本發(fā)明涉及牙齒支抗控制方法，尤其涉及一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法。

背景技術(shù)：

無托槽隱形矯治器是一種基于計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)和計(jì)算機(jī)輔助制作(CAM)的透明壓膜矯正裝置，它通過一系列的隱形矯治器不斷地調(diào)整牙齒的位置，從而矯治各類錯(cuò)頜畸形并建立良好的牙齒尖窩關(guān)系。對于無托槽隱形矯治來說，需要拔牙的病例屬于低度可預(yù)測性病例，即要求臨床醫(yī)生具有較豐富的隱形矯治經(jīng)驗(yàn)，難度較大的病例甚至需要配合使用固定矯治器才能獲得較好療效。

近年來，隨著無托槽隱形矯治器技術(shù)的發(fā)展，無托槽隱形矯治器的適用范圍逐漸擴(kuò)大。臨床醫(yī)生開始嘗試使將托槽隱形矯治器應(yīng)用于拔牙病例，例如擁擠病例、前突病例等。Align公司針對拔除四顆第一前磨牙的矯治提出了最新一代的G6矯治器，對矯治器材料和附件做了改進(jìn)。然而，在拔牙病例的隱形矯治中仍然存在一些困難，例如：拔牙間隙關(guān)閉時(shí)后牙支抗喪失、拔牙間隙的鄰牙向拔牙間隙傾斜、前牙轉(zhuǎn)矩失控等。

Tweed矯治技術(shù)是傳統(tǒng)的方絲弓矯治技術(shù)，也是經(jīng)典的固定矯治技術(shù)之一。Tweed矯治技術(shù)在發(fā)展過程中，逐漸發(fā)展出一種改良的Tweed-Merrifield矯治技術(shù)。無論是經(jīng)典的Tweed矯治技術(shù)還是改良的Tweed-Merrifield矯治技術(shù)，兩種技術(shù)都了強(qiáng)調(diào)支抗預(yù)備的重要性。特別是在拔牙病例中，后牙支抗預(yù)備能夠有效地防止磨牙在矯治過程中產(chǎn)生磨牙近中傾斜。但是，由于Tweed和Tweed-Merrifield矯治技術(shù)的矯治過程較復(fù)雜，需要使用較多的弓絲進(jìn)行彎制并且需要使用口外力，Tweed和Tweed-Merrifield矯治技術(shù)并不廣泛應(yīng)用于目前的正畸臨床矯治。

因此，本發(fā)明結(jié)合了無托槽隱形矯治和經(jīng)典方絲弓技術(shù)中的支抗預(yù)備的概念，提供一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法是十分有意義的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個(gè)目的在于：提供一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其無需使用任何輔助的片段弓技術(shù)和口外力便能實(shí)現(xiàn)支抗磨牙的三維方向上的控制。

本發(fā)明的另一個(gè)目的在于：提供一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其能僅通過無托槽隱形矯治器的作用使得后牙牙冠向遠(yuǎn)中傾斜。

本發(fā)明的再一個(gè)目的在于：提供一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其能精確控制磨牙向遠(yuǎn)中傾斜的角度。

本發(fā)明的再一個(gè)目的在于：提供一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，其能通過控制支抗有效地內(nèi)收前牙，為前牙突出或前牙擁擠病例的矯治帶來良好的治療效果。

為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

提供一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，包括以下步驟:

a.獲得患者的上頜、下頜待矯治牙齒的數(shù)字的基礎(chǔ)虛擬模型，在所述基礎(chǔ)虛擬模型上分別確定上頜第二恒磨牙、上頜第一恒磨牙、上頜第二前磨牙、下頜第二恒磨牙、下頜第一恒磨牙以及下頜第二前磨牙的初始位置；

b.基于所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的各所述初始位置分別確定所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙向遠(yuǎn)中移動(dòng)的目標(biāo)位置；

c.通過無托槽隱形矯治器將所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙從所述初始位置向遠(yuǎn)中傾斜至各對應(yīng)的所述目標(biāo)位置。

作為所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述步驟c中包括將所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中移動(dòng)0-3mm,以分別解除所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙在遠(yuǎn)中的阻力，分別將所述上頜第二恒磨牙、所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜完成與所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。

作為所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一種優(yōu)選的技術(shù)方案，還包括在完成所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙的支抗預(yù)備后分別將所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜以分別完成所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。

