)都是圓盤形的壓鑄件，其背面設(shè)置有電熱管，電熱管依照烤盤的形狀進(jìn)行盤繞，電熱管通過傳導(dǎo)的方式對烤盤進(jìn)行加熱。由于電熱管與烤盤接觸面大小的限制，使得烤盤表面距離電熱管近的位置升溫速度快，距離電熱管遠(yuǎn)的位置升溫速度慢，烤盤表面各處的溫度表現(xiàn)相差很大，從而使得烤盤上的食物煎制的時候，有的地方已經(jīng)出現(xiàn)烤焦，而有的地方還未熟透的現(xiàn)象，極大的影響烹飪效果。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為克服上述技術(shù)中存在的不足，本實(shí)用新型提供一種能有效改善烤盤整體受熱的均勻程度，從而達(dá)到改善食物的烹飪效果的加熱均勻的煎烤機(jī)。
[0004]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案:
[0005]一種加熱均勻的煎烤機(jī)，包括殼體、加熱體和烤盤，加熱體設(shè)置在烤盤與殼體之間，所述加熱體包括絕緣支撐件和電熱絲，電熱絲設(shè)置在絕緣支撐件上朝向烤盤的一面，并且加熱體與烤盤之間設(shè)有輻射間隙。
[0006]進(jìn)一步的，所述輻射間隙中設(shè)有透熱絕緣層。
[0007]進(jìn)一步的，所述輻射間隙為3_20mm。
[0008]進(jìn)一步的，所述絕緣支撐件為云母板。
[0009]進(jìn)一步的，所述加熱體的加熱絲平行排列在云母板上。
[0010]進(jìn)一步的，所述絕緣支撐件與烤盤平行設(shè)置。
[0011]進(jìn)一步的，所述殼體與加熱體之間設(shè)置有內(nèi)側(cè)面為光滑面的反射襯件。
[0012]進(jìn)一步的，所述烤盤為鈑金拉伸的烤盤，所述烤盤還設(shè)有一體的鉸鏈連接結(jié)構(gòu)。
[0013]進(jìn)一步的，所述煎烤機(jī)設(shè)置有感溫元件，所述感溫元件為溫控器或熱電偶，所述感溫元件與烤盤貼合設(shè)置。
[0014]本實(shí)用新型的有益效果:
[0015]本實(shí)用新型提供的煎烤機(jī)的加熱體對烤盤底面的整體進(jìn)行直接輻射加熱，使烤盤底面受熱均勻，熱效率高，烹飪效果好；同時加熱體與烤盤之間設(shè)置有輻射間隙，加熱體不與金屬的烤盤直接接觸，增加了安全性；在加熱體與烤盤之間設(shè)有透熱絕緣層，進(jìn)一步提高用戶使用的安全性。本實(shí)用新型提供的烤盤為鈑金拉伸的烤盤，烤盤更加輕薄，使用更輕便；烤盤的制造更簡單、環(huán)保、能耗更低；烤盤的輕薄，使得傳熱速度更快、節(jié)能，烤盤表面溫度的均勻性更好。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實(shí)用新型的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1是本實(shí)用新型實(shí)施方式的簡單結(jié)構(gòu)分解示意圖；
[0018]圖2是本實(shí)用新型實(shí)施方式的具體結(jié)構(gòu)分解示意圖；
[0019]圖3是本實(shí)用新型實(shí)施方式安裝結(jié)構(gòu)剖視圖。
[0020]附圖標(biāo)記:1_殼體；2_加熱體；3_烤盤；4_反射襯件；5_感溫兀件；6_透熱絕緣層；21-絕緣支撐件；22電熱絲。
【具體實(shí)施方式】
[0021]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0022]實(shí)施例一:
[0023]如圖1至圖3，一種加熱均勻的煎烤機(jī)，該煎烤機(jī)包括殼體、加熱體和烤盤，如圖1所示，加熱體2設(shè)置在烤盤3與殼體I之間，加熱體2用螺釘連接固定在殼體I上，加熱體2包括絕緣支撐件21和電熱絲22，電熱絲22均勻的平行排列在絕緣支撐件21上朝向烤盤3的一面，加熱體2與烤盤3平行設(shè)置，并且加熱體2與烤盤3之間設(shè)有輻射間隙，加熱體2對烤盤3底面進(jìn)行直接輻射加熱，使得烤盤2表面加熱更加均勻，烹飪效果好。
[0024]如圖2、3所示，本實(shí)用新型煎烤機(jī)的加熱體2不與烤盤3直接接觸，在加熱體2與烤盤3之間設(shè)置有輻射間隔，所述輻射間隙為3-20_，提高輻射效果穩(wěn)定性的同時也提高了用戶使用煎烤機(jī)的安全性。本實(shí)用新型絕緣支撐件與烤盤平行設(shè)置，絕緣支撐件21為云母板，加熱體2的加熱絲22平行排列在云母板上，云母板隔擋在電熱絲22與殼體I之間，減少了電熱絲22輻射的熱量對殼體I的影響。
