專利名稱：X射線層析攝影系統(tǒng)的射線檢測(cè)和準(zhǔn)直一體化組件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及X射線計(jì)算機(jī)層析攝影(CT)系統(tǒng)的射線檢測(cè)系統(tǒng)，特別涉及射線檢測(cè)器和有關(guān)部件的模件結(jié)構(gòu)。
該檢測(cè)系統(tǒng)一般包括一排列在一圓弧上的單行檢測(cè)器陣列，該圓弧的曲率中心稱為”焦點(diǎn)”，X射線源的射線從該點(diǎn)射出。X射線源和檢測(cè)器陣列的位置布置成線源與每一檢測(cè)器之間的X射線路都位于一與轉(zhuǎn)盤的轉(zhuǎn)動(dòng)軸線垂直的平面(該平面下文稱為“轉(zhuǎn)動(dòng)平面”或“掃描平面”)中。由于從一點(diǎn)線源射出的各線路以不同角度射到各檢測(cè)器上，因此這些線路形成一扇形，從而常常用“扇形光束”描述任一時(shí)刻的所有線路。掃描過程中某一測(cè)量時(shí)刻由某一檢測(cè)器檢測(cè)的X射線下文稱為一“射線”。該射線的一部分受其線路中的所有物體的質(zhì)量的衰減，從而所生成的強(qiáng)度測(cè)量為該衰減、從而該線路中質(zhì)量的密度的函數(shù)。一般在轉(zhuǎn)盤許多角位的每一角位上進(jìn)行投影即X射線強(qiáng)度測(cè)量。
為了在一定轉(zhuǎn)動(dòng)平面中重建該斷面的密度圖象，一般在一象素陣列中重構(gòu)該圖象，其中，賦予該陣列中每一象素一值，該值從掃描過程中穿過該象素的所有射線的衰減算出。由于線源和檢測(cè)器圍繞物體轉(zhuǎn)動(dòng)，因此射線從不同方向或投影角穿透物體后穿過象素的不同組合。從這些測(cè)量用數(shù)學(xué)方法算出物體在該斷層面平面中的密度分布，各象素的亮度值表示該分布。結(jié)果，亮度值各不相同的象素的一陣列表示該掃描平面的密度圖象。
為了進(jìn)行圖象重建，必須精確知道射線位置。為了不必反復(fù)進(jìn)行校準(zhǔn)和矯正射線就可精確定位，檢測(cè)器必須精確定位，測(cè)量必須精確定時(shí)，使得每一投影的每一檢測(cè)器的角位預(yù)定。
此外，由于密集物質(zhì)會(huì)造成X射線散射，因此把從線源到檢測(cè)器不沿直線傳播的射線排除在該檢測(cè)器的測(cè)量之外至關(guān)重要。為了除去該散射射線，一般在檢測(cè)器與物體之間插入一排非常薄的抗散射板，各抗散射板校準(zhǔn)，使得從線源發(fā)出的射線準(zhǔn)直，從而只有線源與檢測(cè)器之間沿幅向直線傳播的射線才照射到檢測(cè)器上。
不幸的是，抗散射板的使用造成額外問題，因?yàn)?，如果抗散射板把X射線“陰影”投射到檢測(cè)器上，它們就會(huì)干擾檢測(cè)器的測(cè)量。不僅是陰影中的檢測(cè)器的輸出會(huì)減小，而且線源、抗散射板和／或檢測(cè)器的即使是極微小的振動(dòng)或橫動(dòng)也會(huì)造成該輸出的改變。
如考慮到，為了提供當(dāng)今X射線層析攝影掃描器所需的高分辨率，檢測(cè)器的數(shù)量以成百計(jì)，扇形光束圓弧的一弧度中就有好幾個(gè)檢測(cè)器，滿足這些要求的困難就可想而知了。這使得一般的檢測(cè)器的寬度約為1mm，一般的抗散射板的尺寸為在幅向上長(zhǎng)約38mm，厚約0．1mm，要求檢測(cè)器和抗散射板的位置和校準(zhǔn)極其精確。使該問題更復(fù)雜的是，該整個(gè)組件通常以約60-120rpm的轉(zhuǎn)速圍繞被掃描物體轉(zhuǎn)動(dòng)，從而生成變動(dòng)很大的力，需要牢固的安裝方法。
在以前，為努力達(dá)到這些困難所提出的要求，所制造的CT機(jī)的質(zhì)量很大，安裝費(fèi)錢費(fèi)時(shí)，要費(fèi)大力在抗散射板和檢測(cè)器的校準(zhǔn)上。如由于某種原因必須更換或重新校準(zhǔn)一個(gè)或多個(gè)部件，重新裝配和重新校準(zhǔn)往往無法在現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行，整個(gè)檢測(cè)系統(tǒng)必須送回廠中。
