信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法
【專利摘要】玻璃基板的制造方法具有進(jìn)行玻璃基板的研磨的工序、和在進(jìn)行了玻璃基板的研磨后進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序。進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：在槽內(nèi)表面是由不銹鋼或樹脂構(gòu)成的多個(gè)第1槽中，分別進(jìn)行玻璃基板的清洗；以及，在槽內(nèi)表面是由石英構(gòu)成的第2槽中進(jìn)行玻璃基板的清洗。在多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序包含至少1次超聲波清洗。在多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序完成之后，進(jìn)行在第2槽中清洗玻璃基板的工序。
【專利說明】信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 以往，在用于計(jì)算機(jī)等的信息記錄介質(zhì)（磁盤記錄介質(zhì)）中，使用了鋁基板或者玻 璃基板。在這些基板上形成有磁性薄膜層，利用磁頭使磁性薄膜層磁化，由此在磁性薄膜層 中記錄信息。
[0003] 近年來，在硬盤驅(qū)動(dòng)器裝置中，開發(fā)出具有如下記錄密度的裝置：在1張2. 5英寸 的記錄介質(zhì)中記錄容量為500GB (單面250GB)、面記錄密度為630Gb/平方英寸以上，磁頭與 信息記錄介質(zhì)之間的距離（飛行高度）進(jìn)一步縮小。
[0004] 隨著飛行高度變小，為了抑制將信息記錄介質(zhì)用于硬盤驅(qū)動(dòng)器裝置的情況下的不 良（磁頭碰撞），作為信息記錄介質(zhì)而被容許的基板表面的缺陷的大小也進(jìn)一步減小。此 夕卜，關(guān)于信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的表面缺陷，對(duì)大小以及個(gè)數(shù)的要求變得嚴(yán)格。
[0005] 為了滿足這些嚴(yán)格的要求，在信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的研磨加工、清洗方法 上想辦法，想法來降低信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的缺陷。但是，由于在磁性頭中采用的 DFH(Dynamic Flying Height:動(dòng)態(tài)飛行高度）機(jī)構(gòu)等，對(duì)信息記錄介質(zhì)的精度要求更加嚴(yán) 格。
[0006] 作為清洗度高的清洗方法，例如在清洗半導(dǎo)體晶圓的情況下，將被清洗物浸入石 英槽，進(jìn)行超聲波的施加（例如，日本特開2007-268448號(hào)公報(bào)（專利文獻(xiàn)1))。
[0007] 然而發(fā)現(xiàn)，當(dāng)在信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的清洗中使用石英槽并使用超聲波清洗 來進(jìn)行清洗時(shí)，會(huì)產(chǎn)生由清洗不均引起的表面缺陷。石英槽的清潔度非常高，但為了獲得剛 性，需要設(shè)為厚度較厚的槽，對(duì)超聲波的入射角度的衰減率帶來較大影響，因而會(huì)產(chǎn)生局部 清洗殘留，在要求嚴(yán)格精度的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板中，有時(shí)會(huì)成為問題。
[0008] 另外已知，不銹鋼槽或樹脂槽等通常也被使用，在使用了這些清洗槽的情況下，能 夠在一定程度上均勻地對(duì)由研磨帶來的雜質(zhì)進(jìn)行清洗，這對(duì)表面精度（凹凸）不成問題，但 是，由于清洗槽自身引起的雜質(zhì)的產(chǎn)生和附著，使得玻璃基板的表面物理性質(zhì)產(chǎn)生不均，在 涂覆磁性記錄層時(shí)，有時(shí)會(huì)產(chǎn)生缺陷。
[0009] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0010] 專利文獻(xiàn)
[0011] 專利文獻(xiàn)1 :日本特開2007-268448號(hào)公報(bào)


【發(fā)明內(nèi)容】

[0012] 發(fā)明要解決的問題
