專利名稱：清洗設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明是有關于一種清洗設備，且特別是有關于一種可將玻璃基板以垂直方式傳送的清洗設備。
背景技術：
針對多媒體社會的急速進步，多半受惠于半導體組件或人機顯示裝置的飛躍性進步。就顯示器而言，陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)因具有優(yōu)異的顯示品質與其經(jīng)濟性，一直獨占近年來的顯示器市場。然而，對于個人在桌上操作多數(shù)終端機/顯示器裝置的環(huán)境，或是以環(huán)保的觀點切入，若以節(jié)省能源的潮流加以預測，陰極射線管因空間利用以及能源消耗上仍存在很多問題，而對于輕、薄、短、小以及低消耗功率的需求無法有效提供解決之道。因此，具有高畫質、空間利用效率佳、低消耗功率、無輻射等優(yōu)越特性的薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)已逐漸成為市場的主流。值得注意的是，薄膜晶體管液晶顯示器主要由兩玻璃基板以及一液晶層所構成，并于制作之前，必需將玻璃基板送至一清洗設備中清洗，以確保玻璃基板表面的清潔。換言之，倘若清洗設備的清洗效率不佳而無法有效清洗玻璃基板表面的臟污，其將直接影響液晶顯示器的顯示效果。
圖1A繪示為公知清洗設備的配置示意圖。請參照圖1A，清洗設備100用以清洗玻璃基板10，其具有一清洗室110，此清洗室110通常具有一輸入端112及一輸出端114。此外，清洗設備100并包括一玻璃存放裝置120，此玻璃存放裝置120與清洗室110的輸入端112及輸出端114連接，用以存放玻璃基板10。另外，在于清洗室110與玻璃存放裝置120之間通常配置有至少一多軸機械手臂130，用以挾持運送玻璃基板10，可將玻璃基板10由玻璃存放裝置120水平傳輸至輸入端112，或是將玻璃基板10由清洗室110的輸出端114水平傳輸至玻璃存放裝置120。
請共同參照圖1A及圖1B，其中圖1B繪示為公知玻璃基板以水平方式傳送并于清洗時的示意圖。公知的清洗設備100皆以水平方式傳送玻璃基板10，其主要在于清洗室110內(nèi)配置多個滾輪140，此些滾輪140并以數(shù)組方式排列，使得玻璃基板10其中一表面(即背面)可與此些滾輪140接觸，且利用玻璃基板10本身的重力使玻璃基板10與滾輪140產(chǎn)生摩擦力，并在滾輪140轉動的同時進而推動玻璃基板10往固定方向(即箭頭繪示方向)行進。此外，在于清洗室110中并配置有一清洗裝置150，此清洗裝置150通常由多個毛刷及多個清洗用噴嘴所構成，此些清洗用噴嘴并適于噴射一液體于玻璃基板10的表面，此液體例如為去離子水或有機溶液，用以清洗玻璃基板10。
承上所述，使用水平方式傳送玻璃基板在于清洗過程中常會產(chǎn)生下列問題(1)當噴嘴噴射液體清洗玻璃基板的表面時，由于玻璃基板為水平傳送，其清洗所產(chǎn)生的污水易造成玻璃基板表面與滾輪之間摩擦系數(shù)的變異，導致玻璃基板無法順利前進而造成當機的問題。
(2)清洗過程中，由于玻璃基板為水平傳送，當噴嘴清洗玻璃基板的表面時，玻璃基板表面上的微粒(Particle)起初會隨著沖洗的過程中而被帶離于此表面，但因重力方向與玻璃基板表面垂直，使得微粒會再散布于玻璃基板表面的其它位置上，導致玻璃基板再次受到污染，而造成清洗效率不佳。
(3)由于滾輪直接與玻璃基板的表面物理性接觸，當滾輪老化或臟污時，其將連帶使得玻璃基板的表面臟污，如此將會是造成液晶顯示器制作工藝中，貼附于玻璃基板表面上的偏光片(polarizer)常需重工(rework)的主因之一。
