專利名稱：一種清洗機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種清洗機(jī)，具體涉及一種具有新型傳輸裝置的清洗機(jī)。
背景技術(shù)：
在液晶顯示LCD(Liquid Crystal Display)行業(yè)、薄膜光伏太陽能行業(yè)、等離子顯 示PDP(Plasma Display Panel)行業(yè)廣泛應(yīng)用干式清洗技術(shù)，應(yīng)用干式清洗技術(shù)清洗大尺 寸鍍膜玻璃工藝表面固體微異顆粒物質(zhì)。干式清洗技術(shù)清洗工作原理是氣體壓縮和膨脹或 壓縮及膨脹反復(fù)進(jìn)行使空氣碰撞并產(chǎn)生超聲波的工藝氣體分離工藝表面固體微異顆粒物 質(zhì)，達(dá)到理想工藝效果需要在清洗頭和工件工藝表面形成均勻的工藝狹縫。為了達(dá)到理想 均勻工藝狹縫需要被清洗工件吸附于工作平臺，使工作平臺對工件向下吸附力抵消理想均 勻工藝狹縫產(chǎn)生的干式清洗頭氣流對工件向上的吸引力。 現(xiàn)有技術(shù)干式清洗技術(shù)有兩種第一、工作臺固定吸附工件固定不動，干式清洗頭 移動完成干式清洗工藝；第二、干式清洗頭固定，工作臺固定吸附工件移動完成干式清洗工 藝。以上工藝方法都存在一個(gè)工藝節(jié)拍出現(xiàn)兩次工件傳輸機(jī)構(gòu)與工作臺的工件交換過程， 此段工藝成為提高生產(chǎn)線整體節(jié)拍的瓶頸。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的就在于提供一種清洗機(jī)，以解決上述現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷。 為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是采用一種清洗機(jī)，包括機(jī)架和設(shè)在所 述機(jī)架上的傳輸裝置和清洗裝置，所述傳輸裝置包括 傳入機(jī)構(gòu)，設(shè)在清洗裝置的一側(cè)，用于向清洗裝置傳入待清洗工件； 傳出機(jī)構(gòu)，設(shè)在清洗裝置的另一側(cè)，用于傳出已清洗工件； 吸盤移動機(jī)構(gòu)，設(shè)在所述傳輸裝置的下方，用于提供工件向下的吸附力。 其中，所述傳入機(jī)構(gòu)和傳出機(jī)構(gòu)分別包括設(shè)在所述機(jī)架上表面的若干滾輪和用于
驅(qū)動滾輪的電機(jī)，所述滾輪用于搭載工件。 其中，若干滾輪對稱分布在所述機(jī)架的寬度方向的兩側(cè)。
其中，所述吸盤移動機(jī)構(gòu)包括 吸盤，用于吸附工件的下表面； 氣缸，設(shè)在移動座板上，與所述吸盤相連，控制吸盤上下移動； 絲杠，橫向設(shè)置在所述機(jī)架上，所述移動座板通過伺服電極的驅(qū)動能夠在所述絲
杠上往復(fù)移動。 其中，還包括 導(dǎo)向滾輪，設(shè)在機(jī)架的上表面，用于對放置在滾輪上的工件進(jìn)行導(dǎo)向。 本實(shí)用新型可大幅度提高干式清洗工藝節(jié)拍，大幅度提高生產(chǎn)線產(chǎn)能，同時(shí)兼容
不同尺寸工件清洗工藝；節(jié)約生產(chǎn)線投資成本，減少生產(chǎn)線占用空間，提高投資回報(bào)率。
圖1是本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
的清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)圖； 圖2是本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