解決這一問題的一種方案是使用檢測(cè)器和抗散射板陣列的預(yù)裝配模件，例如見轉(zhuǎn)讓給本發(fā)明受讓人的Dobbs等人的美國(guó)專利No．5，487，098。檢測(cè)器和抗散射板模件必須分別裝在一支撐結(jié)構(gòu)或背脊上，然后把該背脊裝到該層析攝影系統(tǒng)的一轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)架上。因此每一檢測(cè)器模件必須與一對(duì)應(yīng)抗散射板模件校準(zhǔn)，然后每一對(duì)模件必須相對(duì)焦點(diǎn)校準(zhǔn)，以接受最大量的射線。
另一種方案見Shaw等人的美國(guó)專利No．4，338，521，在該專利中，一模件化檢測(cè)器陣列包括可拆開的兩個(gè)組裝部分，一部分中為檢測(cè)器，另一部分中為抗散射板。該陣列的這兩個(gè)部分必須裝配在一起后才能相互校準(zhǔn)。組裝成的該模件然后相對(duì)線源校準(zhǔn)，然后固定裝到該層析攝影裝置上。
高分辨率檢測(cè)子系統(tǒng)的一個(gè)困難之處是獲得并保持檢測(cè)器和抗散射板與從線源發(fā)出的X射線光束的較嚴(yán)的校準(zhǔn)要求。溫度和振動(dòng)的改變更加大了該子系統(tǒng)相對(duì)校準(zhǔn)的難度。
本發(fā)明的目的本發(fā)明的一個(gè)目的是消除現(xiàn)有技術(shù)的這些缺點(diǎn)。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供CT掃描器的一種射線檢測(cè)系統(tǒng)，它能大大消除各檢測(cè)器模件與對(duì)應(yīng)抗散射板模件的麻煩的校準(zhǔn)以及這一對(duì)對(duì)模件與線源的校準(zhǔn)。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供射線檢測(cè)系統(tǒng)的一種一體化結(jié)構(gòu)，它能進(jìn)行最大量射線檢測(cè)，簡(jiǎn)化該層析攝影裝置的結(jié)構(gòu)、裝配和維護(hù)。
按照本發(fā)明，提供X射線層析攝影系統(tǒng)的一種一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件。該層析攝影系統(tǒng)包括一輻射源；支撐一被掃描物體的裝置；檢測(cè)穿過該物體的射線、生成表示該物體諸部分的相對(duì)衰減的電信號(hào)的裝置以及一把該輻射源和檢測(cè)裝置支撐成可相對(duì)該物體轉(zhuǎn)動(dòng)的支架。該一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件包括a．在一基片上布置成一陣列的多個(gè)光二極管；b．布置成可接收從輻射源發(fā)出的X射線的多個(gè)閃爍晶體，各晶體之間相距一非檢測(cè)區(qū)，每一晶體布置在一對(duì)應(yīng)陣列中并與一對(duì)應(yīng)光二極管校準(zhǔn)和光耦合；c．在一線性陣列中布置在這些晶體上方的多個(gè)抗散射板，每一抗散射板與相鄰兩晶體之間的一對(duì)應(yīng)非檢測(cè)區(qū)校準(zhǔn)；以及d．該組件的一殼體，包括一中心支撐部，該中心支撐部支撐該基片，使得這些閃爍晶體受從輻射源發(fā)出的X射線的照射；從該中心支撐部伸出、界定光二極管、晶體和抗散射板陣列的一內(nèi)部區(qū)的一對(duì)壁以及從光二極管經(jīng)該殼體到一數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)的電連接通道裝置。從而光二極管、閃爍晶體和抗散射板都相對(duì)固定在該殼體中。該殼體可牢牢固定在該支架上。
