專利名稱：用于清潔硅襯底的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種用于清潔硅襯底的設(shè)備。特別地，本實(shí)用新型涉及一種用于清潔由清潔液體包圍并通過(guò)處理池運(yùn)輸?shù)墓枰r底的設(shè)備。
背景技術(shù)：
例如，需要如硅晶圓或者由如玻璃、塑料、金屬或者陶瓷的材料制成的晶圓的平坦的物體來(lái)制造太陽(yáng)能電池，而且也制造作為襯底的半導(dǎo)體器件。所述平坦的物體的處理通常還包括例如借助如蝕刻膏、摻雜保護(hù)膏或諸如此類的膏狀的藥劑來(lái)對(duì)至少一個(gè)襯底側(cè)進(jìn)行覆層，所述膏狀的藥劑在稍晚的時(shí)間點(diǎn)必須再次完全地從襯底移除。所述工藝步驟下面簡(jiǎn)短地稱作“清潔”。對(duì)此已知不同的清潔設(shè)備。這種設(shè)備例如在參考文獻(xiàn)PCT/DE2006/000468中公開(kāi)。板形的超聲波振動(dòng)器位于處理池中。待清潔的襯底沿著超聲波振動(dòng)器的發(fā)射超聲波的一側(cè)運(yùn)輸。優(yōu)選地，一個(gè)或多個(gè)超聲波振動(dòng)器的表面相對(duì)于襯底的表面略微傾斜。在優(yōu)選借助輥?zhàn)訉?shí)現(xiàn)的經(jīng)過(guò)處理池期間，進(jìn)行朝向或者背離一個(gè)或多個(gè)超聲波振動(dòng)器的襯底面的清潔。然而，試驗(yàn)已經(jīng)表明，借助超聲波進(jìn)行的清潔僅僅在朝向振動(dòng)器的一側(cè)上是足夠的。尤其關(guān)于高粘度(膏狀)的層的清洗，僅在耗費(fèi)大量時(shí)間和功率的情況下，清潔才是可能的。此外，懸浮在襯底下側(cè)上的并且在襯底上側(cè)上“跳動(dòng)”的雜質(zhì)顆粒妨礙清潔。由此導(dǎo)致的不足的處理效果、長(zhǎng)的處理時(shí)間和/或超聲波振動(dòng)器的高的功率消耗以及所述超聲波振動(dòng)器的高的單件成本是不利的。

實(shí)用新型內(nèi)容因此，本實(shí)用新型的目的為提供一種清潔設(shè)備，所述清潔設(shè)備不具有或者少量具有所描述的缺點(diǎn)。該目的通過(guò)根據(jù)本實(shí)用新型的清潔設(shè)備來(lái)實(shí)現(xiàn)，所述設(shè)備包括用于容納清潔液體的處理池、用于將所述硅襯底沿著清潔平面水平地運(yùn)輸通過(guò)所述處理池的運(yùn)輸設(shè)備、用于產(chǎn)生聲波場(chǎng)的至少一個(gè)振動(dòng)器以及用于將清潔的液體輸出到待清潔的襯底表面上的至少一個(gè)噴嘴，其中所述至少一個(gè)振動(dòng)器在所述處理池中設(shè)置成，使得由所述至少一個(gè)振動(dòng)器發(fā)射的聲波能夠到達(dá)非待清潔的襯底表面上，并且其中所述至少一個(gè)噴嘴設(shè)置并定向成，使得由所述至少一個(gè)噴嘴輸出的所述液體在由所述振動(dòng)器發(fā)射的所述聲波的作用區(qū)域中能夠到達(dá)待清潔的所述襯底表面上。在本實(shí)用新型的下面的描述以及在附圖中能夠得出其他有利的實(shí)施形式。根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備用于單側(cè)地清潔硅襯底，并且包括用于容納清潔液體的處理池、用于將硅襯底沿著清潔平面水平地運(yùn)輸通過(guò)處理池的運(yùn)輸設(shè)備、用于產(chǎn)生聲波場(chǎng)的至少一個(gè)振動(dòng)器(變頻器(Transducer))以及用于將清潔的液體輸出到待清潔的襯底表面上的至少一個(gè)噴嘴，其中所述振動(dòng)器設(shè)置在清潔液體之內(nèi)以最佳地用于清潔適當(dāng)?shù)淖饔脜^(qū)域。