專利名稱：一種氣體二氧化氯消毒裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種廣譜消毒裝置，確切地說是一種廣泛用于高等級生物安全實驗室、手術室、生物安全柜的高效的氣體二氧化氯消毒裝置。
背景技術：
二氧化氯是世界衛(wèi)生組織(WHO)確認的一種廣譜、高效、無毒的殺菌消毒劑，具有殺菌廣譜、有效濃度低、作用速度快、無毒、使用安全、無殘留等優(yōu)點，被廣泛作為殺菌消毒劑、食品保鮮劑、水質凈化劑應用于水處理、食品加工、醫(yī)療、蔬菜水果保鮮等領域。近年來， 氣體二氧化氯由于其消毒無殘留、環(huán)保、消毒周期短等優(yōu)點，被越來越多地用于空間消毒嘗試，實驗表明，在指定空間內(nèi)只需含有足夠濃度的氣體二氧化氯，即可通過它的強氧化作用殺滅各種病毒、細菌和芽孢。美國“911”恐怖襲擊后的系列炭疽桿菌襲擊事件后，氣體二氧化氯被用于對AnthraX、AMI大廈、Trenton郵局等龐大建筑物的徹底消毒，其他一些生物安全實驗室、生物安全柜、傳染病醫(yī)院手術室消毒的實例也見諸報道。氣體二氧化氯用于空間消毒必須解決兩個核心問題氣體二氧化氯的現(xiàn)場發(fā)生和消毒過程中氣體二氧化氯濃度及其他參數(shù)的實時監(jiān)控。由于氣體二氧化氯性質不穩(wěn)定，易分解、高濃度時易爆炸，因此不易存儲和運輸，只能在現(xiàn)場就近生產(chǎn)制備，盡快使用。氣體二氧化氯濃度和消毒環(huán)境溫濕度對消毒效果影響很大，因此在消毒過程中應盡可能維持恒定的氣體二氧化氯濃度和溫濕度。專利CN 101024492A公布了一種氣體二氧化氯生成方法與消毒裝置，以氯酸鈉溶液和濃鹽酸為原料，在向反應體系中通入熱空氣的條件下進行反應。這種方法雖然降低了二氧化氯的生成成本，但反應步驟復雜，體系條件苛刻，且采用濃鹽酸作為原料，對反應容器和管路要求嚴格，并存在揮發(fā)性HCl氣體的去除困難等問題，因此不適合用于空間消毒用氣體二氧化氯的制備。申請?zhí)枮?00620023427. 4的專利描述了一種可產(chǎn)生恒定濃度的二氧化氯氣體消毒機，包括二氧化氯溶液產(chǎn)生裝置和二氧化氯氣體發(fā)生裝置，靠將溶液中的二氧化氯經(jīng)過活化劑活化后在多梯級吹脫器的作用下氣化，產(chǎn)生氣體二氧化氯。該裝置雖然可以獲得較為穩(wěn)定的溶解二氧化氯氣化率，但需要多個部件聯(lián)合使用，結構復雜，且高濃度二氧化氯溶液本身具有易爆炸、不易長期存儲的危險性，因此具有一定的應用局限性。美國專利2000/60似802公布了一種氣體二氧化氯消毒機，采用濃鹽酸與亞氯酸鈉溶液在特制反應容器內(nèi)反應制備氣體二氧化氯，采用光度法在線實時監(jiān)測氣體二氧化氯濃度。該發(fā)明制備氣體二氧化氯的過程中有濃鹽酸參與，因此必須使用嚴格防腐蝕的特殊材料制備反應容器，并且反應殘液需要特殊處理，整個消毒機結構復雜，維修保養(yǎng)困難，存在一定的應用風險。日本發(fā)明JP2005224386(A)描述了一種二氧化氯氣體消毒裝置，它采用紫外線照射溶解高濃度二氧化氯的凝膠上從而釋放氣體二氧化氯，可在消耗少量電力的同時長時間穩(wěn)定地供給濃度穩(wěn)定的二氧化氯氣體。但高濃度凝膠需要事先制備，發(fā)生濃度可控性差，無法實現(xiàn)對消毒參數(shù)和過程的精確控制。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是解決氣體二氧化氯空間消毒的氣體現(xiàn)場制備、消毒過程實時監(jiān)控的問題，提供一種具有消毒迅速徹底、無腐蝕和殘留、結構緊湊、操作便捷、消毒過程可視可控、易于維護等特點氣體二氧化氯消毒裝置。