該一體化組件還可包括從該殼體兩壁伸出、界定一射線準(zhǔn)直區(qū)的X射線準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)，用來接收和準(zhǔn)直穿過被掃描物體后進(jìn)入該殼體的X射線。該X射線準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)包括一對(duì)X射線不透明的準(zhǔn)直板和在這兩個(gè)準(zhǔn)直板之間校準(zhǔn)、固定抗散射板的裝置。
在一實(shí)施例中，對(duì)X射線不透明的準(zhǔn)直板由殼體兩壁延伸而成，包括在一對(duì)非對(duì)X射線不透明支撐結(jié)構(gòu)上的一對(duì)X射線不透明涂層。在另一實(shí)施例中，兩準(zhǔn)直板包括固定裝在殼體兩壁上的獨(dú)立的對(duì)X射線不透明板。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，在兩準(zhǔn)直板之間校準(zhǔn)、固定抗散射板的裝置包括兩準(zhǔn)直板中的多個(gè)校準(zhǔn)槽。對(duì)應(yīng)校準(zhǔn)槽互相對(duì)齊，用來固定其中的抗散射板的垂直邊。
從光二極管到遠(yuǎn)處一數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)的電連接通道裝置包括與殼體的中心支撐部對(duì)齊地穿過殼體兩壁之一的一部分的一通道。
閃爍晶體陣列包括固定校準(zhǔn)抗散射板與相鄰兩晶體之間非檢測(cè)區(qū)的裝置。固定校準(zhǔn)抗散射板的該裝置包括相鄰兩晶體之間的非檢測(cè)區(qū)中的一凹槽。每一凹槽用來固定一對(duì)應(yīng)抗散射板的底邊。
在一優(yōu)選實(shí)施例中，每一抗散射板固定在相鄰兩晶體之間一對(duì)應(yīng)非檢測(cè)區(qū)的一部分中。
該一體化組件還可包括把該殼體固定安裝到該支架上的裝置。
本發(fā)明的上述和其他目的和優(yōu)點(diǎn)一部分顯而易見，一部分可從下述說明中看出。因此本發(fā)明包括具有例示在下述詳細(xì)說明中的結(jié)構(gòu)、元件組合和部件布置的CT裝置，其范圍示出在權(quán)利要求中。
本發(fā)明的詳細(xì)說明

圖1示出體現(xiàn)本發(fā)明原理的一CT掃描器8。為生成CT掃描數(shù)據(jù)，掃描器8包括裝在一轉(zhuǎn)盤10上的一X射線源12和檢測(cè)組件14。掃描過程中，線源12和檢測(cè)組件14圍繞轉(zhuǎn)動(dòng)軸線16(與圖1紙面垂直)轉(zhuǎn)動(dòng)，從而圍繞穿進(jìn)轉(zhuǎn)盤中心開口的物體18轉(zhuǎn)動(dòng)。線源12在掃描平面(與轉(zhuǎn)動(dòng)軸線16垂直)中輻射X射線的一連續(xù)扇形光束20，該光束穿透物體18后被組件14中的檢測(cè)器檢測(cè)。檢測(cè)／準(zhǔn)直組件14包括一閃爍晶體陣列24和一抗散射板陣列22。在該優(yōu)選實(shí)施例中，檢測(cè)器的數(shù)量為400-700，排列在約為48°的弧度上。用鋁之類輕型材料制成的轉(zhuǎn)盤10圍繞軸線16轉(zhuǎn)動(dòng)。轉(zhuǎn)盤10為開口支架結(jié)構(gòu)，因此物體18可穿進(jìn)轉(zhuǎn)盤的開口中。物體18比方說可支撐在一平臺(tái)32上，該平臺(tái)當(dāng)然對(duì)X射線透明。隨著轉(zhuǎn)盤10的轉(zhuǎn)動(dòng)，檢測(cè)組件14周期取樣，在掃描平面中從許多投影角生成穿過物體18的X射線的離散測(cè)量值。然后用合適的信號(hào)處理設(shè)備(未示出)按照公知數(shù)學(xué)方法對(duì)這些測(cè)量值進(jìn)行處理，從而生成最終圖象。該圖象可存入存儲(chǔ)器中、在計(jì)算機(jī)中分析或適當(dāng)顯示。
