專利名稱：防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)。
技術(shù)背景[0002]在半導(dǎo)體行業(yè)，需要對(duì)硅片后道工藝銅互連階段后，多孔性介質(zhì)材料進(jìn)行超精細(xì) 清洗，Chuck (卡盤)夾持的硅片高速旋轉(zhuǎn)進(jìn)行清洗時(shí)在工藝腔室內(nèi)完成，清洗包括藥液漂 洗、超純水沖洗和N2甩干等工藝。在清洗的過(guò)程為了實(shí)現(xiàn)對(duì)化學(xué)藥液的回收利用，工藝腔 室采用分層設(shè)計(jì)，Up/down單元帶動(dòng)Chuck至各工藝位置，由伺服電機(jī)帶動(dòng)Chuck做高速旋 轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，通過(guò)離心力將化學(xué)藥液甩到專用的回收槽里面。為了防止化學(xué)液向下發(fā)生滴漏，需 要在工藝腔室底背部向上吹N2，從而在硅片底部形成一層自下而上的氣體保護(hù)膜。一般情 況下，如果設(shè)備突然發(fā)生斷電，化學(xué)液將會(huì)殘留在硅片上面，此時(shí)如果硅片底部N2保護(hù)氣發(fā) 生中斷，液體將可能通過(guò)硅片邊緣滴漏到工藝腔室里面，嚴(yán)重污染清洗環(huán)境的清潔度。整個(gè) 設(shè)備如果采用UPS斷電保護(hù)，成本較高。實(shí)用新型內(nèi)容[0003](一)要解決的技術(shù)問題[0004]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是，針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種防斷電保護(hù)的 硅片清洗機(jī)，對(duì)N2管路進(jìn)行雙通道設(shè)計(jì)，從而保證整個(gè)清洗過(guò)程N(yùn)2通道始終處于暢通狀態(tài)。[0005](二)技術(shù)方案[0006]本實(shí)用新型提供一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，包括工藝腔室和位于工藝腔室 底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2 管路并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路上設(shè)有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設(shè)有常閉波紋 密封閥。[0007]其中，當(dāng)所述常開波紋密封閥打開時(shí)，所述常閉波紋密封閥關(guān)閉；當(dāng)所述常開波紋 密封閥關(guān)閉時(shí)，所述常閉波紋密封閥打開。[0008]其中，所述常開波紋密封閥和常閉波紋密封閥通過(guò)電磁閥島氣動(dòng)控制。[0009]其中，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常閉波紋密封閥前端管路上的壓力 針閥。[0010]其中，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常閉波紋密封閥后端管路上的單向 閥。[0011]其中，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常開波紋密封閥后端管路上的超聲 波流量計(jì)和過(guò)濾器，所述超聲波流量計(jì)位于所述過(guò)濾器的前端管路上。[0012](三)有益效果[0013]本實(shí)用新型提供的防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，采用雙通道互鎖并聯(lián)設(shè)計(jì)，當(dāng)設(shè)備 主電源發(fā)生斷電時(shí)候，兩個(gè)互鎖的波紋密封閥通過(guò)相反控制動(dòng)作，使N2通路不會(huì)因?yàn)閿嚯?而發(fā)生中斷，保證清洗機(jī)環(huán)境清潔。


[0014]圖1為本實(shí)用新型防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)管路結(jié)構(gòu)示意圖；[0015]圖2為本實(shí)用新型防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)的工藝腔室結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
[0016]
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下 實(shí)施例用于說(shuō)明本實(shí)用新型，但不用來(lái)限制本實(shí)用新型的范圍。[0017]如圖1所示，本實(shí)用新型提供一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，包括工藝腔室8和 位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路9和常閉N2管路10，所述常開 N2管路9與常閉N2管路10并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路9上設(shè)有常開波紋密封閥4，所述常 閉N2管路10上設(shè)有常閉波紋密封閥3。當(dāng)所述常開波紋密封閥4打開時(shí)，所述閉波紋密封 閥3關(guān)閉，當(dāng)所述常開波紋密封閥4關(guān)閉時(shí)，所述閉波紋密封閥3打開。