[0007]根據(jù)本實(shí)用新型，至少一個(gè)振動(dòng)器在處理池中設(shè)置成，使得由所述振動(dòng)器所發(fā)射的聲波能夠到達(dá)非待清潔的襯底表面上，并且至少一個(gè)噴嘴設(shè)置并定向成，使得由所述噴嘴輸出的液體在由振動(dòng)器發(fā)射的聲波的作用區(qū)域(W)中能夠到達(dá)待清潔的襯底表面上。清楚的是，該設(shè)備除了清潔硅襯底之外還能夠用于其他的材料(如上所述)，并且能夠進(jìn)行襯底表面的其他處理(例如摻雜)來(lái)代替清潔。清潔和其他處理的組合也是可能的。此外清楚的是，清潔尤其涉及襯底的朝向所述至少一個(gè)噴嘴的側(cè)，但使得另一側(cè)仍然也能承受清潔。下面詳細(xì)闡明本實(shí)用新型。處理池用于容納清潔液體，所述清潔液體尤其優(yōu)選為加熱的、O. 05%至O. 5%的KOH(氫氧化鉀、也稱作苛性鉀)。在下文中還更深入探討的運(yùn)輸設(shè)備用于將一個(gè)或多個(gè)襯底引入到清潔液體中以及將所述襯底從清潔液體中引出。襯底的兩側(cè)(上側(cè)和下側(cè))平行于所謂的清潔平面或者位于所謂的清潔平面中，其中根據(jù)定義，所述兩側(cè)由于襯底的小的厚度而彼此緊密相鄰。在清潔平面中，清潔效果特別好。在清潔期間，襯底的兩側(cè)埋入清潔液體中。尤其有利的是，振動(dòng)器產(chǎn)生超聲波或者兆聲波，即在20kHz的頻率之上的范圍中的聲波。聲波形成聲波場(chǎng)，只要聲波沒(méi)有偏轉(zhuǎn)，所述聲波場(chǎng)的波前就基本平行于典型地構(gòu)成板形地的振動(dòng)器的表面走向。如同樣從上述文獻(xiàn)中已知的是，清潔效果不是在距振動(dòng)器的任何距離中都一樣好，而是在特定距離的區(qū)域中，當(dāng)前稱作作用區(qū)域中特別好。如果在振動(dòng)器和襯底之間形成駐波，那么所述距離例如為波長(zhǎng)的四分之一或者四分之三，其中還能夠存在多個(gè)所述范圍。根據(jù)本實(shí)用新型，作用區(qū)域位于清潔液體之內(nèi)，在任何情況下，所述作用區(qū)域?qū)嶋H上都是可用于清潔的部分。至少一個(gè)噴嘴例如經(jīng)由泵用優(yōu)選為來(lái)自處理池的清潔液體的清潔液體來(lái)供給，所述清潔液體然后在一定的壓力下輸出。噴嘴能夠適用于輸出點(diǎn)狀的或者扇面狀的噴束。優(yōu)選地，或者多個(gè)噴嘴或者彼此并排地設(shè)置，或者單個(gè)噴嘴的扇面大致相應(yīng)于襯底的寬度。切口形的噴嘴也能夠提供覆蓋襯底寬度的噴束。因此，根據(jù)本實(shí)用新型，聲波場(chǎng)(和由此典型地還有振動(dòng)器，除了間接的作用方式之外)設(shè)置在清潔平面(進(jìn)而襯底)的一側(cè)上，并且相反于清潔平面發(fā)射。同時(shí)，至少一個(gè)噴嘴設(shè)置在清潔平面(進(jìn)而襯底)的另一側(cè)上，并且同樣指向清潔平面。其結(jié)果為，作用區(qū)域和可從噴嘴中輸出的清潔液體在清潔平面的區(qū)域中相遇。換而言之，作用區(qū)域和由清潔液體構(gòu)成的噴束在那里能夠重疊。 盡管首先容易理解下述猜想，即，噴嘴流同時(shí)存在于以超聲輻射的部位上導(dǎo)致駐波被妨礙，進(jìn)而導(dǎo)致清潔效果變差，但是試驗(yàn)驚人地表明，以根據(jù)本實(shí)用新型的方式實(shí)現(xiàn)的清潔效果相對(duì)于僅借助超聲波場(chǎng)或者借助噴嘴能夠達(dá)到的清潔效果明顯有所改進(jìn)。因此，能夠降低典型地以復(fù)數(shù)存在的、產(chǎn)生超聲波場(chǎng)的振動(dòng)器的數(shù)量。同樣，能夠降低所述振動(dòng)器的功率。以這種方式，在不影響清潔效果的情況下降低了成本。替選地，與傳統(tǒng)的清潔設(shè)備相比，提高了根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備的處理能力，這同樣是有利的。