(4)由于玻璃基板為水平傳送，其傳送過程中所占的面積較大，故清洗室連帶需要較大的空間。換言之，由于清洗室需要較大的空間，其清洗室的成本將無可避免的大幅提升。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的在提供一種清洗設備，以空間利用率高的垂直方式傳送玻璃基板，并使清洗于玻璃表面的污水不會再回流到玻璃表面上，進而提高清洗效率。
為達本發(fā)明的上述目的，提出一種清洗設備，適于清洗一玻璃基板，此清洗設備主要由一清洗室、一玻璃存放裝置、一第一玻璃轉向裝置、一第二玻璃轉向裝置以及至少一多軸機械手臂所構成。
其中，清洗室具有至少一輸入端及一至少一輸出端，且清洗室具有一清洗區(qū)域及一干燥區(qū)域，干燥區(qū)域位在鄰近于輸出端處，而清洗區(qū)域位于鄰近于輸入端處。
玻璃存放裝置與清洗室的輸入端及輸出端連接，用以存放玻璃基板。多軸機械手臂配置于清洗室與玻璃存放裝置之間，用以挾持運送玻璃基板。第一玻璃轉向裝置及第二玻璃轉向裝置分別配置于清洗室的輸入端及輸出端處，此第一玻璃轉向裝置及第二玻璃轉向裝置例如為一U型挾持組件，其中第一玻璃轉向裝置適于將玻璃基板挾持并由水平狀態(tài)翻轉至垂直狀態(tài)，第二玻璃轉向裝置適于將玻璃基板挾持并由垂直狀態(tài)翻轉至水平狀態(tài)。
此外，清洗室內(nèi)配置有多個主動滾輪以及多個平衡用噴嘴，且在清洗室的清洗區(qū)域及干燥區(qū)域中分別配置有一清洗裝置及一干燥裝置，其中，清洗裝置例如由多個毛刷及多個清洗用噴嘴所構成，此些清洗用噴嘴并適于噴射一液體于玻璃基板的表面，此液體例如為去離子水(DI water)或有機溶液，用以清洗玻璃基板，而干燥裝置例如由多個干燥用噴嘴所構成，此些干燥用噴嘴并適于噴射一氣體于玻璃基板的表面，用以烘干玻璃基板。
另外，每一主動滾輪上皆具有一承靠面，此承靠面適于與玻璃基板的側邊接觸。多個平衡用噴嘴配置于多個主動滾輪的上方，且對應分布于主動滾輪所承靠的玻璃基板的兩側，此些平衡用噴嘴適于噴射一流體于玻璃基板的表面，此流體例如為一氣體或一液體，用以平衡玻璃基板。
實施例中，清洗設備并不限定清洗區(qū)域及干燥區(qū)域必需共存，若清洗設備僅需清洗的功能，其干燥區(qū)域及干燥區(qū)域中所配置的干燥裝置即可省略。
實施例中，干燥區(qū)域中所配置的平衡用噴嘴與干燥裝置可加以整合，改由多個平衡/吹干用噴嘴替代，此些平衡/吹干用噴嘴配置于多個主動滾輪的上方，且對應分布于此些主動滾輪所承靠的玻璃基板的兩側。此些平衡/吹干用噴嘴適于噴射一氣體于玻璃基板的表面，用以平衡玻璃基板之外，并可于干燥區(qū)域中吹干玻璃基板的水分。
實施例中，多個主動滾輪及多個平衡用噴嘴構成一垂直傳送機構，此垂直傳送機構除可運用于本發(fā)明的清洗設備的機臺上，可配置于單獨作為傳送設備的機臺上或是另行配置于具有其它功能的機臺上。
為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉一較佳實施例，并配合所附圖式，作詳細說明。


圖1A為公知清洗設備的配置示意圖；圖1B為公知玻璃基板以水平方式傳送并于清洗時的示意圖；圖2為本發(fā)明清洗設備的配置示意圖；圖3A為本發(fā)明玻璃基板以垂直方式傳送并于清洗區(qū)域中清洗的示意圖；圖3B為本發(fā)明玻璃基板以垂直方式傳送并于干燥區(qū)域中烘干的示意圖；圖3C為本發(fā)明玻璃基板以垂直方式傳送并于干燥區(qū)域中烘干的另一示意圖。
標示說明10玻璃基板100清洗設備110清洗室 112輸入端114輸出端 120玻璃存放裝置130多軸機械手臂 140滾輪
150清洗裝置200清洗設備210清洗室 212輸入端214輸出端 216清洗區(qū)域218干燥區(qū)域220玻璃存放裝置230第一玻璃轉向裝置232主動滾輪233承靠面 234平衡用噴嘴236清洗裝置238干燥裝置240第二玻璃轉向裝置242平衡/烘干用噴嘴250多軸機械手臂具體實施方式
