專利名稱：一種玻璃基板清潔系統(tǒng)及其離子風(fēng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及玻璃基板維修過程中清潔設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種玻璃基板清潔系統(tǒng)及其離子風(fēng)裝置。
背景技術(shù)：
在TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜場效應(yīng)晶體管-液晶顯示器)生產(chǎn)工藝中，化學(xué)氣相沉積工藝步驟中對玻璃基板的維修程度對最終產(chǎn)品良品率的提升提到至關(guān)重要的作用。在該化學(xué)氣相沉積工藝步驟中，通常采用鎢粉對玻璃基板中金屬層中的斷線進(jìn)行修復(fù)，修復(fù)后的玻璃基板上的鎢粉會繼續(xù)沉積在玻璃基板上。其中鎢粉的主要成分為六羰基鎢(W(CO)6)是一種無色無臭揮發(fā)性固體，其升華溫度為50°C。由于該生產(chǎn)工藝的生產(chǎn)線內(nèi)環(huán)境要求低溫環(huán)境，因此，沉積在玻璃基板上的鎢粉容易產(chǎn)生結(jié)晶而長時(shí)間附著在玻璃基板的表面上，不易散去，嚴(yán)重影響玻璃基板的清潔度和維修效率，且鎢粉結(jié)晶對玻璃基板在后續(xù)的工序生產(chǎn)中將產(chǎn)生極大的影響，一定程度上降低了最終產(chǎn)品的良品率。如圖1所示，為現(xiàn)有技術(shù)玻璃基板清潔裝置結(jié)構(gòu)示意圖。該玻璃基板清潔裝置包括離子風(fēng)生成器1、基臺3、位于基臺3上的支撐柱4 (pin)，位于基臺3底部的加熱器5，玻璃基板2通過支撐柱4放置在基臺3上。離子風(fēng)生成器1用于將產(chǎn)生的離子風(fēng)吹向玻璃基板的表面，以去除玻璃基板與接觸物之間產(chǎn)生的不良靜電。通過加熱器5散發(fā)出的熱量，可對玻璃基板2下表面進(jìn)行加熱并進(jìn)行熱量擴(kuò)散，使得沉積在玻璃基板2上的部分鎢粉進(jìn)行升華，減少其發(fā)生結(jié)晶現(xiàn)象。但由于該加熱器5位于玻璃基板2的底部，并且其產(chǎn)生的熱量較低，導(dǎo)致加熱器5產(chǎn)生的熱量使位于玻璃基板上表面附著的鎢粉結(jié)晶發(fā)生升華的效果并不明顯，一旦鎢粉結(jié)晶產(chǎn)生后，只依靠加熱器5的單方熱量使其結(jié)晶升華，無形中增加了等待時(shí)間，導(dǎo)致維修基板的效率較低。若將附著在玻璃基板2上的鎢粉結(jié)晶處理得不完全，鎢粉結(jié)晶對玻璃基板2在后續(xù)的工序生產(chǎn)中將產(chǎn)生極大的影響，從而造成本次維修失效，增加了生產(chǎn)成本。

實(shí)用新型內(nèi)容(一 )要解決的技術(shù)問題本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種玻璃基板清潔系統(tǒng)及其離子風(fēng)裝置，以克服現(xiàn)有的玻璃基板清潔裝置去除鎢粉效率低下，導(dǎo)致玻璃基板的整體維修效率較低，并一定程度上影響最終產(chǎn)品良品率等缺陷。( 二 )技術(shù)方案為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型一方面提供一種離子風(fēng)裝置，包括離子風(fēng)生成器，其用于產(chǎn)生離子風(fēng)；所述離子風(fēng)生成器的下方安裝加熱裝置。進(jìn)一步地，所述加熱裝置為加熱電阻絲。[0010] 進(jìn)一步地，所述加熱電阻絲為網(wǎng)狀。 進(jìn)一步地，所述加熱電阻絲為熱敏電阻絲。進(jìn)一步地，所述熱敏電阻絲為雙金屬片，所述雙金屬片由兩種熱膨脹系數(shù)不同的金屬疊合而成。進(jìn)一步地，所述熱敏電阻絲中的一種金屬為錳鎳銅合金、鎳鉻鐵合金或鎳錳鐵合金；其另外一種金屬為鎳鐵合金，其中鎳的含量為34% -50%。另一方面，本實(shí)用新型還提供一種玻璃基板清潔系統(tǒng)，包括支撐柱和基臺，通過支撐柱將玻璃基板放置在基臺上，還包括位于玻璃基板上方的離子風(fēng)裝置。(三)有益效果上述技術(shù)方案具有如下有益效果本實(shí)用新型提供的一種玻璃基板清潔裝系統(tǒng)及其離子風(fēng)裝置，使得玻璃基板周邊環(huán)境溫度可控且易達(dá)到鎢粉升華溫度，便于鎢粉結(jié)晶的快速升華，甚至可有效杜絕鎢粉結(jié)晶現(xiàn)象的發(fā)生，加快了玻璃基板的維修效率進(jìn)而確保了玻璃基板的清潔度，為最終產(chǎn)品良品率的提升提供了清潔保障。