優(yōu)選地，至少一個(gè)噴嘴設(shè)置在清潔液體之外。這也意味著，聲波場(chǎng)設(shè)置在清潔平面之下，并且至少一個(gè)噴嘴設(shè)置在所述清潔平面之上。此外，將清潔液體的液位調(diào)節(jié)成，使得將所述液位設(shè)置在襯底的上側(cè)和噴嘴的出口之下之間，然而至少在清潔平面之上和噴嘴的出口之下之間。以所述方式，從噴嘴輸出的噴束所經(jīng)過(guò)的路程的大部分通過(guò)空氣，并且不通過(guò)厚的液體層而不必要地減速。根據(jù)實(shí)施形式，噴嘴或者至少其輸出清潔液體的開(kāi)口基本垂直于清潔平面(并且因此垂直于襯底的表面)。根據(jù)另一并且優(yōu)選的實(shí)施形式，至少一個(gè)噴嘴以不垂直的角度指向清潔平面。因此，噴束以在I度至89度之間的角度到達(dá)襯底的表面上。試驗(yàn)已經(jīng)表明，以所述方式能夠
進(jìn)一步改善清潔效果。尤其有利的是，所述角度為20度至45度。根據(jù)另一優(yōu)選的實(shí)施形式，振動(dòng)器和噴嘴(或者從噴嘴中輸出的噴束到清潔平面上的相遇點(diǎn))在清潔平面的兩側(cè)上彼此對(duì)置地，即彼此重疊地設(shè)置。這意味著，在觀察者觀察到襯底的環(huán)繞的側(cè)邊的側(cè)視圖中，在振動(dòng)器之上設(shè)有一個(gè)或多個(gè)噴嘴(或者至少所述噴嘴的噴束的相遇點(diǎn))。以所述方式，從噴嘴輸出的液體噴束和由振動(dòng)器發(fā)射的作用區(qū)域能夠盡可能地靠近在一起，這提高了效率或者最小化了功率損失。根據(jù)另一實(shí)施形式，噴嘴正好在側(cè)向上彼此偏移地設(shè)置，即設(shè)置在另外以復(fù)數(shù)存在的振動(dòng)器之間，然而還設(shè)置在清潔平面的另一側(cè)上。如同樣從上述文獻(xiàn)中已知的是，能夠有利的是，振動(dòng)器進(jìn)而平行于所述振動(dòng)器的表面走向的作用區(qū)域相對(duì)于清潔平面成一定角度地指向。尤其有利的是，所述角度選擇成，使得提供作用區(qū)域的振動(dòng)器的前緣相對(duì)于后緣下降或者升高該頻率下的波長(zhǎng)的一半。以所述方式確保，即使當(dāng)在作用區(qū)域和清潔平面之間的距離不是最佳的時(shí)，襯底的每個(gè)部位也至少一次地經(jīng)過(guò)作用區(qū)域?？勺鳛樘孢x地，如在上述文獻(xiàn)中所提出的，因?yàn)橥瑯幽軌虼_保襯底能至少一次地經(jīng)過(guò)作用區(qū)域，所以作用區(qū)域(進(jìn)而提供所述作用區(qū)域的振動(dòng)器)設(shè)計(jì)成能夠沿垂直方向往復(fù)地移動(dòng)或調(diào)節(jié)。同樣地，噴嘴設(shè)計(jì)成可移動(dòng)和/或可調(diào)節(jié)的?？烧{(diào)節(jié)性用于對(duì)噴束角度或者產(chǎn)生所述噴束角度的噴嘴的定向或者定位進(jìn)行匹配。成角度的布置和振動(dòng)器/作用場(chǎng)和/或噴嘴的可移動(dòng)性的組合也是可行的。雖然根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備原則上還能夠用于所謂的“成批設(shè)備”，但是優(yōu)選的是，運(yùn)輸設(shè)備為用于將襯底以運(yùn)輸方向連續(xù)地運(yùn)輸?shù)某芍本€運(yùn)輸設(shè)備(Inline-Transportvorrichtung)。在此,襯底連續(xù)地在根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備的一個(gè)端部處引入到處理池中，運(yùn)送經(jīng)過(guò)清潔液體，并且在另一端部上從所述設(shè)備中取出。