專利名稱:清洗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種清洗裝置,尤其涉及一種液晶面板的清洗裝置。
背景技術(shù):
隨著制造技術(shù)的日益進(jìn)展,液晶顯示器(Liquid Crystal Display,LCD)已經(jīng)是一種被廣泛應(yīng)用的顯示元件,其工作原理主要利用電場(chǎng)來控制液晶分子的排列狀態(tài),由背光源產(chǎn)生的光線可通過液晶分子與否以達(dá)成屏幕上明暗的顯示效果。
在液晶顯示器的制造過程中,常會(huì)實(shí)行一平板印刷(lithography)制程,用以在液晶基板的光阻層上形成圖案,該平板印刷制程包括多個(gè)步驟液晶基板清潔、液晶基板烘干、光阻層涂布、光阻層曝光、以及光阻圖案形成等。
請(qǐng)參閱圖1,其為傳統(tǒng)的光阻層涂布制程的結(jié)構(gòu)圖,在圖1中,基板10上涂布著一層光阻層11,由于表面張力的關(guān)系,基板10的四個(gè)邊上常會(huì)發(fā)生厚度不均的部份12,這種產(chǎn)生于基板10的邊緣的現(xiàn)象會(huì)嚴(yán)重影響后段制程的運(yùn)作、以及整條液晶顯示器生產(chǎn)線的合格率;為了解決這個(gè)問題,現(xiàn)有技術(shù)中出現(xiàn)了如下多種改善方法。
(1)浸泡法請(qǐng)參閱圖2,其為現(xiàn)有技術(shù)中浸泡法的示意圖,其利用一夾持器20夾持住基板21,將基板21的四個(gè)邊依序浸泡于容器22所盛裝的清洗劑23之中,以清洗、去除基板21的四個(gè)邊上較厚的光阻層24。
然而,這種方法由于容器22中的清洗劑23一直是重復(fù)地被使用,因此清洗的基板21的數(shù)目越多,后面的清洗制程的效果便越不容易控制,造成基板的報(bào)廢數(shù)目越到后面會(huì)越多;但若是增加清洗劑23的更換次數(shù),反而會(huì)提高生產(chǎn)的成本。
(2)噴灑法請(qǐng)參閱圖3,其為現(xiàn)有技術(shù)中專利號(hào)為6,062,288的美國專利的使用噴灑法的示意圖,其利用一移動(dòng)式的噴灑器30對(duì)基板31的四個(gè)邊緣噴灑清洗劑,以清洗、去除基板31的四個(gè)邊上較厚的光阻層。
然而,由于噴灑器30的清洗劑噴灑范圍不易控制,而靠近基板31的四個(gè)邊緣內(nèi)側(cè)的光阻圖案便容易因此而遭受到清洗劑的破壞,其結(jié)果是雖然清除了基板31邊緣的光阻層,但卻也破壞了整個(gè)光阻圖案。
(3)吹氣法請(qǐng)參閱圖4,其為現(xiàn)有技術(shù)中吹氣法的示意圖。為了改善上述噴灑法的缺失,出現(xiàn)了一種使用風(fēng)刀(air-knife)的清洗裝置,如圖4所示,其在噴灑器40的內(nèi)側(cè)設(shè)置風(fēng)刀41,利用風(fēng)刀41所吹出的氣體使得噴灑器40所噴灑出的清洗劑得以被限制在一定的范圍之內(nèi),以避免前述噴灑法會(huì)破壞光阻圖案的缺失。
然而,以微觀的方式來看,首先,由于風(fēng)刀41所吹出的氣體在接觸到光阻層42時(shí)的壓力分布不均勻,仍然會(huì)使得光阻層42的邊緣產(chǎn)生厚度不平均的現(xiàn)象;再者,若是風(fēng)刀41與基板44之間的距離極小時(shí),風(fēng)刀41所吹出的氣體在接觸到光阻層42之處形成一真空狀態(tài),容易使得基板44被風(fēng)刀41吸住,導(dǎo)致基板44的破損。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種清洗裝置,其將清洗劑滴入海綿體,利用海綿體的多孔性及結(jié)構(gòu)縝密性以清洗基板邊緣,并可控制清洗劑的流量、模厚、清洗面積、以及清洗時(shí)的壓力和穩(wěn)定度,改善傳統(tǒng)洗邊裝置的缺失。
根據(jù)本發(fā)明的主要目的,提出一種清洗裝置,通過一清洗劑以清洗一基板的邊緣,該清洗裝置包括一支撐部;以及一海綿體,連接于該支撐部;其中,將該清洗劑滴入該海綿體后,利用該海綿體與該基板之間的接觸及相對(duì)運(yùn)動(dòng)以進(jìn)行清洗。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗裝置可平行于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制該海綿體與該基板之間的相對(duì)位置。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗劑的種類與該海綿體的種類具有一對(duì)應(yīng)關(guān)系。