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)玻璃基板清潔裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例離子風(fēng)裝置結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例離子風(fēng)裝置中電阻絲俯視圖；圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例玻璃基板清潔系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。圖中1、離子風(fēng)生成器；2、玻璃基板；3、基臺；4、支撐柱；5、加熱器；6、加熱電阻絲。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例，對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。如圖2-3所示，本實(shí)用新型實(shí)施例離子風(fēng)裝置包括離子風(fēng)生成器1，該離子風(fēng)生成器1的下方安裝加熱裝置。該加熱裝置可以將離子風(fēng)生成器1產(chǎn)生的離子風(fēng)加熱，從而使周邊環(huán)境溫度提高。本實(shí)施例中的加熱裝置采用加熱電阻絲6，接通電源，使得加熱電阻絲6自身達(dá)到一定溫度，從而將離子風(fēng)加熱。但需要說明的是，該加熱裝置也可采用普通的加熱器，為了能精確的感知并控制加熱器的加熱溫度，可在普通的加熱器上加設(shè)溫度傳感器，用于感知其加熱溫度，同時(shí)加設(shè)一個(gè)控制器，其與溫度傳感器電路連接，用于根據(jù)溫度傳感器傳遞過來的溫度控制該電路的閉合，從而實(shí)現(xiàn)控制加熱器加熱程度的作用。為了能將各個(gè)角度的離子風(fēng)完全加熱，設(shè)置加熱電阻絲6為網(wǎng)狀。本實(shí)用新型實(shí)施例為了有效控制加熱電阻絲的加熱程度，即防止出現(xiàn)加熱電阻絲6的溫度過高或者過低的現(xiàn)象，加熱電阻絲6采用熱敏電阻絲，對電阻絲的溫度進(jìn)行精確感知。該熱敏電阻絲采用兩種不同材料的金屬片搭接而成且該兩種金屬的熱膨脹系數(shù)不同。由于該兩種金屬的熱膨脹系數(shù)不同，根據(jù)加熱電阻絲6加熱的程度，兩個(gè)金屬片將發(fā)生不同的彎曲形變，進(jìn)而控制該加熱電阻絲電路的閉合，實(shí)現(xiàn)對加熱電阻絲加熱溫度的控制，最終實(shí)現(xiàn)對離子風(fēng)熱量的控制。[0026]其中，熱敏電阻絲中其中一種金屬為錳鎳銅合金、鎳鉻鐵合金或鎳錳鐵合金；其中另外一種金屬為鎳鐵合金，其中鎳的含量為34% -50%。例如可設(shè)置該兩種金屬片的工作溫度為0-50°C，由于該電阻絲中兩個(gè)金屬的熱膨脹系數(shù)不同，當(dāng)電阻絲的溫度達(dá)到50°C時(shí)，其中一個(gè)金屬片將產(chǎn)生明顯的熱膨脹現(xiàn)象而發(fā)生彎曲，進(jìn)而與另外一個(gè)金屬片斷開，電路斷開，從而可有效安全地控制電阻絲的溫度，確保其電阻絲工作的可靠性。如圖4所示，本實(shí)用新型實(shí)施例玻璃基板清潔系統(tǒng)包括基臺3和支撐柱4 (pin)，通過支撐柱4將玻璃基板2放置在基臺3上，還包括位于玻璃基板2上方的離子風(fēng)生成器1，用于向玻璃基板的表面輸送離子風(fēng)，去除玻璃基板與接觸物之間產(chǎn)生的不良靜電。離子風(fēng)生成器1的下方安裝加熱裝置，本實(shí)施例中加熱裝置采用加熱電阻絲6。通過加熱電阻絲6可將吹向玻璃基板2上表面的離子風(fēng)加熱，具有一定熱量的離子風(fēng)可有效將沉積在玻璃基板2上的鎢粉加快揮發(fā)，或者可有效將已成結(jié)晶狀態(tài)的鎢粉直接升華，進(jìn)而將沉積在玻璃基板2上的鎢粉清潔干凈。為了能將各個(gè)角度的離子風(fēng)完全加熱，設(shè)置加熱電阻絲6為網(wǎng)狀。為了有效控制加熱電阻絲的加熱溫度，即防止出現(xiàn)加熱電阻絲6的溫度過高或者過低的現(xiàn)象，加熱電阻絲6采用熱敏電阻絲，對電阻絲的溫度進(jìn)行精確感知。該熱敏電阻絲采用兩種不同材料的金屬片搭接而成且該兩種金屬的熱膨脹系數(shù)不同。由于該兩種金屬的熱膨脹系數(shù)不同，根據(jù)加熱電阻絲6加熱的程度不同，兩個(gè)金屬片將發(fā)生不同的彎曲形變，進(jìn)而控制該加熱電阻絲電路的閉合，實(shí)現(xiàn)對加熱電阻絲加熱溫度的控制，最終實(shí)現(xiàn)對離子風(fēng)熱量的控制。