所述常開波紋密封 閥4和常閉波紋密封閥3通過(guò)電磁閥島氣動(dòng)控制。[0018]防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常閉波紋密封閥3前端管路上的壓力針閥 2、位于常閉波紋密封閥3后端管路上的單向閥7以及位于常開波紋密封閥4后端管路上的 超聲波流量計(jì)5和過(guò)濾器6，所述超聲波流量計(jì)5位于所述過(guò)濾器6的前端管路上。[0019]工作原理[0020]設(shè)備啟動(dòng)后，通過(guò)高清度數(shù)字壓力開關(guān)1，將系統(tǒng)設(shè)定到所需要的氣體壓力，通過(guò) 電磁閥島控制的干潔氣源(CDA)氣體對(duì)常開波紋密封閥4和常閉波紋密封閥3進(jìn)行氣動(dòng)控 制，常開波紋密封閥4打開構(gòu)成常開N2管路9 ;常閉波紋密封閥3打開構(gòu)成常閉N2管路10， 在常閉波紋密封閥3前端的管路上設(shè)置一個(gè)可以手動(dòng)調(diào)節(jié)的壓力針閥2，設(shè)備啟動(dòng)后手動(dòng) 打開壓力針閥2，保證斷電時(shí)候N2能夠順利通過(guò)。所述常閉波紋密封閥3由開放切換到關(guān) 閉狀態(tài)，常閉N2管路10斷開；常開波紋密封閥4則由關(guān)閉狀態(tài)切換到打開狀態(tài)，常開N2管 路9保持暢通，N2經(jīng)過(guò)超聲波流量計(jì)5和過(guò)濾器6，進(jìn)入工藝腔室8。如圖2所示，所述工藝 腔室內(nèi)氣道采用變徑、流線型設(shè)計(jì)，在工藝腔室8頂部硅片正下方邊緣地方開設(shè)有均勻間 隔的斜圓孔，保證氣流有足夠的壓力從斜孔噴出，在硅片底部形成一層自底向上流動(dòng)的N2 保護(hù)膜。[0021]以上實(shí)施方式僅用于說(shuō)明本實(shí)用新型，而并非對(duì)本實(shí)用新型的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng) 域的普通技術(shù)人員，在不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和 變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本實(shí)用新型的范疇，本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍應(yīng) 由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求1.一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，其特征在于，包括工藝腔室和位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路上設(shè)有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設(shè)有常閉波紋密封閥。
2.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于，當(dāng)所述常開波紋密封閥打開時(shí)，所述常閉波紋密封閥關(guān)閉；當(dāng)所述常開波紋密封閥關(guān)閉時(shí)，所述常閉波紋密封閥打開。
3.如權(quán)利要求1或2所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于，所述常開波紋密封閥和常閉波紋密封閥通過(guò)電磁閥島氣動(dòng)控制。
4.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括 位于常閉波紋密封閥前端管路上的壓力針閥。
5.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括 位于常閉波紋密封閥后端管路上的單向閥。
6.如權(quán)利要求1所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常開波紋密封閥后端管路上的超聲波流量計(jì)和過(guò)濾器，所述超聲波流量計(jì)位于所述過(guò)濾器的前端管路上。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，包括工藝腔室和位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路上設(shè)有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設(shè)有常閉波紋密封閥。本實(shí)用新型提供的防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，采用雙通道互鎖并聯(lián)設(shè)計(jì)，當(dāng)設(shè)備主電源發(fā)生斷電時(shí)候，兩個(gè)互鎖的波紋密封閥通過(guò)相反控制動(dòng)作，使N2通路不會(huì)因?yàn)閿嚯姸l(fā)生中斷，保證清洗機(jī)環(huán)境清潔。
文檔編號(hào)B08B3/00GK202824050SQ20122047827
公開日2013年3月27日 申請(qǐng)日期2012年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月18日
發(fā)明者張紹國(guó), 何金群, 裴立坤, 吳儀, 王好肖 申請(qǐng)人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司