[0013] 如上所述，該發(fā)明要解決的問題在于，在信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造過程中， 對(duì)降低信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的缺陷的要求變得嚴(yán)格。
[0014] 為了降低信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的缺陷，對(duì)該基板要求高清潔度和高平滑度。 此處，所謂高清潔度和高平滑度是指要求如下高清潔度：作為使平滑度惡化的主要原因的、 由研磨工序造成的附著物以及清洗時(shí)產(chǎn)生的雜質(zhì)附著所引起的表面狀態(tài)的偏差均不會(huì)產(chǎn) 生。
[0015] 如上所述，顯然并不是：為了得到這樣的高清潔度，只要單純使用高清潔度的石英 槽、或者使用超聲波且設(shè)為對(duì)衰減率的影響小的不銹鋼槽或樹脂槽，就能在玻璃基板上使 成為問題的附著物充分脫落。
[0016] 本發(fā)明是鑒于上述實(shí)際情況而完成的，目的在于提供一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基 板的制造方法，能夠減少在信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造過程中產(chǎn)生的不良。
[0017] 用于解決問題的手段
[0018] 本發(fā)明的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法具有進(jìn)行玻璃基板的研磨的工序、 以及在進(jìn)行了玻璃基板的研磨后進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序。
[0019] 進(jìn)行上述玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：在槽內(nèi)表面是由不銹鋼或樹脂構(gòu) 成的多個(gè)第1槽中，分別進(jìn)行玻璃基板的清洗；以及，在槽內(nèi)表面是由石英構(gòu)成的第2槽中 進(jìn)行玻璃基板的清洗。
[0020] 在多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序包含至少1次超聲波清洗。在多 個(gè)第1槽中分別進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序完成之后，進(jìn)行在第2槽中清洗玻璃基板的工 序。
[0021] 在1個(gè)實(shí)施方式中，在上述信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法中，進(jìn)行玻璃基 板的清洗的工序包含如下工序：在第2槽中清洗玻璃基板的的工序之前，對(duì)玻璃基板進(jìn)行 擦洗。
[0022] 在1個(gè)實(shí)施方式中，在上述信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法中，在第2槽中清 洗玻璃基板的工序包含如下工序：對(duì)玻璃基板施加900kHz以上的頻率的超聲波。
[0023] 在1個(gè)實(shí)施方式中，在上述信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法中，在多個(gè)第1槽 中分別進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：對(duì)玻璃基板施加78kHz以上且500kHz以 下的頻率的超聲波。
[0024] 在1個(gè)實(shí)施方式中，在上述信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法中，在第2槽中清 洗玻璃基板的工序包含如下工序：對(duì)玻璃基板施加第1頻率的超聲波，在多個(gè)第1槽中分別 進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：對(duì)玻璃基板施加比第1頻率低的第2頻率的超 聲波。
[0025] 發(fā)明效果
[0026] 根據(jù)本發(fā)明，能夠降低在信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造過程中產(chǎn)生的不良。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0027] 圖1是實(shí)施方式中的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的立體圖。
[0028] 圖2是實(shí)施方式中的信息記錄介質(zhì)的立體圖。
