1.一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其特征在于,包括以下步驟:
a.獲得患者的上頜、下頜待矯治牙齒的數(shù)字的基礎(chǔ)虛擬模型，在所述基礎(chǔ)虛擬模型上分別確定上頜第二恒磨牙、上頜第一恒磨牙、上頜第二前磨牙、下頜第二恒磨牙、下頜第一恒磨牙以及下頜第二前磨牙的初始位置；
b.基于所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的各所述初始位置分別確定所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙向遠(yuǎn)中移動的目標(biāo)位置；
c.通過無托槽隱形矯治器將所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙從所述初始位置向遠(yuǎn)中傾斜至各對應(yīng)的所述目標(biāo)位置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其特征在于，所述步驟c中包括將所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中移動0-3mm,以分別解除所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙在遠(yuǎn)中的阻力，分別將所述上頜第二恒磨牙、所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜,完成與所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其特征在于，還包括在完成所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙的支抗預(yù)備后分別將所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜以分別完成所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其特征在于，還包括在完成所述上頜第一恒磨牙以所述下頜第一恒磨牙的支抗預(yù)備后分別將所述上頜第一前磨牙以及所述下頜第一前磨牙向遠(yuǎn)中傾斜以分別完成所述上頜第一前磨牙以及所述下頜第一前磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其特征在于，所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙以及所述上頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為0°-20°、0°-15°、0°-10°，所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為0°-20°、0°-20°、0°-10°。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其特征在于，所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙以及所述上頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜15°、10°以及5°，所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜10°、10°以及5°。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其特征在于，通過所述無托槽隱形矯治器依次分步將所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙向遠(yuǎn)中傾斜，其中，每一分步通過所述無托槽隱形矯治器向遠(yuǎn)中傾斜的角度為0.2°-1.5°。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，所述無托槽隱形矯治器采用透明的三維壓膜無托槽隱形矯治器。