[0025]為進(jìn)一步減少電熱絲22輻射到殼體I上的熱量，在加熱體2與殼體I之間設(shè)置了反射襯件4，加熱體2、烤盤3依次固定在反射襯件4上，再將反射襯件4固定在殼體的螺釘柱11上。反射襯件4的朝向烤盤3的一側(cè)為光滑面，反射襯件4將加熱體2工作產(chǎn)生的熱量反射到烤盤3的底面上，避免了殼體的溫度在工作時過高，從而提高使用的安全性和用戶的舒適性。進(jìn)一步減少加熱體2產(chǎn)生的熱量對殼體的影響，本實(shí)用新型煎烤機(jī)的反射襯件4的周沿設(shè)有環(huán)形筋位41延伸到烤盤3的底部，反射襯件4的環(huán)形筋位41與烤盤3底部貼合接觸，使得反射襯件4、環(huán)形筋位41與烤盤3之間形成一個相對封閉的腔體，從而將熱量集中在這一腔體內(nèi)，通過金屬烤盤的良好熱導(dǎo)性傳遞到烤盤的表面，熱效率更高；為了使烤盤更好的吸收輻射的熱量，可以在烤盤底面涂覆耐高溫的紅外線節(jié)能涂料，增強(qiáng)了受熱面的福射吸收率，從而進(jìn)一步提聞熱效率。
[0026]本實(shí)用新型煎烤機(jī)的烤盤3采用的是鈑金拉伸加工的烤盤3，煎烤機(jī)的鉸接部還可以和烤盤一體拉伸成型，結(jié)構(gòu)簡單，烤盤3可以制作得更輕薄，整機(jī)使用更為輕便；同時烤盤3的鈑金拉伸加工過程比較烤盤的壓鑄加工過程更加的環(huán)保、節(jié)能，該煎烤機(jī)的綜合成本更低。[0027]本實(shí)用新型煎烤機(jī)設(shè)有感溫元件5，感溫元件5為溫控器或者熱電偶，感溫元件5的感溫面與烤盤3的底面貼合設(shè)置，直接感知和控制烤盤3的溫度，感溫元件5與控制電路相連，保證煎烤機(jī)的烤盤3表面的加熱均勻性和烹飪效果。
[0028]除此以外，本實(shí)用新型煎烤機(jī)的加熱體2還可以固定在烤盤3的底部。
[0029]實(shí)施例二:
[0030]本實(shí)施例與實(shí)施例一的區(qū)別在于，為進(jìn)一步增強(qiáng)煎烤機(jī)使用的安全性，防止電熱絲接觸烤盤3而使烤盤3帶電，而又不影響加熱效率,本實(shí)施例在加熱體2與烤盤3之間的輻射間隙中設(shè)有透熱絕緣層6，本是實(shí)中采用高透熱的玻璃絕緣層，利用高透熱的玻璃絕緣層隔離電熱絲與烤盤，使煎烤機(jī)的使用更加安全。透熱絕緣層6可以直接接觸烤盤3底面，實(shí)現(xiàn)減小輻射間隙，減薄煎烤機(jī)的功能；同時也可以在透熱絕緣層6與烤盤之間設(shè)置輻射間隙，以達(dá)到方便裝配，性能穩(wěn)定的效果。
[0031]以上所述，僅為本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】，但本實(shí)用新型的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本實(shí)用新型揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種加熱均勻的煎烤機(jī)，包括殼體、加熱體和烤盤，加熱體設(shè)置在烤盤與殼體之間，其特征在于，所述加熱體包括絕緣支撐件和電熱絲，電熱絲設(shè)置在絕緣支撐件上朝向烤盤的一面，并且加熱體與烤盤之間設(shè)有輻射間隙。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述輻射間隙中設(shè)有透熱絕緣層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述輻射間隙為3-20mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述絕緣支撐件與烤盤平行設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述絕緣支撐件為云母板。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述加熱體的加熱絲平行排列在云母板上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述殼體與加熱體之間設(shè)置有內(nèi)側(cè)面為光滑面的反射襯件。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7任意一項(xiàng)所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述烤盤為鈑金拉伸的烤盤，所述烤盤還設(shè)有一體的鉸鏈連接結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的煎烤機(jī)，其特征在于，所述煎烤機(jī)設(shè)置有感溫元件，所述感溫元件為溫控器或熱電偶，所述感溫元件與烤盤貼合設(shè)置。
【文檔編號】A47J37/06GK203468382SQ201320339418
【公開日】2014年3月12日 申請日期:2013年6月14日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月14日
【發(fā)明者】朱澤春, 廖朝正 申請人:九陽股份有限公司