[0029] 圖3是示出實(shí)施方式中的信息記錄介質(zhì)的制造方法的流程圖。
[0030] 圖4是示意性示出用于進(jìn)行本發(fā)明的實(shí)施例1?3和比較例1?3的各清洗工序 的清洗裝置的圖。

【具體實(shí)施方式】
[0031] 以下，對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式以及實(shí)施例進(jìn)行說明。此外，對(duì)于相同或者相當(dāng)?shù)牟?分，有時(shí)標(biāo)注相同的參照標(biāo)號(hào)，且不再重復(fù)其說明。
[0032] 此外，在以下說明的實(shí)施方式以及實(shí)施例中，在提及個(gè)數(shù)、數(shù)量等的情況下，除了 特別說明的情況以外，本發(fā)明的范圍不限于該個(gè)數(shù)、數(shù)量等。此外，在以下的實(shí)施方式中，除 了特別說明的情況以外，各個(gè)構(gòu)成要素對(duì)本發(fā)明不一定是必須的。
[0033](信息記錄介質(zhì)1的結(jié)構(gòu)）
[0034] 參照?qǐng)D1和圖2,對(duì)信息記錄介質(zhì)用玻璃基板1G以及信息記錄介質(zhì)1的結(jié)構(gòu)進(jìn)行 說明。圖1是信息記錄介質(zhì)用玻璃基板1G的立體圖，圖2是信息記錄介質(zhì)的立體圖。
[0035] 如圖1所示，在信息記錄介質(zhì)1中使用的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板1G (以下，稱作 "玻璃基板1G"）呈在中心形成有孔11的環(huán)狀的圓板形狀。玻璃基板1G具有外周端面12、 內(nèi)周端面13、正面主表面14以及反面主表面15。作為玻璃基板1G，使用了非晶質(zhì)玻璃等， 例如，外徑約65mm，內(nèi)徑約20mm，厚度約0. 8mm，表面粗糙度約2.0 A以下。
[0036] 對(duì)玻璃基板1G的英寸尺寸沒有特別限定，可以制造0. 8英寸、1. 0英寸、1. 8英寸、 2. 5英寸、3. 5英寸各種玻璃基板1G作為信息記錄介質(zhì)用的盤片。
[0037] 為了有效應(yīng)對(duì)由下落沖擊導(dǎo)致的玻璃基板1G的破裂，玻璃基板1G的厚度優(yōu)選為 0. 30mm?2. 2mm。此處所謂玻璃基板1G的厚度表示在作為基板上的點(diǎn)對(duì)象的任意數(shù)點(diǎn)處 測(cè)定的值的平均值。
[0038] 如圖2所示，信息記錄介質(zhì)1在上述玻璃基板1G的正面主表面14上形成有磁性 薄膜層23。在圖示中，僅在正面主表面14上形成磁性薄膜層23,但是，也可以在反面主表 面15上設(shè)置磁性薄膜層23。
[0039] 作為磁性薄膜層23的形成方法，可以使用現(xiàn)有公知的方法，例如可舉出在基板上 旋涂分散有磁性粒子的熱固化性樹脂來形成的方法、通過濺射來形成的方法以及通過非電 解鍍來形成的方法。
[0040] 旋涂法得到的膜厚為約0. 3?1. 2 μ m左右，濺射法得到的膜厚為0. 04?0. 08 μ m 左右，非電解鍍法得到的膜厚為〇. 05?0. 1 μ m左右，出于薄膜化以及高密度化的觀點(diǎn)，基 于濺射法和非電解鍍法的膜形成較好。
[0041] 作為在磁性薄膜層23中使用的磁性材料，沒有特別限定，可以使用現(xiàn)有公知的方 法，但是，為了得到高保持力，Co類合金等是合適的，Co類合金是以結(jié)晶各向異性高的Co為 基礎(chǔ)，出于調(diào)整剩余磁通密度的目的添加 Ni、Cr而成的。近年來，作為適合于熱輔助記錄用 的磁性層材料，使用了 FePt類的材料。
[0042] 為了提高磁頭的光滑度，可以在磁性薄膜層23的表面薄薄地涂覆潤滑劑。作為潤 滑劑，例如可舉出用氟利昂類等的溶劑將作為液體潤滑劑的全氟聚醚（PFPE)稀釋而成的 潤滑劑。
[0043] 根據(jù)需要，可以設(shè)置基底層、保護(hù)層。信息記錄介質(zhì)1中的基底層可根據(jù)磁性膜來 進(jìn)行選擇。作為基底層的材料，例如可舉出從Cr、Mo、Ta、Ti、W、V、B、Al、Ni等非磁性金屬 中選出的至少一種以上的材料。
[0044] 基底層不限于單層，也可以設(shè)為層疊相同種類或不同種類的層而成的多層結(jié)構(gòu)。 例如，可以設(shè)為 Cr/Cr、Cr/CrMo、Cr/CrV、NiAl/Cr、NiAl/CrMo、NiAl/CrV 等的多層基底層。
[0045] 作為防止磁性薄膜層23的磨損、腐蝕的保護(hù)層，例如，可舉出Cr層、Cr合金層、碳 層、氫化碳層、氧化鋯層、二氧化硅層等。保護(hù)層可以通過內(nèi)聯(lián)型濺射裝置，與基底層、磁性 膜等一起連續(xù)地形成。保護(hù)層可以是單層，或者由相同種類或不同種類的層構(gòu)成的多層結(jié) 構(gòu)。