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗劑通過一針頭滴入該海綿體。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該基板為一硅基板。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗裝置用以清洗該基板的邊緣上的一光阻層。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該支撐部還連接于一伸縮裝置,通過該伸縮裝置的伸縮,使得該海綿體可垂直于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制該海綿體與該基板之間的接觸程度。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該伸縮裝置為一彈簧。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該海綿體通過一軸承而套設(shè)于該支撐部。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該基板固定于一移動(dòng)裝置,該移動(dòng)裝置可平行于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制該海綿體與該基板之間的相對(duì)位置。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該移動(dòng)裝置還包括一基座,用以固定該基板;一旋轉(zhuǎn)馬達(dá),連接于該基座;以及一直進(jìn)馬達(dá),連接于該旋轉(zhuǎn)馬達(dá);通過該旋轉(zhuǎn)馬達(dá)與該直進(jìn)馬達(dá)的相互配合作動(dòng),使得該基座可平行于該基板所在的該平面而運(yùn)動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的另一目的,提出一種清洗裝置,通過一清洗劑以清洗一基板的邊緣,該清洗裝置包括;一第一支撐部,位于該基板的一側(cè);一第一海綿體,連接于該第一支撐部;一第二支撐部,位于該基板的另一側(cè);以及一第二海綿體,連接于該第二支撐部;其中,將該清洗劑滴入該第一及第二海綿體后,分別利用該第一及第二海綿體與該基板之間的接觸及相對(duì)運(yùn)動(dòng)以進(jìn)行清洗。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗裝置可平行于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以分別控制該第一及第二海綿體與該基板之間的相對(duì)位置。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗劑的種類與該第一及第二海綿體的種類具有一對(duì)應(yīng)關(guān)系。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗劑通過一針頭滴入該第一及第二海綿體。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該基板為一硅基板。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該清洗裝置用以清洗該基板的邊緣上的一光阻層。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該第一及第二支撐部更分別連接于一第一及第二伸縮裝置,通過該第一及第二伸縮裝置的伸縮,使得該第一及第二海綿體可垂直于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以分別控制該第一及第二海綿體與該基板之間的接觸程度。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該第一及第二伸縮裝置為一彈簧。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該海綿體通過一軸承而套設(shè)于該支撐部。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中,該基板固定于一移動(dòng)裝置,該移動(dòng)裝置可平行于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以分別控制該第一及第二海綿體與該基板之間的相對(duì)位置。