尤其有利的是，對(duì)此考慮在清潔平面的單側(cè)或者雙側(cè)上設(shè)置輥?zhàn)?。所述清潔平面置于設(shè)置在襯底之下的輥?zhàn)由?，而設(shè)置在襯底之上的輥?zhàn)佑米鳛樽柚共黄谕钠鸬膲壕o設(shè)備。在此優(yōu)選的是，輥?zhàn)訉?duì)正好關(guān)于清潔平面彼此相對(duì)地設(shè)置(參見(jiàn)在上文中的“彼此相對(duì)”的概念的定義)。替選地，襯底能夠通過(guò)其自重、液體噴束或者負(fù)壓而在運(yùn)輸設(shè)備的方向上移動(dòng)，所述運(yùn)輸設(shè)備例如也可包括運(yùn)載裝置(Carrier)或者所謂的真空吸盤(pán)。對(duì)于成直線運(yùn)輸?shù)膬?yōu)選情況，即持續(xù)地移動(dòng)襯底經(jīng)過(guò)處理池而優(yōu)選的是，將噴嘴相反于襯底的運(yùn)輸方向指向。以所述方式，能夠按照“液體刮鏟”的形式揭下并且有效地沖走待由噴束分離的、尤其為膏狀的材料。[0030]此外優(yōu)選的是，用于加熱清潔液體的裝置包括在所述設(shè)備中，或者配屬于所述設(shè)備。以所述方式能夠?qū)⒁呀?jīng)在處理池中的，和/或在位于上游的接收槽中的清潔液體帶到期望的、適合于清潔的溫度。對(duì)此，還考慮噴嘴加熱器和/或供給所述噴嘴的管道。溫度優(yōu)選調(diào)節(jié)到在室溫和90°C之間的、并且尤其優(yōu)選在50°C和60°C之間的數(shù)值上。在另一優(yōu)選的實(shí)施形式中，根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備具有用于清潔劑添加物的配量裝置。典型地?fù)诫s在水中的、尤其優(yōu)選的清潔劑添加物為之前所述的Κ0Η。供給到處理池或例如也供給到噴嘴中的供應(yīng)管道能夠?qū)崿F(xiàn)配量。最后，根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備還包括用于機(jī)械地輔助清潔的裝置。所述設(shè)備優(yōu)選能夠由刷子組成，所述刷子在運(yùn)輸方向中旋轉(zhuǎn)或者相反于運(yùn)輸方向旋轉(zhuǎn)，其中清楚的是，所述刷子在其作用中既不應(yīng)該影響(遮蓋)噴嘴的噴束也不應(yīng)該影響(遮蓋)聲波場(chǎng)。用于機(jī)械地輔助清潔的設(shè)備優(yōu)選能夠設(shè)置在處理池的起始部和/或終止部上。替選地或者補(bǔ)充地，在朝向振動(dòng)器的側(cè)上的必要時(shí)附加的設(shè)備也是可能的。下面，說(shuō)明之前描述的設(shè)備的優(yōu)選應(yīng)用。由于清晰性，因此放棄重復(fù)。為了實(shí)現(xiàn)改進(jìn)地清潔硅襯底的指向至少一個(gè)噴嘴的側(cè)，振動(dòng)器和至少一個(gè)噴嘴定向成，使得硅襯底在其運(yùn)輸通過(guò)清潔液體期間同時(shí)地穿過(guò)聲波場(chǎng)的最佳地適合于清潔的作用區(qū)域和從至少一個(gè)噴嘴中輸出的噴束。因此，有利的應(yīng)用包括一個(gè)或多個(gè)下述步驟-提供如之前所描述的、用于清潔硅襯底的設(shè)備，-用清潔液體填充處理池，-將襯底沿著清潔平面運(yùn)輸通過(guò)清潔液體，-在襯底的一側(cè)的方向中發(fā)射聲波場(chǎng)，-借助于噴嘴從襯底的另一側(cè)輸出清潔的液體，其中能夠確保，作用區(qū)域和可從噴嘴中輸出的清潔的液體在清潔平面的區(qū)域中相遇。同樣可行的是，在清潔期間，變化振動(dòng)器和/或至少一個(gè)噴嘴的位置和/或定向。通過(guò)間斷的移動(dòng)能夠進(jìn)一步改進(jìn)清潔效果。同樣可行的是，改變噴嘴的輸出量，以便例如產(chǎn)生脈沖的噴束。此外有利的是，在清潔期間進(jìn)行清潔液體的溫度調(diào)節(jié)和/或清潔劑添加物的配量添加。