檢測(cè)組件14裝在一用作支撐件的支撐背脊28上，該支撐背脊用合適支撐30支撐在轉(zhuǎn)盤10上，使得這些檢測(cè)器和準(zhǔn)直器都位于掃描平面中，這些檢測(cè)器和準(zhǔn)直區(qū)以線源12的焦點(diǎn)為圓心的圓心角相同。
在本發(fā)明之前，必須費(fèi)力互相校準(zhǔn)檢測(cè)器與抗散射板后與它們的支撐結(jié)構(gòu)校準(zhǔn)，以確保這些元件在層析攝影系統(tǒng)的轉(zhuǎn)盤上的定位。
圖2示出本發(fā)明一體化組件的一優(yōu)選實(shí)施例。如圖2和3所示，檢測(cè)器和抗散射板陣列的殼體34呈倒椅子形。椅子形殼體34的“兩腿”形成一對(duì)向上伸展、即沿徑向伸向X射線源的壁36，從而形成一內(nèi)區(qū)38，檢測(cè)組件14和抗散射板陣列22位于該內(nèi)區(qū)中。該椅子形殼體的“座位”部水平伸展而形成一平臺(tái)40，該平臺(tái)用來支撐基片42，光二極管44裝在該基片上。該椅子形殼體的“椅背”部形成一與兩壁36伸展方向相反地向下伸展、即沿徑向伸離線源的裝配部46，其上有一定位精確的機(jī)加工孔48，如圖3所示，一裝配銷插入該孔中，從而把該組件與背脊校準(zhǔn)地裝到背脊上。
沿殼體34的平臺(tái)40的頂邊，一通道50穿過兩壁36之一，該通道的間隙足夠大，如圖3所示，以容納與光二極管連接的電纜51或其他信號(hào)傳輸線。如圖2所示，該通道50的間隙還足以容納基片42的一部分。該通道50最好在與光二極管44同一水平面上穿過一壁36，使得光二極管不繃緊電纜。
如圖2所示，一最好用陶瓷制成的剛性基片42比方說用施加在凹槽35中的粘膠緊固在殼體34的平臺(tái)40上。為熱穩(wěn)定和機(jī)械穩(wěn)定，最好使用硅基粘膠。一光二極管44陣列排列在基片42上。各光二極管與信號(hào)傳輸裝置51之間用導(dǎo)電引線電連接。
一閃爍晶體15陣列在光二極管陣列上排列成每一晶體15與底下的一對(duì)應(yīng)光二極管校準(zhǔn)并與該光二極管光耦合。每一晶體陣列最好包括約24個(gè)晶體。
一抗散射板22陣列放置在閃爍晶體15上，在光路中沿徑向與從焦點(diǎn)發(fā)出的X射線校準(zhǔn)，使得只有從焦點(diǎn)直接到達(dá)檢測(cè)器的X射線才照射到晶體表面上。如所公知，抗散射板22最好用鎢、鉭或鉛之類對(duì)X射線不透明材料制成。本發(fā)明一體化組件中的抗散射板最好僅厚約0．1mm，長(zhǎng)、寬約20mm。
如圖4所示，在一陣列中，各閃爍晶體15之間相距較窄非檢測(cè)區(qū)52。這些非檢測(cè)區(qū)包括一晶體的各邊和相鄰兩晶體之間的反光材料54，這在下文詳述。晶體陣列的這些非檢測(cè)區(qū)對(duì)射線的敏感性比晶體主體弱得多。
現(xiàn)有CT掃描系統(tǒng)中使用各種方法盡可能減小閃爍晶體陣列中非檢測(cè)區(qū)的大小，從而盡可能加大檢測(cè)區(qū)的大小。其中的一種方法是在相鄰兩晶體之間的這些非檢測(cè)區(qū)52上直接校準(zhǔn)各抗散射板22，從而不遮住晶體的高靈敏性部分。但是，在現(xiàn)有技術(shù)中，第三代CT掃描器所要求的高分辨率需要使用大量極小、極密集的檢測(cè)元件。在這些系統(tǒng)中，在抗散射板與相鄰兩晶體之間的極窄非檢測(cè)區(qū)之間很難保持所需校準(zhǔn)。
本發(fā)明對(duì)抗散射板的校準(zhǔn)方法作出改進(jìn)。按照本發(fā)明，各抗散射板22嵌入相鄰兩閃爍晶體之間非檢測(cè)區(qū)的一部分中后固定在其中，從而保持它們之間的校準(zhǔn)。每一閃爍晶體除與底下光二極管抵靠的表面之外的其他各表面上涂以二氧化鈦或環(huán)氧樹脂之類反光涂層54，使得由晶體反射到光二極管上的可見光盡可能多。每一晶體的各表面上還覆蓋一層金屬箔或其他金屬涂層56，進(jìn)一步提高內(nèi)部反光，防止可見光在朝向光二極管方向之外的方向上射出晶體。