作為所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一種優(yōu)選的技術(shù)方案，還包括在完成所述上頜第一恒磨牙以所述下頜第一恒磨牙的支抗預(yù)備后分別將所述上頜第一前磨牙以及所述下頜第一前磨牙向遠(yuǎn)中傾斜以分別完成所述上頜第一前磨牙以及所述下頜第一前磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。

作為所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一種優(yōu)選的技術(shù)方案,所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙以及所述上頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為0°-20°、0°-15°、0°-10°，所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為0°-20°、0°-20°、0°-10°。

作為所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙以及所述上頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別為向遠(yuǎn)中傾斜15°、10°以及5°，所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜10°、10°以及5°。

作為所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一種優(yōu)選的技術(shù)方案，通過所述無托槽隱形矯治器依次分步將所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙向遠(yuǎn)中傾斜，其中，每一分步通過所述無托槽隱形矯治器向遠(yuǎn)中傾斜的角度為0.2°-1.5°。

作為所述的用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法的一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述無托槽隱形矯治器采用透明的三維壓膜無托槽隱形矯治器。

本發(fā)明的有益效果為：本發(fā)明利用無托槽隱形矯治器為拔牙病例提供一種支抗控制的方法，能夠有效地防止拔牙病例在隱形矯治的過程產(chǎn)生磨牙向近中傾斜的現(xiàn)象，有效地避免拔牙間隙的遠(yuǎn)中支抗牙發(fā)生支抗丟失。通過將上頜第二恒磨牙以及下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中移動(dòng)0-3mm,能夠分別解除上頜第一恒磨牙和下頜第一恒磨牙在遠(yuǎn)中的阻力，為上頜第一恒磨牙以及下頜第一恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜預(yù)留足夠的空間，并完成上頜第一恒磨牙和下頜第一恒磨牙座的支抗預(yù)備。通過分步矯治能夠?qū)⒛パ罎u進(jìn)地向遠(yuǎn)中傾斜，提高磨牙向遠(yuǎn)中傾斜的精度，提高矯治的效率。

附圖說明

下面根據(jù)附圖和實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

圖1為實(shí)施例所述用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法中上頜后牙支抗預(yù)備角度的示意圖。

圖2為實(shí)施例所述用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法中下頜后牙支抗預(yù)備角度的示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖并通過具體實(shí)施方式來進(jìn)一步說明本發(fā)明的技術(shù)方案。

如圖1～2所示，于本實(shí)施例中，本發(fā)明所述的一種用于隱形矯治拔牙病例的磨牙支抗控制方法，包括以下步驟:

a.獲得患者的上頜、下頜待矯治牙齒的數(shù)字的基礎(chǔ)虛擬模型，在所述基礎(chǔ)虛擬模型上分別確定上頜第二恒磨牙、上頜第一恒磨牙、上頜第二前磨牙、下頜第二恒磨牙、下頜第一恒磨牙以及下頜第二前磨牙的初始位置；

b.基于所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的各所述初始位置分別確定所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙向遠(yuǎn)中移動(dòng)的目標(biāo)位置；

c.通過無托槽隱形矯治器將所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙從所述初始位置向遠(yuǎn)中傾斜至各對應(yīng)的所述目標(biāo)位置。

本發(fā)明將無托槽隱形矯治和經(jīng)典方絲弓技術(shù)中的支抗控制概念進(jìn)行了結(jié)合，無需使用任何輔助的片段弓技術(shù)和口外力，利用無托槽隱形矯治器形變的作用力能夠?qū)⑸项M第二恒磨牙、上頜第一恒磨牙、上頜第二前磨牙、下頜第二恒磨牙、下頜第一恒磨牙以及下頜第二前磨牙向遠(yuǎn)中傾斜，有效地防止拔牙間隙的臨牙向拔牙間隙近中傾斜實(shí)現(xiàn)支抗預(yù)備，達(dá)到增強(qiáng)支抗的作用。無托槽隱形矯治器具有透明、舒適且可摘戴的優(yōu)點(diǎn)，能夠減少患者在矯治過程中的不適感。通過獲得的基礎(chǔ)模擬模型確定上頜第二恒磨牙、上頜第一恒磨牙、上頜第二前磨牙、下頜第二恒磨牙、下頜第一恒磨牙以及下頜第二前磨牙并確定各自對應(yīng)的目標(biāo)位置。既利用了無托槽隱形矯治器的美觀、舒適、衛(wèi)生、方便的特點(diǎn)，同時(shí)也結(jié)合了傳統(tǒng)的Tweed矯治技術(shù)的精髓即支抗預(yù)備的概念，將支抗預(yù)留與隱形矯治技術(shù)相結(jié)合，利用簡單、美觀的無托槽隱形矯治器來實(shí)現(xiàn)增強(qiáng)支抗效果。