根據(jù)上述構(gòu)想,其中該移動(dòng)裝置還包括一基座,用以固定該基板;一旋轉(zhuǎn)馬達(dá),連接于該基座;以及一直進(jìn)馬達(dá),連接于該旋轉(zhuǎn)馬達(dá);通過該旋轉(zhuǎn)馬達(dá)與該直進(jìn)馬達(dá)的相互配合作動(dòng),使得該基座可平行于該基板所在的該平面而運(yùn)動(dòng)。
圖1為傳統(tǒng)的光阻層涂布制程的結(jié)構(gòu)圖;圖2為現(xiàn)有技術(shù)中浸泡法的示意圖;圖3為現(xiàn)有技術(shù)中噴灑法的示意圖;圖4為現(xiàn)有技術(shù)中吹氣法的示意圖;圖5為本發(fā)明清洗裝置的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖;圖6為本發(fā)明移動(dòng)裝置的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖;以及圖7為本發(fā)明清洗裝置另一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。
其中,附圖標(biāo)記說明如下10基板11光阻層12厚度不均的部份 20夾持器21基板22容器23清洗劑 24光阻層30噴灑器 31基板40噴灑器 41風(fēng)刀42光阻層 43厚度不均的部份44基板50清洗裝置501支撐部 502海綿體503軸承 51注射裝置511容器 512緩沖容器513連接管 514控制閥
515針頭 52清洗劑53基板 54光阻層55伸縮裝置 60基板61移動(dòng)裝置 611基座612旋轉(zhuǎn)馬達(dá) 613直進(jìn)馬達(dá)62海綿體70基板71光阻層72光阻層具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖5,其為本發(fā)明清洗裝置的一較佳實(shí)施例的結(jié)構(gòu)側(cè)視圖。其中,清洗裝置50由支撐部501以及與其相連的海綿體502所構(gòu)成,通過注射裝置51,將清洗劑52滴入海綿體502后,利用海綿體502與基板53之間的接觸及相對(duì)運(yùn)動(dòng),以清洗基板53的邊緣、或是其上所具有的光阻層54。
如圖5所示,基板53可為一硅基板,海綿體502通過軸承503而套設(shè)于支撐部501,而注射裝置51由容器511、緩沖容器512、連接管513、控制閥514、以及針頭515所共同連接而成,通過控制閥514可以控制清洗劑52自針頭515滴入海綿體502的質(zhì)量、體積、以及速度。
另外,由于所使用的光阻層54的材料不同,因此與其搭配的清洗劑52也就不相同,而為了配合清洗劑52不同種類的酸堿性,所使用的海綿體502的種類也會(huì)不一樣。
其次,支撐部501還可連接于伸縮裝置55,通過伸縮裝置55的伸縮,使得海綿體502可垂直于基板53所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制海綿體502與基板53之間的接觸程度,其中,伸縮裝置55可為一彈簧。
值得一提的是,清洗裝置50、以及伸縮裝置55可平行于基板53所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制海綿體502與基板53之間的相對(duì)位置,以進(jìn)行清洗作業(yè)。
另外,如圖6所示,基板60可固定于移動(dòng)裝置61上的基座611之上,而移動(dòng)裝置61可具有連接于基座611的旋轉(zhuǎn)馬達(dá)612、以及連接于旋轉(zhuǎn)馬達(dá)612的直進(jìn)馬達(dá)613,通過旋轉(zhuǎn)馬達(dá)612與直進(jìn)馬達(dá)613的相互配合作動(dòng),使得移動(dòng)裝置61在搭載著基板60的同時(shí),可平行于基板60所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制海綿體62與基板60之間的相對(duì)位置,便于進(jìn)行清洗作業(yè)。
最后,除了對(duì)于基板單側(cè)的清洗作業(yè)之外,也可以如圖7所示,在基板70的兩側(cè)各設(shè)置一組上述的清洗裝置,以分別或同時(shí)地對(duì)于基板70的邊緣、或是其上的光阻層71、72進(jìn)行清洗作業(yè),當(dāng)然,上述對(duì)于單組清洗裝置的限定皆可應(yīng)用于雙組清洗裝置之上。