的吸盤移動機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)圖。 圖中主要部件的符號說明1、機(jī)架；2、滾輪；3、滾輪；4、導(dǎo)向滾輪；5、吸盤；6、電 機(jī)；7、電機(jī)；8、工件；9、汽缸；10、伺服電機(jī)；11、吸盤移動機(jī)構(gòu)；12、清洗裝置；13、絲杠。
具體實(shí)施方式以下實(shí)施例用于說明本實(shí)用新型，但不用來限制本實(shí)用新型的范圍。 本實(shí)用新型的清洗機(jī)利用兩套傳輸機(jī)構(gòu)和一套吸盤移動機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)干式清洗工藝。
兩套傳輸機(jī)構(gòu)為傳入機(jī)構(gòu)和傳出機(jī)構(gòu)，分別控制工件滾入傳輸和工件滾出傳輸，干式清洗
工藝過程中兩套滾輪傳輸機(jī)構(gòu)同步，同時(shí)一套吸盤移動機(jī)構(gòu)同步移動并實(shí)現(xiàn)提供工件向下
吸附力，使工件在干式清洗工藝過程中能夠壓附在傳輸滾輪表面，對工件向下吸附力抵消
理想均勻工藝狹縫產(chǎn)生的干式清洗頭氣流對工件向上的吸引力。 如圖1所示，在機(jī)架1上設(shè)置清洗裝置12，清洗裝置12的一側(cè)為傳入機(jī)構(gòu)，另一側(cè) 為傳出機(jī)構(gòu)，傳入機(jī)構(gòu)與傳出機(jī)構(gòu)的下方設(shè)有吸盤移動機(jī)構(gòu)。傳入機(jī)構(gòu)和傳出機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu) 基本相同，傳入機(jī)構(gòu)包括滾輪2和用于驅(qū)動滾輪2的電機(jī)6，傳出機(jī)構(gòu)包括滾輪3和用于驅(qū) 動滾輪3的電機(jī)7，其中滾輪設(shè)在機(jī)架1的上表面，對稱布置在機(jī)架1寬度方向的兩側(cè)，這里 所述的寬度方向?yàn)榇怪庇诩埫娴姆较颉?如圖2所示，吸盤移動機(jī)構(gòu)11包括吸盤5、汽缸9、移動座板19、滾珠絲杠15。所 有吸盤5都設(shè)在吸盤架25上，吸盤架25的下側(cè)設(shè)有連接板24，連接板通過滾珠導(dǎo)套20、升 降導(dǎo)柱21、導(dǎo)柱安裝座22與移動座板19相連，在移動座板19上設(shè)有汽缸9，汽缸9能夠伸 出或縮進(jìn)，汽缸9伸出時(shí)使吸盤5吸附工件8，縮進(jìn)時(shí)吸盤5下降從而放開工件8。移動座 板19的下側(cè)與滾動導(dǎo)軌27連接，通過導(dǎo)軌塊28在滾動導(dǎo)軌27上移動。移動座板19的下 側(cè)還設(shè)有絲杠螺母17，絲杠螺母17設(shè)在絲杠13上，設(shè)在絲杠13 —端的從動帶輪16通過同 步帶14與伺服電機(jī)10的主動同步帶輪13連接，通過伺服電極10的驅(qū)動能夠在絲杠13上 作往復(fù)運(yùn)動。 在機(jī)架1的上表面還設(shè)有導(dǎo)向滾輪，具體設(shè)在工件8的兩側(cè)，即機(jī)架1寬度方向的 兩側(cè)，用于實(shí)現(xiàn)不同尺寸工件8的導(dǎo)向切換。 下面對本實(shí)施方式的工作過程進(jìn)行說明 電機(jī)6驅(qū)動滾輪2快速傳輸工件8至清洗工藝前待機(jī)位置；氣缸9伸出使吸盤5 吸附工件8 ;滾輪2、滾輪3和吸盤5以同步清洗工藝速度(低速)傳輸工件8向前移動；在 清洗裝置12處完成干式清洗工藝過程，氣缸9縮回使吸盤5下降，伺服電機(jī)10驅(qū)動移動座 板19快速返回工件8入口側(cè)，準(zhǔn)備下一節(jié)拍工藝過程，同時(shí)電機(jī)7驅(qū)動滾輪3滾輪繼續(xù)快 速傳輸工件8到設(shè)備出口側(cè)。 