第一實施例圖2為繪示本發(fā)明清洗設備的配置示意圖。請參照圖2，本發(fā)明的清洗設備200主要由一清洗室210、一玻璃存放裝置220、一第一玻璃轉向裝置230、一第二玻璃轉向裝置240以及至少一多軸機械手臂250所構成，此清洗設備200用以清洗至少一玻璃基板10。
其中，清洗室210例如至少具有一輸入端212及至少一輸出端214(本圖僅以一輸入端及一輸出端表示)，且清洗室210內(nèi)具有一清洗區(qū)域216及一干燥區(qū)域218，干燥區(qū)域218位在鄰近于輸出端214處，而清洗區(qū)域216位于鄰近于輸入端212處。而玻璃存放裝置220與清洗室210的輸入端212及輸出端214連接，用以存放玻璃基板10。此外，多軸機械手臂250配置于清洗室210與玻璃存放裝置220之間，用以挾持運送玻璃基板10，可將玻璃基板10由玻璃存放裝置220水平傳輸至第一玻璃轉向裝置230，或是將玻璃基板10由第二玻璃轉向裝置240水平傳輸至玻璃存放裝置220。另外，第一玻璃轉向裝置230及第二玻璃轉向裝置240分別配置于清洗室210的輸入端212及輸出端214處，此第一玻璃轉向裝置230及第二玻璃轉向裝置240例如為一挾持組件，此挾持組件例如為一U型或近似于U型的結構，用以挾持玻璃基板10，其中第一玻璃轉向裝置230適于將玻璃基板10挾持并由水平狀態(tài)翻轉至垂直狀態(tài)而傳輸至輸入端212，第二玻璃轉向裝置240適于將玻璃基板10挾持并由垂直狀態(tài)翻轉至水平狀態(tài)而傳輸至多軸機械手臂250。
請共同參照圖2及圖3A，其中圖3A繪示為本發(fā)明玻璃基板以垂直方式傳送并于清洗區(qū)域中清洗的示意圖。值得注意的是，清洗室210內(nèi)配置有多個主動滾輪232以及多個平衡用噴嘴234，且在清洗室210的清洗區(qū)域216及干燥區(qū)域218中分別配置有一清洗裝置236及一干燥裝置238，其中清洗裝置236例如由多個毛刷及多個清洗用噴嘴所構成，而干燥裝置238例如由多個干燥用噴嘴所構成。
其中，多個主動滾輪232依序排列成一直線，且每一主動滾輪232上皆具有一承靠面233，此承靠面233適于承靠于玻璃基板10的側邊，并利用玻璃基板10本身的重力使玻璃基板10與主動滾輪232的側邊產(chǎn)生摩擦力，并在主動滾輪232轉動的同時，進而推動玻璃基板10往固定方向(即箭頭繪示方向)行進。此外，上述排成直線的多個滾輪并非皆需要為會自行轉動的主動滾輪，可以被動滾輪搭配主動滾輪使用，其通過主動滾輪推動玻璃基板的力量使得被動滾輪隨之跟著轉動，而使玻璃基板也可朝固定方向行進。另外，多個平衡用噴嘴234配置于多個主動滾輪232的上方，且對應分布于主動滾輪232所承靠的玻璃基板10的兩側，此些平衡用噴嘴234適于噴射一流體于玻璃基板10的表面，此流體例如為一氣體或一液體，用以平衡玻璃基板10。
承上所述，當玻璃基板10傳送至清洗區(qū)域216時，清洗裝置236的多個清洗用噴嘴會噴射一液體于玻璃基板10的表面，此液體例如為去離子水或有機溶液，用以清洗玻璃基板10。
由于玻璃基板10改為垂直傳送，當清洗用噴嘴清洗玻璃基板10的表面時，玻璃基板10表面上的微粒會隨著沖洗的過程中而被帶起，且因重力方向與玻璃基板10平行，使得污水不會再度回濺于玻璃基板10，可避免玻璃基板10的表面再度受到微粒的污染，故能提高清洗效率。此外，滾輪232僅與玻璃基板10的側邊接觸，并以平衡用噴嘴234噴射流體固定玻璃基板10的位置，如此可避免過去滾輪直接接觸玻璃基板10表面造成表面臟污的問題。另外，因垂直傳送玻璃基板10，在傳送過程中所占的面積遠小于過去以水平方式傳送所占的面積，其在相同的傳送距離下可縮小清洗室210的空間，可大幅降低清洗室210的成本，或者在相同的清洗空間下以垂直傳送方式可清洗數(shù)量較多的玻璃基板10，故可有效提升玻璃基板10的處理量。