[0046] 可以在上述保護(hù)層上形成其它保護(hù)層，或者，替代上述保護(hù)層而形成其它保護(hù)層。 例如，替代上述保護(hù)層，在Cr層上，在用酒精類的溶劑稀釋四烷氧基硅烷得到的產(chǎn)物中，分 散地涂覆膠態(tài)二氧化硅微粒子并進(jìn)行燒結(jié)，形成氧化硅（Si0 2)層。
[0047] (玻璃基板1G的制造工序）
[0048] 接下來，參照?qǐng)D3,對(duì)本實(shí)施方式的玻璃基板1G和信息記錄介質(zhì)1的制造方法進(jìn)行 說明。圖3是示出玻璃基板1G和信息記錄介質(zhì)1的制造方法的流程圖。
[0049] 首先，在步驟10(以下，省略為"S10"，在步驟11以后也相同）的"玻璃熔融工序" 中，使構(gòu)成玻璃基板的玻璃坯料熔融。
[0050] 在S11的"模壓（press)成型工序"中，通過使用了上模和下模的模壓，將熔融玻 璃坯料制造成玻璃基板。所使用的玻璃組分使用了通常的鋁硅酸鹽玻璃。作為玻璃基板的 制造方法，不限于成型，也可以是作為公知的方法的從板狀玻璃的切割等，玻璃組分也不限 于此。
[0051] 在S12的"第1磨削（lap)工序"中，對(duì)玻璃基板的兩主表面進(jìn)行磨削加工。該第 1磨削工序是使用利用了行星齒輪機(jī)構(gòu)的雙面磨削裝置來進(jìn)行的。具體而言，從上下方將磨 削盤按壓于玻璃基板的雙面，在玻璃基板的主表面上提供研削液，使它們相對(duì)地移動(dòng)來進(jìn) 行磨削加工。通過該磨削加工，得到具有大致平坦的主表面的玻璃基板。
[0052] 在S13的"取心（。7 U >夕'' )工序"中，使用圓筒狀的金剛石鉆頭，在玻璃基板 的中心部形成孔，制造出圓環(huán)狀的玻璃基板。通過鉆石磨具研削玻璃基板的內(nèi)周端面和外 周端面，實(shí)施規(guī)定的倒角加工。
[0053] 在S14的"第2磨削工序"中，與上述第1磨削工序（S12)同樣，對(duì)玻璃基板的兩 主表面進(jìn)行磨削加工。通過進(jìn)行該第2磨削工序，能夠預(yù)先將在前工序的取心和端面加工 中形成在主表面的細(xì)微的凹凸形狀去除。其結(jié)果是，能夠縮短后續(xù)工序中的主表面的研磨 時(shí)間。
[0054] 在S15的"外周研磨工序"中，在玻璃基板的外周端面，進(jìn)行基于磨刷（brush)研 磨的鏡面研磨。作為此時(shí)的研磨磨粒，使用了包含通常的氧化鈰磨粒的漿料。
[0055] 在S16的"第1拋光工序"中，進(jìn)行主表面研磨。該第1拋光工序的主目的是對(duì)在 上述第1磨削工序和第2磨削工序（S12、S14)中殘留在主表面的劃痕和翹曲進(jìn)行矯正。在 該第1拋光工序中，利用具有行星齒輪機(jī)構(gòu)的雙面研磨裝置來進(jìn)行主表面的研磨。作為研 磨劑，使用了通常的氧化鈰磨粒。
[0056] 在S17的"化學(xué)強(qiáng)化工序"中，對(duì)玻璃基板1G的主表面形成表面強(qiáng)化層。具體而 言，在加熱到300°C的硝酸鉀（70% )和硝酸鈉（30% )的混合溶液中，將玻璃基板1G浸泡 約30分鐘，由此進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化。其結(jié)果是，玻璃基板的內(nèi)周端面和外周端面的鋰離子和鈉 離子分別被化學(xué)強(qiáng)化溶液中的鈉離子和鉀離子置換，形成壓縮應(yīng)力層，由此使玻璃基板的 主表面和端面得到強(qiáng)化。
[0057] 在S18的"第2拋光工序"中，實(shí)施主表面研磨工序。該第2拋光工序的目的是， 消除在到上述為止的工序中產(chǎn)生并殘存在主表面上的微小缺陷等，精加工成鏡面狀，消除 翹曲，精加工成期望的平坦度。在該第2拋光工序中，利用具有行星齒輪機(jī)構(gòu)的雙面研磨裝 置來進(jìn)行研磨。為了得到平滑面，使用平均粒徑為約20nm的膠態(tài)二氧化硅作為研磨劑。
[0058] 在S19的"最終清洗工序（Final Cleaning) "中，實(shí)施玻璃基板的主表面、端面的 最終清洗。由此，將殘存在玻璃基板上的附著物去除。
[0059] 在S20的"磁性薄膜層成膜工序"中，在進(jìn)行了通過上述的工序而得到的玻璃基板 的清洗后，在玻璃基板的兩個(gè)主表面，依次形成由Cr合金構(gòu)成的緊密附著層、由CoFeZr合 金構(gòu)成的軟磁性層、由Ru構(gòu)成的指向控制基底層、由CoCrPt合金構(gòu)成的垂直磁性記錄層、 C類的保護(hù)層、由F類構(gòu)成的潤滑層的膜，由此，制造出垂直磁性記錄方式的信息記錄介質(zhì)。 該結(jié)構(gòu)是垂直磁性記錄方式的結(jié)構(gòu)的一例，可以構(gòu)成磁性層等作為面內(nèi)信息記錄介質(zhì)。然 后，通過實(shí)施S21的"后熱處理工序"，完成信息記錄介質(zhì)。