在此，為了避免重復(fù)也參考上面的實(shí)施形式。最后，為了進(jìn)一步改進(jìn)清潔效果，可進(jìn)行機(jī)械的清潔輔助。根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備允許在降低的時(shí)間耗費(fèi)和功率耗費(fèi)的情況下借助超聲波振動(dòng)器從硅襯底中清除尤其高粘度的(膏狀的)覆層，能夠縮短處理時(shí)間和/或降低超聲波振動(dòng)器的功率消耗。總之，這引起在設(shè)備的準(zhǔn)備和運(yùn)行中的更低的成本。

在圖1中示出根據(jù)本實(shí)用新型的用于清潔硅襯底的設(shè)備的一部分的側(cè)視圖。示出單個(gè)的硅襯底I。所述硅襯底被位于處理池2中的清潔液體F包圍。液位P表示清潔液體F的表面位置。
具體實(shí)施方式
硅襯底I借助于運(yùn)輸設(shè)備3沿著清潔平面4以運(yùn)輸方向T運(yùn)送，所述運(yùn)輸設(shè)備包括由彼此對(duì)置的輥?zhàn)?置于上方的輥?zhàn)?A和置于下方的輥?zhàn)?B)組成的輥?zhàn)訉?duì)。對(duì)此，上部的和/或下部的輥?zhàn)?A/3B相應(yīng)地處于旋轉(zhuǎn)中(沒(méi)有示出)。因此，清潔平面4同時(shí)為運(yùn)輸平面。在處理池2之內(nèi)，在清潔平面4的一側(cè)上設(shè)有發(fā)射聲波(沒(méi)有示出)的振動(dòng)器5。在所示出的實(shí)施形式中，所述振動(dòng)器相對(duì)于清潔平面4傾斜角度a。作用區(qū)域W示意地通過(guò)畫(huà)陰影的面示出，在所述作用區(qū)域中由于聲波而出現(xiàn)特別好的清潔效果。所述作用區(qū)域大致平行于振動(dòng)器的表面。對(duì)于水平設(shè)置的振動(dòng)器(沒(méi)有示出)，所述畫(huà)陰影的面在側(cè)視圖中具有大致為矩形的形狀。然而，由于傾斜角度α，所述矩形的一部分位于清潔液體F之外，從而“切掉”由于缺少清潔液體F而不有助于清潔的角。在清潔平面4的另一側(cè)上并且在清潔液體F之外，設(shè)有兩個(gè)噴嘴6。所述噴嘴經(jīng)由供應(yīng)管道7用優(yōu)選為清潔液體F的清潔的液體供給，所述清潔液體然后分別以有針對(duì)性的噴束S射出。每個(gè)噴嘴的優(yōu)選流速為I升/分鐘至2升/分鐘，并且優(yōu)選1. 2升/分鐘。噴束S指向清潔平面4并且與所述清潔平面形成角度β。此外，所述噴束相反于運(yùn)輸方向T起作用。在清潔液體F的液位P之下，噴束S擴(kuò)展(打點(diǎn)的面)。盡管如此，根據(jù)本實(shí)用新型的設(shè)備導(dǎo)致，作用區(qū)域和從噴嘴6中輸出的清潔的液體在清潔平面4的區(qū)域中進(jìn)而在硅襯底I的待清潔的表面的區(qū)域中相遇或者在那里重疊。由此實(shí)現(xiàn)硅襯底的尤其有效的清潔。如所示出的那樣，有利的是，噴束S在輥?zhàn)?Β的附近到達(dá)硅襯底I上，因?yàn)樗龉枰r底在其他情況下經(jīng)受不必要的彎曲負(fù)荷。此外如所示出的，有利的是，振動(dòng)器5和噴嘴6彼此對(duì)置地設(shè)置。附圖標(biāo)記列表I 硅襯底2 處理池3 運(yùn)輸設(shè)備3Α 位于上方的輥?zhàn)?Β 位于下方的輥?zhàn)? 清潔平面5 振動(dòng)器6 噴嘴7 供應(yīng)管道F 清潔液體W 作用區(qū)域P 液位T 運(yùn)輸方向α、β 角度S 噴束