綜上所述,可知本發(fā)明所提出的清洗裝置將清洗劑滴入海綿體,利用海綿體的多孔性及結(jié)構(gòu)縝密性以清洗基板邊緣,并可控制清洗劑的流量、模厚、清洗面積、以及清洗時(shí)的壓力和穩(wěn)定度,完全改善了傳統(tǒng)洗邊裝置所具有的缺失;進(jìn)一步來說,本發(fā)明的清洗裝置針對(duì)基板的洗邊作業(yè)方面更具有下列優(yōu)點(diǎn)(1)洗邊邊緣幅寬控制更為精確;(2)洗邊邊緣的直線度更為提高;(3)轉(zhuǎn)印的清洗劑的模厚便于控制;(4)清洗劑的供給系統(tǒng)更為穩(wěn)定;(5)清洗劑的流量控制更加精確;(6)清洗作業(yè)區(qū)左右兩側(cè)的壓力分布相同;以及(7)基板的上下兩側(cè)可同時(shí)清洗。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并非用來限定本發(fā)明的實(shí)施范圍;即凡依本發(fā)明的較佳實(shí)施例所作的均等變化與修飾,皆為本實(shí)用新型的專利保護(hù)范圍所涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種清洗裝置,是通過一清洗劑以清洗一基板的邊緣,該清洗裝置包括一支撐部;以及一海綿體,連接于該支撐部;其中,將該清洗劑滴入該海綿體后,利用該海綿體與該基板之間的接觸及相對(duì)運(yùn)動(dòng)以進(jìn)行清洗。
2.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其中,該清洗裝置可平行于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制該海綿體與該基板之間的相對(duì)位置。
3.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其中,該清洗劑的種類與該海綿體的種類具有一對(duì)應(yīng)關(guān)系。
4.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其中,該清洗劑通過一針頭滴入該海綿體,以使該清洗裝置清洗該基板的邊緣上的一光阻層。
5.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其中,該支撐部還連接于一伸縮裝置,通過該伸縮裝置的伸縮,使得該海綿體可垂直于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制該海綿體與該基板之間的接觸程度;且該伸縮裝置為一彈簧。
6.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其中,該海綿體通過一軸承而套設(shè)于該支撐部。
7.如權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其中,該基板固定于一移動(dòng)裝置,該移動(dòng)裝置可平行于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以控制該海綿體與該基板之間的相對(duì)位置;且該移動(dòng)裝置還包括一基座,用以固定該基板;一旋轉(zhuǎn)馬達(dá),連接于該基座;以及一直進(jìn)馬達(dá),連接于該旋轉(zhuǎn)馬達(dá);通過該旋轉(zhuǎn)馬達(dá)與該直進(jìn)馬達(dá)的相互配合,使得該基座可平行于該基板所在的該平面而運(yùn)動(dòng)。
8.一種清洗裝置,通過一清洗劑以清洗一基板的邊緣,該清洗裝置包括一第一支撐部,位于該基板的一側(cè);一第一海綿體,連接于該第一支撐部;一第二支撐部,位于該基板的另一側(cè);以及一第二海綿體,連接于該第二支撐部;其中,將該清洗劑滴入該第一及第二海綿體后,分別利用該第一及第二海綿體與該基板之間的接觸及相對(duì)運(yùn)動(dòng)以進(jìn)行清洗。
9.如權(quán)利要求8所述的清洗裝置,其中,該清洗裝置可平行于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以分別控制該第一及第二海綿體與該基板之間的相對(duì)位置。
10.如權(quán)利要求8所述的清洗裝置,其中,該第一及第二支撐部還分別連接于一第一及第二伸縮裝置,通過該第一及第二伸縮裝置的伸縮,使得該第一及第二海綿體可垂直于該基板所在的一平面而運(yùn)動(dòng),以分別控制該第一及第二海綿體與該基板之間的接觸程度。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種清洗裝置,通過一清洗劑以清洗一基板的邊緣,該清洗裝置包括一支撐部;以及一海綿體,連接于該支撐部;其中,將該清洗劑滴入該海綿體后,利用該海綿體與該基板之間的接觸及相對(duì)運(yùn)動(dòng)以進(jìn)行清洗。
文檔編號(hào)B08B1/00GK1680049SQ20041003342
公開日2005年10月12日 申請(qǐng)日期2004年4月7日 優(yōu)先權(quán)日2004年4月7日
發(fā)明者吳世敏 申請(qǐng)人:華生科技股份有限公司