[0060] (最終清洗工序（S19)的實(shí)施方式）
[0061] 以下，對(duì)上述最終清洗工序（S19)的具體的實(shí)施方式進(jìn)行說明。最終清洗工序 (S19)包含如下工序：在槽內(nèi)表面（與清洗液接觸的面）是由不銹鋼或樹脂構(gòu)成的第1槽 中，進(jìn)行玻璃基板的清洗；以及，在槽內(nèi)表面是由石英構(gòu)成的第2槽中，進(jìn)行玻璃基板的清 洗。設(shè)置有多個(gè)第1槽，玻璃基板在多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行清洗。關(guān)于第2槽，可以設(shè)置多 個(gè)，也可以設(shè)置1個(gè)。
[0062] 在本說明書中，有時(shí)將槽內(nèi)表面是由不銹鋼、樹脂和石英構(gòu)成的清洗槽分別稱作 不銹鋼槽、樹脂槽和石英槽。
[0063] 在典型的例中，第1槽是整體由不銹鋼構(gòu)成的槽，或者是在整體由不銹鋼構(gòu)成的 槽的內(nèi)表面涂覆樹脂而成的槽，第2槽是整體由石英構(gòu)成的槽，但是，第1槽、第2槽的形態(tài) 不限于上述方式。例如，可以將整體由樹脂構(gòu)成的槽作為樹脂層來使用，也可以將雙重結(jié)構(gòu) 的槽（在外槽的外表面安裝超聲波產(chǎn)生器，在內(nèi)槽中放入清洗液）作為石英槽來使用，該雙 重結(jié)構(gòu)為在由不銹鋼構(gòu)成的外槽中放入傳導(dǎo)液，并在該傳導(dǎo)液中設(shè)置由石英構(gòu)成的內(nèi)槽。 [0064] 在第1槽中分別進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序包含至少1次超聲波清洗。在多個(gè)第 1槽中分別進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序完成之后，進(jìn)行在第2槽中進(jìn)行玻璃基板的清洗的 工序。此外，在第2槽中進(jìn)行玻璃基板的清洗的工序之前，可以設(shè)置對(duì)玻璃基板進(jìn)行擦洗的 工序。
[0065] 作為構(gòu)成第1槽的樹脂，例如可考慮聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚丙烯和聚碳酸酯 等。此外，典型地，第1槽的厚度例如為〇. 03μπι以上且0. 6μπι以下左右；典型地，第2槽 的厚度大于第1槽的厚度，例如為lcm以上且3cm以下左右。
[0066] 在槽內(nèi)表面是由不銹鋼或樹脂構(gòu)成的清洗槽（第1槽）中，為了使尺寸較大的附 著物脫落，通常進(jìn)行較小頻率（作為一例，為78kHz以上且500kHz以下）的超聲波清洗，由 于超聲波的衰減率較小，因此能夠有效去除在研磨工序（S15、S16、S18)中附著在玻璃基板 上的附著物。
[0067] 另一方面，當(dāng)在槽內(nèi)表面是由不銹鋼或樹脂構(gòu)成的清洗槽中進(jìn)行超聲波清洗的情 況下，不銹鋼成分或樹脂成分會(huì)附著于玻璃基板，這有可能在后續(xù)工序中成為引起錯(cuò)誤的 因素。尤其是，不銹鋼成分的影響較大。
[0068] 如果使用槽內(nèi)表面是由石英構(gòu)成的清洗槽（第2槽）來進(jìn)行清洗，則不會(huì)出現(xiàn)由 清洗槽造成的、不銹鋼成分或樹脂成分附著于玻璃基板的情況。但是，在僅使用石英槽的情 況下，不能充分去除在研磨工序中附著的附著物。關(guān)于其原因，本發(fā)明 申請(qǐng)人:進(jìn)行了認(rèn)真研 究，結(jié)果判明原因是：在石英槽中，由于在超聲波清洗時(shí)作為振動(dòng)板的板厚的偏差較大，因 此超聲波的衰減率產(chǎn)生偏差，在清洗中容易產(chǎn)生不均。
[0069] 此外，在對(duì)石英槽使用了堿性的清洗液的情況下，石英有可能溶出。
[0070] 因此，在本實(shí)施方式中，采用如下思想：首先，在不銹鋼槽或樹脂槽中進(jìn)行超聲波 清洗，然后在石英槽中進(jìn)行最終的清洗。在典型示例中，在石英槽中，進(jìn)行比不銹鋼槽或者 樹脂槽更高頻率（作為一例，為900kHz以上）的超聲波清洗。通過進(jìn)行更高頻率的超聲波 清洗，能夠去除在不銹鋼槽或者樹脂槽的清洗工序中附著在玻璃基板上的微小附著物。