權(quán)利要求1.用于單側(cè)地清潔硅襯底(I)的設(shè)備，所述設(shè)備包括用于容納清潔液體(F)的處理池(2)、用于將所述硅襯底(I)沿著清潔平面(4)水平地運(yùn)輸通過(guò)所述處理池(2)的運(yùn)輸設(shè)備(3)、用于產(chǎn)生聲波場(chǎng)的至少一個(gè)振動(dòng)器(5)以及用于將清潔的液體輸出到待清潔的襯底表面上的至少一個(gè)噴嘴￠)，其中所述至少一個(gè)振動(dòng)器(5)在所述處理池(2)中設(shè)置成，使得由所述至少一個(gè)振動(dòng)器發(fā)射的聲波能夠到達(dá)非待清潔的襯底表面上，并且其中所述至少一個(gè)噴嘴(6)設(shè)置并定向成，使得由所述至少一個(gè)噴嘴輸出的所述液體在由所述振動(dòng)器發(fā)射的所述聲波的作用區(qū)域(W)中能夠到達(dá)待清潔的所述襯底表面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述至少一個(gè)噴嘴(6)設(shè)置在所述清潔液體(F)之外。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中所述至少一個(gè)噴嘴(6)以非垂直的角度(￠)指向所述清潔平面(4)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備，其中所述角度(￠)為20度至45度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中振動(dòng)器(5)和噴嘴(6)彼此上下重疊或者側(cè)向偏移地設(shè)置。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中所述作用區(qū)域(W)相對(duì)于所述清潔平面(4)成角度(a)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求1或2所述的設(shè)備，其中能夠移動(dòng)和/或能夠調(diào)節(jié)所述至少一個(gè)振動(dòng)器(5)和/或所述至少一個(gè)噴嘴(6)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述噴嘴(6)相反于所述硅襯底(I)的運(yùn)輸方向(T)指向。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述設(shè)備還包括用于加熱清潔液體(F)的裝置和/或用于清潔劑添加物的配量裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，還包括用于機(jī)械地輔助清潔的裝置。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種用于清潔硅襯底的設(shè)備。特別地，本實(shí)用新型涉及一種用于清潔由清潔液體包圍并運(yùn)輸通過(guò)處理池的硅襯底的設(shè)備。根據(jù)本實(shí)用新型，用于單側(cè)清潔硅襯底(1)的設(shè)備包括容納清潔液體(F)的處理池(2)、用于通過(guò)處理池(2)沿著清潔平面(4)水平運(yùn)輸硅襯底(1)的運(yùn)輸設(shè)備(3)、用于產(chǎn)生聲波場(chǎng)的至少一個(gè)振動(dòng)器(5)以及用于將清潔的液體輸出到待清潔襯底表面上的至少一個(gè)噴嘴(6)，其中至少一個(gè)振動(dòng)器(5)設(shè)置在處理池(2)中，使得由所述振動(dòng)器發(fā)射的聲波能到達(dá)非待清潔的襯底表面上，且其中至少一個(gè)噴嘴(6)設(shè)置并定向成使得由噴嘴輸出的液體在由振動(dòng)器發(fā)射的聲波的作用區(qū)域(W)中能到達(dá)待清潔襯底表面上。
文檔編號(hào)B08B3/02GK202860913SQ201220277499
公開(kāi)日2013年4月10日 申請(qǐng)日期2012年6月5日 優(yōu)先權(quán)日2012年6月5日
發(fā)明者馬庫(kù)斯·烏伊萊因, 斯特凡·海因里希·韋內(nèi)特, 帕特里克·甘特爾, 克勞迪婭·沙夫納, 馬丁·韋伯 申請(qǐng)人:睿納有限責(zé)任公司