按照本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例，如圖5所示，晶體陣列頂面上反光涂層54或56中有一凹槽58。每一凹槽58精確位于相鄰兩晶體之間一非檢測(cè)區(qū)52的區(qū)域中，其大小供一抗散射板22的對(duì)應(yīng)邊緊緊插入其中。該凹槽的深度足以使一抗散射板的一邊緊插其中，但不穿透反光層54、56而露出底下晶體表面。
需要時(shí)，可在抗散射板與對(duì)應(yīng)凹槽交界面上涂以少量熱穩(wěn)定粘膠，把抗散射板的該邊牢牢粘住在該凹槽中。這樣，抗散射板相對(duì)閃爍晶體牢牢固定而與相鄰兩晶體之間的非檢測(cè)區(qū)校準(zhǔn)，從而即使在振動(dòng)或熱不穩(wěn)定條件下也不遮住晶體。
按照本發(fā)明，如前所述和如圖2和3所示，還在殼體34的兩壁36之間形成一X射線光束準(zhǔn)直區(qū)60。在一優(yōu)選實(shí)施例中，該準(zhǔn)直區(qū)60由一包括一對(duì)準(zhǔn)直板62的準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)61界定。準(zhǔn)直區(qū)60的寬度決定于兩壁36端部上兩準(zhǔn)直板62之間的水平距離。該光束準(zhǔn)直區(qū)60用來進(jìn)一步聚焦照射到閃爍晶體上的X射線光束，從而減小散射，確保只有從焦點(diǎn)直接到達(dá)檢測(cè)器的射線到達(dá)檢測(cè)晶體。
如圖2所示，準(zhǔn)直板62中有在準(zhǔn)直區(qū)60兩邊上互相對(duì)齊的切口64。切口64的大小供對(duì)應(yīng)抗散射板22的一邊緊緊插入其中，使得各抗散射板沿相對(duì)兩垂直邊固定在校準(zhǔn)位置上。需要時(shí)，可在切口與抗散射板的邊的交界面上涂以熱穩(wěn)定粘膠，把抗散射板的邊永久粘住在切口中。
如圖2所示，該陣列后端上的抗散射板22a不是插入在準(zhǔn)直板62的切口中，而是粘到準(zhǔn)直板62的該邊上。由于該端部抗散射板22x緊固在準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)的該邊上，因此使得檢測(cè)組件14和準(zhǔn)直板中的切口64獲得正確定位。如上所述，各抗散射板22垂直邊的頂部緊固在兩準(zhǔn)直板的對(duì)應(yīng)凹槽64中。抗散射板22的底邊與晶體之間非檢測(cè)區(qū)52上的檢測(cè)陣列的各凹槽58校準(zhǔn)并緊固其中，因此無需另外使用校準(zhǔn)結(jié)構(gòu)或方法，抗散射板也不會(huì)遮住晶體上的X射線。
在一實(shí)施例中，準(zhǔn)直板62由殼體的壁36延伸而成，因此由與殼體相同材料、即鋁或不銹鋼制成。在該實(shí)施例中，為了界定準(zhǔn)直區(qū)60，準(zhǔn)直板62上需要有一對(duì)X射線不透明涂層。在另一實(shí)施例中，準(zhǔn)直板62為比方說用粘膠粘在壁36端部上的獨(dú)立部件。在該實(shí)施例中，準(zhǔn)直板可用任何對(duì)X射線不透明材料制成，例如鉭、鎢或鉛。準(zhǔn)直板62最好使用鉭，因?yàn)樗鼘?duì)X射線不透明，而且容易機(jī)加工。材料的選擇至少部分地要考慮到熱膨脹特性，使得掃描器運(yùn)行過程中整個(gè)組件均勻收縮或膨脹，不致在組件中產(chǎn)生應(yīng)力。
殼體34最好用從包括鋁或不銹鋼的一組材料中選出的材料制成。
椅子形殼體34的平臺(tái)部40中有定位精確的穿孔66，用銷或螺栓插入該孔中，如圖3所示把殼體緊固到背脊28上。需要時(shí)，如圖3所示，殼體34與背脊28之間可使用墊圈68。