其中，熱敏電阻絲中其中一種金屬為錳鎳銅合金、鎳鉻鐵合金或鎳錳鐵合金；其中另外一種金屬為鎳鐵合金，其中鎳的含量為34% -50%。為了使沉積在玻璃基板2上表面的鎢粉快速發(fā)揮或者使其產(chǎn)生的結(jié)晶直接升華，則可設(shè)置該兩種金屬片的工作溫度為0-50°C，由于該電阻絲中兩個(gè)金屬的熱膨脹系數(shù)不同，當(dāng)電阻絲的溫度達(dá)到50°C時(shí)，其中一個(gè)金屬片將產(chǎn)生明顯的熱膨脹現(xiàn)象而發(fā)生彎曲，進(jìn)而與另外一個(gè)金屬片斷開，從而可有效安全地控制電阻絲的溫度，確保其電阻絲工作的可靠性。另外，為了確保維修工作區(qū)域內(nèi)的溫度能較快的提升，可將基臺下方安裝加熱器5，對玻璃基板2的下表面進(jìn)行加熱，進(jìn)而對工作區(qū)域內(nèi)的溫度進(jìn)行適度的補(bǔ)償。經(jīng)對實(shí)際操作的生產(chǎn)線環(huán)境中測試得知，當(dāng)玻璃基板2周邊的溫度穩(wěn)定在23. 5- °C時(shí)，作用在玻璃基板2上表面溫度容易達(dá)到鎢粉結(jié)晶升華所需的50°C，因此，在玻璃基板的上下表面同時(shí)進(jìn)行加熱，可以更加容易對玻璃基板的升溫，便于鎢粉得快速揮發(fā)，或者直接杜絕鎢粉發(fā)生結(jié)晶的現(xiàn)象發(fā)生。本實(shí)用新型提供的玻璃基板清潔系統(tǒng)及其離子風(fēng)裝置，使得玻璃基板周邊環(huán)境溫度可控且易達(dá)到鎢粉升華溫度，便于鎢粉結(jié)晶的快速升華，甚至可有效杜絕鎢粉結(jié)晶現(xiàn)象的發(fā)生，加快了玻璃基板的維修效率進(jìn)而確保了玻璃基板的清潔度，為最終產(chǎn)品良品率的提升提供了清潔保障。以上所述僅是本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和變型，這些改進(jìn)和變型也應(yīng)視為本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種離子風(fēng)裝置，其特征在于，包括離子風(fēng)生成器，其用于產(chǎn)生離子風(fēng)；所述離子風(fēng)生成器的下方安裝加熱裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的離子風(fēng)裝置，其特征在于，所述加熱裝置為加熱電阻絲。
3.如權(quán)利要求2所述的離子風(fēng)裝置，其特征在于，所述加熱電阻絲為網(wǎng)狀。
4.如權(quán)利要求2所述的離子風(fēng)裝置，其特征在于，所述加熱電阻絲為熱敏電阻絲。
5.如權(quán)利要求4所述的離子風(fēng)裝置，其特征在于，所述熱敏電阻絲為雙金屬片，所述雙金屬片由兩種熱膨脹系數(shù)不同的金屬疊合而成。
6.如權(quán)利要求5所述的離子風(fēng)裝置，其特征在于，所述熱敏電阻絲中的一種金屬為錳鎳銅合金、鎳鉻鐵合金或鎳錳鐵合金；其另外一種金屬為鎳鐵合金。
7.一種玻璃基板清潔系統(tǒng)，包括支撐柱和基臺，通過支撐柱將玻璃基板放置在基臺上，其特征在于，還包括位于玻璃基板上方的如權(quán)利要求1-6所述的離子風(fēng)裝置。
專利摘要本實(shí)用新型涉及玻璃基板維修過程中清潔設(shè)備領(lǐng)域，特別是涉及一種玻璃基板清潔系統(tǒng)及其離子風(fēng)裝置。該玻璃基板清潔系統(tǒng)，包括支撐柱和基臺，通過支撐柱將玻璃基板放置在基臺上，還包括位于玻璃基板上方的離子風(fēng)生成器，離子風(fēng)生成器的下方安裝加熱裝置。本實(shí)用新型提供的一種玻璃基板清潔系統(tǒng)及其離子風(fēng)裝置，使得玻璃基板周邊環(huán)境溫度可控且易達(dá)到鎢粉升華溫度，便于鎢粉結(jié)晶的快速升華，甚至可有效杜絕鎢粉結(jié)晶現(xiàn)象的發(fā)生，加快了玻璃基板的維修效率進(jìn)而確保了玻璃基板的清潔度，為最終產(chǎn)品良品率的提升提供了清潔保障。
文檔編號B08B7/00GK202290659SQ201120289030
公開日2012年7月4日 申請日期2011年8月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月9日
發(fā)明者劉國全, 姜美汐, 田牛, 魏廣偉 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司