其中，所述步驟c中包括將所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中移動(dòng)0-3mm,以分別解除所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙在遠(yuǎn)中的阻力，分別將所述上頜第二恒磨牙、所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜完成與所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。將上頜第二恒磨牙以及下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中移動(dòng)0-3mm,能夠分別解除上頜第一恒磨牙、下頜第一恒磨牙在遠(yuǎn)中的阻力，同時(shí)也為上頜第一恒磨牙、下頜第一恒磨牙的后傾預(yù)留空間，一方面保證有足夠的空間使得上頜第一恒磨牙、下頜第一恒磨牙能夠后傾足夠的角度，另一方面有利于對后傾角度精度的控制。

優(yōu)選的，所述步驟c中包括將所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中移動(dòng)1-2mm,以分別解除所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙在遠(yuǎn)中的阻力，分別將所述上頜第二恒磨牙、所述下頜第二恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜,完成與所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。

在本實(shí)施例中，還包括在完成所述上頜第二恒磨牙以及所述下頜第二恒磨牙的支抗預(yù)備后分別將所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜以分別完成所述上頜第一恒磨牙以及所述下頜第一恒磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。在上頜第二恒磨牙以及下頜第二恒磨牙的支抗預(yù)備完成將上頜第一恒磨牙、下頜第一恒磨牙向遠(yuǎn)中傾斜，一方面上頜第一恒磨牙、下頜第一恒磨牙實(shí)現(xiàn)了支抗預(yù)備，另一方面為上頜第二前牙、下頜第二前牙的后傾預(yù)留空間，提高后傾的效率。其中，還包括在完成所述上頜第一恒磨牙以所述下頜第一恒磨牙的支抗預(yù)備后分別將所述上頜第一前磨牙以及所述下頜第一前磨牙向遠(yuǎn)中傾斜以分別完成所述上頜第一前磨牙以及所述下頜第一前磨牙相對應(yīng)的支抗預(yù)備。

在本實(shí)施例中，所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙以及所述上頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為0°-20°、0°-15°、0°-10°，所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為0°-20°、0°-20°、0°-10°。通過此方法能夠解除第一磨牙的遠(yuǎn)中阻力，實(shí)現(xiàn)支抗預(yù)備。

優(yōu)選的，所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙以及所述上頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為10°-20°、10°-15°、1°-10°，所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜分別為10°-20°、10°-20°、1°-10°。通過此方法能夠解除一磨牙的遠(yuǎn)中阻力，實(shí)現(xiàn)支抗預(yù)備。

具體的，所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙以及所述上頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別為向遠(yuǎn)中傾斜15°、10°以及5°，所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙的目標(biāo)位置分別向遠(yuǎn)中傾斜10°、10°以及5°。具體的，通過所述無托槽隱形矯治器依次分步將所述上頜第二恒磨牙、所述上頜第一恒磨牙、所述上頜第二前磨牙、所述下頜第二恒磨牙、所述下頜第一恒磨牙以及所述下頜第二前磨牙向遠(yuǎn)中傾斜。其中，每一分步通過所述無托槽隱形矯治器向遠(yuǎn)中傾斜的角度為0.2°-1.5°。具體的，每一分步通過所述無托槽隱形矯治器向遠(yuǎn)中傾斜的角度還可以根據(jù)實(shí)際矯治的需要進(jìn)行分步設(shè)置。每一步的向遠(yuǎn)中傾斜的角度都設(shè)置有與之對應(yīng)的無托槽隱形矯治器，通過此設(shè)計(jì)能夠精確的控制后傾的角度，提高支抗預(yù)備的效率。待完成全部的支抗預(yù)備后，繼續(xù)對牙齒進(jìn)行后續(xù)的矯治，進(jìn)行前牙的內(nèi)收和排齊階段。在本實(shí)施例中，將每一分步通過所述無托槽隱形矯治器向遠(yuǎn)中傾斜的角度設(shè)置為1°。

具體的，所述無托槽隱形矯治器采用透明的三維壓膜無托槽隱形矯治器。

需要聲明的是，上述具體實(shí)施方式僅僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例及所運(yùn)用技術(shù)原理，在本發(fā)明所公開的技術(shù)范圍內(nèi)，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員所容易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。