盡管以上詳細(xì)說明了本發(fā)明一些例示性實(shí)施例，但本領(lǐng)域普通技術(shù)人員不難看出，只要原則上不背離本發(fā)明的新型特征和優(yōu)點(diǎn)，可對(duì)這些例示性實(shí)施例作出種種修正。因此，所有這些修正都包括在由權(quán)利要求限定的本發(fā)明范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.X射線層析攝影系統(tǒng)的一種一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，該層析攝影系統(tǒng)包括一輻射源；支撐一被掃描物體的裝置；檢測(cè)穿過所述物體的射線、生成表示該物體諸部分的相對(duì)密度的電信號(hào)的裝置以及一把所述線源和所述檢測(cè)裝置支撐成可相對(duì)所述物體轉(zhuǎn)動(dòng)的支架，其特征在于，所述組件包括a．在一基片上布置成一線性陣列的多個(gè)光二極管；b．布置成可接收從所述輻射源發(fā)出的X射線的多個(gè)閃爍晶體，各晶體之間相距一非檢測(cè)區(qū)，每一所述晶體布置在一陣列中并與一對(duì)應(yīng)光二極管校準(zhǔn)和光耦合；c．在一對(duì)應(yīng)陣列中布置在所述晶體上方的多個(gè)抗散射板，每一所述抗散射板與相鄰兩晶體之間的一對(duì)應(yīng)非檢測(cè)區(qū)校準(zhǔn)；以及d．所述組件的一殼體，所述殼體包括一中心支撐部，該中心支撐部支撐所述基片，使得所述閃爍晶體受從所述輻射源發(fā)出的X射線的照射；從所述中心支撐部伸出、界定光二極管、晶體和抗散射板的所述各陣列的一內(nèi)部區(qū)的一對(duì)壁以及從所述光二極管經(jīng)所述殼體到遠(yuǎn)處一數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)的電連接通道裝置，其中，所述光二極管、所述閃爍晶體和所述抗散射板都相對(duì)固定在所述殼體中；所述殼體可裝在所述支架上預(yù)定校準(zhǔn)位置上。
2.按權(quán)利要求1所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，進(jìn)一步包括從所述兩壁伸出、界定一所述殼體的一射線準(zhǔn)直區(qū)的X射線準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)，用來接收和準(zhǔn)直進(jìn)入該殼體的X射線，其中，該X射線準(zhǔn)直結(jié)構(gòu)包括一對(duì)準(zhǔn)直板和在這兩個(gè)準(zhǔn)直板之間校準(zhǔn)、固定所述抗散射板的裝置。
3.按權(quán)利要求2所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，所述準(zhǔn)直板由所述兩壁延伸而成，所述板上覆蓋有對(duì)X射線不透明的材料。
4.按權(quán)利要求3所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，所述對(duì)X射線不透明材料包括鉭、鎢或鉛。
5.按權(quán)利要求2所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，所述準(zhǔn)直板用對(duì)X射線不透明材料制成并固定安裝在所述兩壁上。
6.按權(quán)利要求2所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，在所述兩準(zhǔn)直板之間校準(zhǔn)、固定抗散射板的所述裝置包括所述兩準(zhǔn)直板中的多個(gè)校準(zhǔn)槽；對(duì)應(yīng)校準(zhǔn)槽互相對(duì)齊，供抗散射板的對(duì)應(yīng)邊緊緊插入其中。
7.按權(quán)利要求1所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，從所述光二極管到一數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)的電連接通道裝置包括與所述中心支撐部對(duì)齊地穿過所述兩壁之一的一部分的一通道。