請共同參照圖2及圖3B，其中圖3B繪示為本發(fā)明玻璃基板以垂直方式傳送并于干燥區(qū)域中烘干的示意圖。當玻璃基板10傳送至干燥區(qū)域218時，干燥裝置238的多個干燥用噴嘴會噴射一氣體于玻璃基板10的表面，用以烘干玻璃基板10的水分。值得注意的是，由于在干燥區(qū)域218中需要將玻璃基板10的水分烘干，所以上述平衡用噴嘴234在清洗區(qū)域216中若以噴射一液體來平衡玻璃基板10，其進入干燥區(qū)域218時則必需將此平衡用噴嘴234切換為噴射一氣體來平衡玻璃基板10，使玻璃基板10上的水分可被烘干。當然，平衡用噴嘴234也可在清洗區(qū)域216及干燥區(qū)域218中全程以噴射一氣體來平衡玻璃基板10。
此外，本發(fā)明的清洗設備200并不限定清洗區(qū)域216及干燥區(qū)域218必需共存，若清洗設備200僅需清洗的功能，其干燥區(qū)域218及干燥區(qū)域218中所配置的干燥裝置238即可省略。
第二實施例請參照圖3C，其繪示為本發(fā)明玻璃基板以垂直方式傳送并于干燥區(qū)域中烘干的另一示意圖。其整體結構與第一實施例大致相同，其唯一不同處在于將原干燥區(qū)域218中所配置的平衡用噴嘴234與干燥裝置238加以整合，改由多個平衡/吹干用噴嘴242替代，此些平衡/吹干用噴嘴242配置的位置并與平衡用噴嘴234所配置的位置相同。值得注意的是，此些平衡/吹干用噴嘴242適于噴射一氣體于玻璃基板10的表面，除了用以平衡玻璃基板10之外，并可于干燥區(qū)域218中吹干玻璃基板10的水分，其即可省去第一實施例中所配置的干燥裝置238，進而降低成本，并可達到相同的烘干效果。
第三實施例前述多個主動滾輪232及多個平衡用噴嘴234構成一垂直傳送機構，此垂直傳送機構并不限定運用于本發(fā)明的清洗設備的機臺上，可配置于單獨作為傳送設備的機臺上或是另行配置于具有其它功能的機臺上。綜合上述，本發(fā)明的清洗設備至少具有下列優(yōu)點
(1)本發(fā)明的清洗設備，以垂直方式傳送玻璃基板，清洗玻璃基板所產(chǎn)生的污水，因重力方向與玻璃基板的表面平行，使得污水不會再度回濺于玻璃基板，而避免玻璃基板的表面再度受到污染，故可提高清洗效率。
(2)本發(fā)明的清洗設備，使用空間利用率高的垂直方式傳送玻璃基板，其傳送過程中所占的面積遠小于過去以水平方式傳送所占的面積，故可在相同的傳送距離下可縮小清洗室的空間，進而大幅降低清洗室的成本。
(3)本發(fā)明的清洗設備，以垂直方式傳送玻璃基板，其傳送過程中所占的面積遠小于過去以水平方式傳送所占的面積，故可在相同的清洗空間下可清洗數(shù)量較多的玻璃基板，進而有效提升玻璃基板的處理量(throughput)。
雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技術者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許之更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視權利要求書為準。
權利要求
1.一種清洗設備，適于清洗至少一玻璃基板，其特征在于該清洗設備包括一清洗室，具有至少一輸入端及至少一輸出端，且該清洗室包括一清洗區(qū)域；一第一玻璃轉向裝置，配置于該清洗室的該輸入端處；復數(shù)個主動滾輪，配置于該清洗室中，且每一該些主動滾輪上具有一承靠面，該承靠面適于承靠該玻璃基板的側邊；復數(shù)個平衡用噴嘴，配置于該些主動滾輪的上方，且對應分布于該些主動滾輪所承靠的該玻璃基板的兩側，該些平衡用噴嘴適于噴射一流體于該玻璃基板的表面，用以平衡該玻璃基板；一清洗裝置，配置于該清洗室的該清洗區(qū)域中；一第二玻璃轉向裝置，配置于該清洗室的該輸出端處。
2.如權利要求1所述的清洗設備，其特征在于該第一玻璃轉向裝置為一挾持組件，該挾持組件適于挾持該玻璃基板，并將該玻璃基板由水平狀態(tài)翻轉至垂直狀態(tài)。
3.如權利要求1所述的清洗設備，其特征在于該流體為一氣體。