[0071] 這樣，在本實(shí)施方式中，分開使用兩種清洗槽來實(shí)施清洗工序，由此，針對(duì)研磨工 序造成的附著物，能夠利用第1槽（不銹鋼槽或者樹脂槽）中的清洗來去除，針對(duì)清洗槽造 成的附著物，能夠利用第2槽（石英槽）中的清洗來去除。其結(jié)果是，在本實(shí)施方式中，能 夠有效地去除在信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造過程中成為不良因素的附著物。
[0072] <實(shí)施例>
[0073] 以下，通過實(shí)施例和比較例，對(duì)上述最終清洗工序（S19)的具體的清洗工序進(jìn)行 說明。
[0074] 在上述"最終清洗工序（S19) "中，使用圖4所示的清洗裝置100,實(shí)施玻璃基板的 清洗。該清洗裝置1〇〇具有玻璃基板裝載站LD、第1清洗站101 (添加了氟化氫的酸清洗、 pH = 3)、第2清洗站102 (使用了純水的清洗）、第3清洗站103 (使用了酸性洗劑的清洗、 pH = 3)、第4清洗站104 (使用了純水的超聲波清洗：130kHz)、第5清洗站105 (使用了純 水的超聲波清洗：950kHz)，第6清洗站106 (IPA干燥）和玻璃基板卸載站ULD，在各站之間 依次傳送玻璃基板。
[0075] 即，在本實(shí)施例和比較例中，在共由6個(gè)槽構(gòu)成的清洗槽中進(jìn)行清洗工序。如下表 1所示，在實(shí)施例1?3和比較例1?3中，除了清洗槽的材質(zhì)以外，均以相同的條件進(jìn)行清 洗。
[0076] [表 1]
[0077]

【權(quán)利要求】
1. 一種信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，具有如下工序： 進(jìn)行玻璃基板的研磨； 在進(jìn)行了所述玻璃基板的研磨之后，進(jìn)行所述玻璃基板的清洗， 進(jìn)行所述玻璃基板的清洗的工序包含如下工序： 在槽內(nèi)表面是由不銹鋼或樹脂構(gòu)成的多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行所述玻璃基板的清洗； 在槽內(nèi)表面是由石英構(gòu)成的第2槽中進(jìn)行所述玻璃基板的清洗， 在所述多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行所述玻璃基板的清洗的工序包含至少1次超聲波清洗， 在所述多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行所述玻璃基板的清洗的工序完成之后，進(jìn)行在所述第2 槽中清洗所述玻璃基板的工序。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中， 進(jìn)行所述玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：在進(jìn)行在所述第2槽中清洗所述玻璃 基板的工序之前，對(duì)所述玻璃基板進(jìn)行擦洗。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其中， 在所述第2槽中清洗所述玻璃基板的工序包含如下工序：對(duì)所述玻璃基板施加900kHz 以上的頻率的超聲波。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1?3中的任意一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其 中， 在所述多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行所述玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：對(duì)所述玻璃 基板施加78kHz以上且500kHz以下的頻率的超聲波。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1?4中的任意一項(xiàng)所述的信息記錄介質(zhì)用玻璃基板的制造方法，其 中， 在所述第2槽中清洗所述玻璃基板的工序包含如下工序：對(duì)所述玻璃基板施加第1頻 率的超聲波， 在所述多個(gè)第1槽中分別進(jìn)行所述玻璃基板的清洗的工序包含如下工序：對(duì)所述玻璃 基板施加比所述第1頻率低的第2頻率的超聲波。
【文檔編號(hào)】B08B11/04GK104160444SQ201280062443
【公開日】2014年11月19日 申請(qǐng)日期:2012年12月19日 優(yōu)先權(quán)日:2011年12月28日
【發(fā)明者】島津典子 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社