散射校正方法及裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及圖像處理技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種散射校正方法及裝置。
【背景技術(shù)】
[0002] 散射線是光束通過媒質(zhì)時，部分光束將偏離原來方向而分散傳播的光線。在使用 放射源照射被拍攝物體獲取圖像時，散射線成為影響成像質(zhì)量的重要因素，嚴(yán)重影響圖像 的對比度，使得圖像模糊，嚴(yán)重影響圖像的使用價值。
[0003] 現(xiàn)有技術(shù)中，為了消除散射線對成像質(zhì)量的影響，通常采用等效水模校正法來消 除散射線的影響。這種方法使用蒙卡特羅模擬建立的模型是水模型，所得到的散射圖像不 夠準(zhǔn)確，并且需要對圖像進(jìn)行反卷積運(yùn)算，存在著實現(xiàn)過程復(fù)雜、去除散射線的效果不佳的 問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明實施例解決的是如何簡單易行地去除散射線對于圖像成像的影響，提高成 像的質(zhì)量。
[0005] 為解決上述問題，本發(fā)明實施例提供了一種散射校正方法，所述方法包括：
[0006] 獲取待掃描對象的第一投影圖像；
[0007] 建立所述待掃描對象、所述放射源和所述探測器的模型；
[0008] 根據(jù)所建立的所述待掃描對象、所述放射源和所述探測器的模型，獲取所述待掃 描對象的散射圖像；
[0009] 當(dāng)所述散射圖像與所述第一投影圖像的幾何位置一致時，從所述第一投影圖像中 去除所述散射圖像，得到散射校正后的投影圖像。
[0010] 可選地，所述方法還包括：當(dāng)獲取所述第一投影圖像和散射圖像的幾何位置不一 致時，對所述散射圖像進(jìn)行幾何位置校正，得到與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射 圖像，并從所述第一投影圖像中去除與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射圖像，得到 散射校正后的投影圖像。
[0011] 可選地，所述當(dāng)獲取所述第一投影圖像和所述散射圖像的幾何位置不一致時，對 所述散射圖像進(jìn)行幾何位置校正，得到與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射圖像，并 從所述第一投影圖像中去除與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射圖像，得到散射校正 后的投影圖像，包括：
[0012] 將所述第一投影圖像與所述散射圖像進(jìn)行圖像配準(zhǔn)，得到所述散射圖像與所述第 一投影圖像之間的偏移量；
[0013] 根據(jù)所得到的偏移量，將所述散射圖像與所述第一投影圖像進(jìn)行幾何位置校正， 得到與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射圖像；
[0014] 從所述第一投影圖像中去除與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射圖像，得到 散射校正后的投影圖像。
[0015] 可選地，所述根據(jù)所述待掃描對象的密度分布信息和采集第一投影圖像時所使用 的放射源和探測器的信息，采用蒙特卡羅模擬工具建立所述待掃描對象、所述放射源和所 述探測器的模型，包括：
[0016] 獲取所述待掃描對象的密度分布信息；
[0017] 獲取所述放射源發(fā)射的粒子的相空間分布信息；
[0018] 獲取所述探測器的結(jié)構(gòu)和物理參數(shù)信息；
[0019] 將獲取的所述待掃描對象的密度分布信息、所述放射源發(fā)射的粒子的相空間分布 信息和所述探測器的結(jié)構(gòu)和物理參數(shù)信息，分別輸入所述蒙特卡羅模擬工具，分別建立所 述待掃描對象、所述放射源和所述探測器的模型。
[0020] 可選地，所述根據(jù)所述待掃描對象的密度分布信息和采集第一投影圖像時所使用 的放射源和探測器的信息，采用蒙特卡羅模擬工具建立所述待掃描對象、所述放射源和所 述探測器的模型，還包括：根據(jù)采集所述第一投影圖像時所使用的放射源的信息，實時更新 輸入所述蒙特卡羅模擬工具中的放射源發(fā)射的粒子的相空間分布信息。
[0021] 可選地，所述根據(jù)所建立的所述待掃描對象、所述放射源和所述探測器的模型，獲 取所述待掃描對象的散射圖像，包括：
[0022] 采用所述探測器的模型獲取所述放射源的模型發(fā)射粒子時產(chǎn)生的散射線的能量 分布；
[0023] 根據(jù)所獲取的所述散射線的能量分布，計算得到所述待掃描對象的和散射圖像。
[0024] 可選地，所述根據(jù)所獲取的所述散射線的能量分布，計算得到所述待掃描對象的 散射圖像，包括：
【主權(quán)項】
1. 一種散射校正方法，其特征在于，包括： 獲取待掃描對象的第一投影圖像； 建立所述待掃描對象、所述放射源和所述探測器的模型； 根據(jù)所建立的所述待掃描對象、所述放射源和所述探測器的模型，獲取所述待掃描對 象的散射圖像； 當(dāng)所述散射圖像與所述第一投影圖像的幾何位置一致時，從所述第一投影圖像中去除 所述散射圖像，得到散射校正后的投影圖像。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的散射校正方法，其特征在于，還包括：當(dāng)獲取所述第一投影圖 像和散射圖像的幾何位置不一致時，對所述散射圖像進(jìn)行幾何位置校正，得到與所述第一 投影圖像幾何位置一致的散射圖像，并從所述第一投影圖像中去除與所述第一投影圖像幾 何位置一致的散射圖像，得到散射校正后的投影圖像。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的散射校正方法，其特征在于，所述當(dāng)獲取所述第一投影圖像 和所述散射圖像的幾何位置不一致時，對所述散射圖像進(jìn)行幾何位置校正，得到與所述第 一投影圖像幾何位置一致的散射圖像，并從所述第一投影圖像中去除與所述第一投影圖像 幾何位置一致的散射圖像，得到散射校正后的投影圖像，包括： 將所述第一投影圖像與所述散射圖像進(jìn)行圖像配準(zhǔn)，得到所述散射圖像與所述第一投 影圖像之間的偏移量； 根據(jù)所得到的偏移量，將所述散射圖像與所述第一投影圖像進(jìn)行幾何位置校正，得到 與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射圖像； 從所述第一投影圖像中去除與所述第一投影圖像幾何位置一致的散射圖像，得到散射 校正后的投影圖像