4.如權利要求1所述的清洗設備，其特征在于該流體為一液體。
5.如權利要求1所述的清洗設備，其特征在于該清洗裝置包括復數(shù)個毛刷；復數(shù)個清洗用噴嘴，該些清洗用噴嘴適于噴射一液體于該玻璃基板的表面。
6.如權利要求1所述的清洗設備，其特征在于該第二玻璃轉向裝置為一挾持組件，該挾持組件適于挾持該玻璃基板，并將該玻璃基板由垂直狀態(tài)翻轉至水平狀態(tài)。
7.如權利要求1所述的清洗設備，其特征在于還包括一玻璃存放裝置，該玻璃存放裝置與該清洗室連接。
8.如權利要求7所述的清洗設備，其特征在于還包括至少一多軸機械手臂，該多軸機械手臂配置于該清洗室與該玻璃存放裝置之間。
9.如權利要求1所述的清洗設備，其特征在于該清洗室還包括一干燥區(qū)域，該干燥區(qū)域位在鄰近于該輸出端處，而該清洗區(qū)域位于鄰近于該輸入端處。
10.如權利要求9所述的清洗設備，其特征在于還包括一干燥裝置，配置于該干燥區(qū)域中，該干燥裝置為復數(shù)個干燥用噴嘴，該些干燥用噴嘴適于噴射一氣體于該玻璃基板的表面。
11.一種清洗設備，適于清洗至少一玻璃基板，其特征在于該清洗設備包括一清洗室，具有一輸入端及一輸出端，且該清洗室包括一清洗區(qū)域及一干燥區(qū)域，其中該干燥區(qū)域位在鄰近于該輸出端處，而該清洗區(qū)域位于鄰近于該輸入端處；一第一玻璃轉向裝置，配置于該清洗室的該輸入端處；復數(shù)個主動滾輪，配置于該清洗室中，且每一該些主動滾輪上具有一承靠面，該承靠面適于承靠該玻璃基板的側邊；復數(shù)個平衡/吹干用噴嘴，配置于該些主動滾輪的上方，且對應分布于該些主動滾輪所承靠的該玻璃基板的兩側，該些平衡/吹干用噴嘴適于噴射一氣體于該玻璃基板的表面以平衡該玻璃基板，并于該干燥區(qū)域中吹干該玻璃基板；一清洗裝置，配置于該清洗室的該清洗區(qū)域中；一第二玻璃轉向裝置，配置于該清洗室的該輸出端處。
12.如權利要求11所述的清洗設備，其特征在于該第一玻璃轉向裝置為一挾持組件，該挾持組件適于挾持該玻璃基板，并將該玻璃基板由水平狀態(tài)翻轉至垂直狀態(tài)。
13.如權利要求11所述的清洗設備，其特征在于該清洗裝置包括復數(shù)個毛刷；復數(shù)個清洗用噴嘴，該些清洗用噴嘴適于噴射一液體于該玻璃基板的表面。
14.如權利要求1 1所述的清洗設備，其特征在于該第二玻璃轉向裝置為一挾持組件，該挾持組件適于挾持該玻璃基板，并將該玻璃基板由垂直狀態(tài)翻轉至水平狀態(tài)。
15.如權利要求11所述的清洗設備，其特征在于還包括一玻璃存放裝置，該玻璃存放裝置與該清洗室連接。
16.如權利要求15所述的清洗設備，其特征在于還包括至少一多軸機械手臂，該多軸機械手臂配設于該清洗室與該玻璃存放裝置之間。
17.一種垂直傳送機構，適于傳送至少一玻璃基板，其特征在于該垂直傳送機構包括復數(shù)個主動滾輪，每一該些主動滾輪上具有一承靠面，該承靠面適于承靠該玻璃基板的側邊；復數(shù)個平衡用噴嘴，配置于該些主動滾輪的上方，且對應分布于該些主動滾輪所承靠的該玻璃基板的兩側，該些平衡用噴嘴適于噴射一流體于該玻璃基板的表面，用以平衡該玻璃基板。
18.如權利要求17所述的垂直傳送機構，其特征在于該流體為一氣體。
19.如權利要求17所述的垂直傳送機構，其特征在于該流體為一氣體。
全文摘要
一種清洗設備，適于清洗至少一玻璃基板，此清洗設備主要具有一清洗室，并于清洗室內(nèi)配置多個主動滾輪以及多個平衡用噴嘴。其中，多個主動滾輪依序排列成一直線可供玻璃基板的側邊承靠，而多個平衡用噴嘴適于噴射一流體于玻璃基板的表面，用以平衡此玻璃基板。通過上述結構可達到垂直傳送玻璃基板的目的。
文檔編號B08B3/02GK1504274SQ0215382
公開日2004年6月16日 申請日期2002年11月28日 優(yōu)先權日2002年11月28日
發(fā)明者李如龍, 林健行, 林益祥 申請人:友達光電股份有限公司