8.按權(quán)利要求1所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，所述閃爍晶體陣列包括固定校準(zhǔn)所述抗散射板與相鄰兩晶體之間所述非檢測(cè)區(qū)的裝置。
9.按權(quán)利要求8所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，所述固定校準(zhǔn)所述抗散射板的所述裝置包括相鄰兩晶體之間每一所述非檢測(cè)區(qū)中的一凹槽；每一所述凹槽供一對(duì)應(yīng)抗散射板的底邊緊緊插入其中。
10.按權(quán)利要求1所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，進(jìn)一步包括把所述殼體固定安裝到該支架上并把所述殼體與所述支架校準(zhǔn)的裝置。
11.X射線層析攝影系統(tǒng)的一種一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，該層析攝影系統(tǒng)包括一輻射源；支撐一被掃描物體的裝置；檢測(cè)穿過所述物體的射線、生成表示該物體諸部分的相對(duì)密度的電信號(hào)的裝置以及一把所述輻射源和所述檢測(cè)裝置支撐成可相對(duì)所述物體轉(zhuǎn)動(dòng)的支架，其特征在于，所述組件包括a．在一基片上布置成一線性陣列的多個(gè)光二極管；b．布置成可接收從所述輻射源發(fā)出的X射線的多個(gè)閃爍晶體，各所述晶體之間相距一非檢測(cè)區(qū)，每一所述晶體布置在一陣列中并與一對(duì)應(yīng)光二極管校準(zhǔn)和光耦合；c．在一對(duì)應(yīng)陣列中布置在所述晶體上方的多個(gè)抗散射板，每一所述抗散射板與相鄰兩晶體之間的一對(duì)應(yīng)非檢測(cè)區(qū)校準(zhǔn)；以及d．所述組件的一殼體，所述殼體包括一中心支撐部，該中心支撐部支撐所述基片，使得所述閃爍晶體受從所述輻射源發(fā)出的X射線的照射；從所述中心支撐部伸出、界定光二極管、晶體和抗散射板的所述各陣列的一內(nèi)部區(qū)的一對(duì)壁以及從所述光二極管經(jīng)所述殼體到遠(yuǎn)處一數(shù)據(jù)收集系統(tǒng)的電連接通道裝置，其中，所述光二極管、所述閃爍晶體和所述抗散射板都相對(duì)固定在所述殼體中；所述殼體可裝在所述支架上的預(yù)定校準(zhǔn)位置上；每一所述抗散射板固定在兩相鄰晶體之間一對(duì)應(yīng)非檢測(cè)區(qū)的一部分中。
12.按權(quán)利要求11所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，所述晶體陣列的頂面上有反光涂層；每一抗散射板固定在所述反光涂層中一對(duì)應(yīng)凹槽中并與該陣列的相鄰兩晶體之間的一對(duì)應(yīng)非檢測(cè)區(qū)校準(zhǔn)。
13.按權(quán)利要求12所述的一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件，其特征在于，進(jìn)一步包括涂在該凹槽和對(duì)應(yīng)抗散射板底邊的至少之一上的熱穩(wěn)定粘膠。
全文摘要
X射線層析攝影系統(tǒng)(8)的一種一體化射線檢測(cè)和準(zhǔn)直組件(14),該組件包括一殼體(34),該殼體裝在該系統(tǒng)的一背脊上,光二極管(44)、閃爍晶體(24)和抗散射板(22)的對(duì)應(yīng)陣列互相校準(zhǔn),使得X射線從焦點(diǎn)直接照射到檢測(cè)器上。因此光二極管(44)、閃爍晶體(24)和抗散射板(22)的陳列都相對(duì)固定在殼體(34)中,而殼體本身緊固在該掃描系統(tǒng)的支架(28)上。
文檔編號(hào)A61B6/03GK1282228SQ98812291
公開日2001年1月31日 申請(qǐng)日期1998年12月9日 優(yōu)先權(quán)日1997年12月16日
發(fā)明者索林·馬爾科維奇, 西蒙·喬治·哈奧蒂亞恩, 本·圖瓦爾 申請(qǐng)人:模擬技術(shù)有限公司