本實(shí)施方式的兩套工件滾輪傳輸機(jī)構(gòu)分離，速度可調(diào)，工件流入和流出可同時(shí)進(jìn) 行；清洗工藝速度(低速)傳輸可參數(shù)化調(diào)整；對工件向下吸附力抵消理想均勻工藝狹縫 產(chǎn)生的干式清洗頭氣流對工件向上的吸引力，工藝狹縫工藝參數(shù)任意可調(diào)；吸盤下降、快速 回程不影響整機(jī)工藝節(jié)拍；可實(shí)現(xiàn)不同尺寸工件切換傳輸；可應(yīng)用上下布置雙干式清洗頭 工作方式。
4[0029] 以上為本實(shí)用新型的最佳實(shí)施方式，依據(jù)本實(shí)用新型公開的內(nèi)容，本領(lǐng)域的普通 技術(shù)人員能夠顯而易見地想到一些雷同、替代方案，這些雷同、替代方案均應(yīng)落入本實(shí)用新 型保護(hù)的范圍。
權(quán)利要求一種清洗機(jī)，包括機(jī)架和設(shè)在所述機(jī)架上的傳輸裝置和清洗裝置，其特征在于，所述傳輸裝置包括傳入機(jī)構(gòu)，設(shè)在清洗裝置的一側(cè)，用于向清洗裝置傳入待清洗工件；傳出機(jī)構(gòu)，設(shè)在清洗裝置的另一側(cè)，用于傳出已清洗工件；吸盤移動機(jī)構(gòu)，設(shè)在所述傳輸裝置的下方，用于提供工件向下的吸附力。
2. 如權(quán)利要求1所述的清洗機(jī)，其特征在于，所述傳入機(jī)構(gòu)和傳出機(jī)構(gòu)分別包括設(shè)在所述機(jī)架上表面的若干滾輪和用于驅(qū)動滾輪的電機(jī)，所述滾輪用于搭載工件。
3. 如權(quán)利要求2所述的清洗機(jī)，其特征在于，若干滾輪對稱分布在所述機(jī)架的寬度方向的兩側(cè)。
4. 如權(quán)利要求1所述的清洗機(jī)，其特征在于，所述吸盤移動機(jī)構(gòu)包括吸盤，用于吸附工件的下表面；氣缸，設(shè)在移動座板上，與所述吸盤相連，控制吸盤上下移動；絲杠，橫向設(shè)置在所述機(jī)架上，所述移動座板通過伺服電極的驅(qū)動能夠在所述絲杠上往復(fù)移動。
5. 如權(quán)利要求l所述的清洗機(jī)，其特征在于，還包括導(dǎo)向滾輪，設(shè)在機(jī)架的上表面，用于對放置在滾輪上的工件進(jìn)行導(dǎo)向。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種清洗機(jī)，包括機(jī)架和設(shè)在所述機(jī)架上的傳輸裝置和清洗裝置，所述傳輸裝置包括傳入機(jī)構(gòu)，設(shè)在清洗裝置的一側(cè)，用于向清洗裝置傳入待清洗工件；傳出機(jī)構(gòu)，設(shè)在清洗裝置的另一側(cè)，用于傳出已清洗工件；吸盤移動機(jī)構(gòu)，設(shè)在所述傳輸裝置的下方，用于提供工件向下的吸附力。本實(shí)用新型可大幅度提高干式清洗工藝節(jié)拍，大幅度提高生產(chǎn)線產(chǎn)能，同時(shí)兼容不同尺寸工件清洗工藝；節(jié)約生產(chǎn)線投資成本，減少生產(chǎn)線占用空間，提高投資回報(bào)率。
文檔編號B08B5/00GK201454961SQ20092010908
公開日2010年5月12日 申請日期2009年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月6日
發(fā)明者吳波, 唐鵬, 葛成重 申請人:北京清大天達(dá)光電科技有限公司