本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置包括氣體二氧化氯發(fā)生裝置、在線濃度檢測裝置、 人機交互平臺和輔助管路；人機交互平臺分別與氣體二氧化氯發(fā)生器、在線濃度檢測裝置和輔助管路連接；所述氣體二氧化氯發(fā)生裝置包括三級反應器、哈氏減壓器、壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶和質量流量計，壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶通過依次設置哈氏減壓器、混合氣進氣電磁閥和質量流量計的混合氣進氣管路與三級反應器前端連接，壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶通過設置吹掃電磁閥的吹掃管路與混合氣進氣管路連接，三級反應器后端通過二氧化氯送氣管道聯(lián)通消毒空間；依次設置溫度傳感器、在線濃度檢測裝置和循環(huán)風機的檢測管路分別與消毒空間和二氧化氯送氣管道聯(lián)通；在線濃度檢測裝置由光源、準直透鏡、分光鏡、 氣室、檢測聚焦透鏡、參考聚焦透鏡、參考探測器、檢測探測器、光源驅動電路、信號處理電路、模數(shù)轉換電路、控制單元及輔助功能單元組成，所述光源、準直透鏡、分光鏡、氣室、檢測聚焦透鏡和檢測探測器的中心在同一水平面依次排列，所述分光鏡與入射的平行光線成45 度安裝，分光鏡下方依次設置參考聚焦透鏡和參考探測器，所述氣室上、下表面分別設置氣體進口和氣體出口 ；光源驅動電路連接光源，信號處理電路分別連接參考探測器、檢測探測器和模數(shù)轉換電路，控制單元分別連接模數(shù)轉換電路、光源驅動電路和輔助功能單元；輔助管路包括消毒裝置加濕管路、消毒機吹掃保護管路和消毒空間壓差監(jiān)測管路，消毒裝置加濕管路和消毒空間壓差監(jiān)測管路分別與消毒空間相通，消毒機吹掃保護管路與混合氣進氣管路相通。所述消毒機吹掃管路由氮氣瓶、氮氣減壓器和氮氣進氣電磁閥組成，壓縮氮氣瓶通過依次設置氮氣減壓器和氮氣進氣電磁閥的氮氣進氣管路與混合氣進氣管路連接；加濕管路由依次設置加濕器、加濕電磁閥和儲水箱的加濕管道組成，加濕管道分別連接加濕器和二氧化氯送氣管道；消毒空間壓差監(jiān)測管路由依次設置壓差傳感器和高效空氣過濾器的檢測管道組成。所述人機交互平臺由顯示器、PLC模塊、熱敏打印機和SD存儲設備組成，PLC模塊分別連接顯示器、熱敏打印機、SD存儲設備、混合氣進氣電磁閥、吹掃電磁閥、氮氣進氣電磁閥、加濕電磁閥、質量流量計、加濕器、溫度傳感器、壓差傳感器和循環(huán)風機。整個消毒裝置被集成在一個長寬高不超過800mmX 500mmX 1400mm的長方體空間內(nèi)。氣體二氧化氯發(fā)生裝置用于現(xiàn)場制備消毒所需的不含腐蝕性氣體的二氧化氯。在線濃度檢測裝置用于監(jiān)測消毒過程中消毒空間氣體二氧化氯濃度變化，并通過反饋控制發(fā)生器運行，控制消毒空間的氣體二氧化氯濃度保持恒定。人機交互平臺用于消毒環(huán)境的監(jiān)測與控制，包括消毒濃度、空間濕度、壓力、消毒時間、曝氣時間、管路沖洗時間等參數(shù)的輸入，消毒過程中氣體二氧化氯濃度、空間壓力、濕度隨時間變化曲線的實時顯示、存儲與輸
ψ絕
OD寸。
本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置的優(yōu)點在于采用氣體和固體顆粒物反應現(xiàn)場制備氣體二氧化氯，整個反應過程沒有水和揮發(fā)性、腐蝕性氣體參加，極適合空間消毒使用，同時結構緊湊，易于操作。采用紫外光吸收法實時監(jiān)測消毒過程中氣體二氧化氯濃度，解決了氣體二氧化氯消毒濃度精確控制的問題。本發(fā)明采用人機交互平臺控制消毒過程中的氣體二氧化氯濃度、溫濕度、壓力和各階段的自動轉換，真正做到了整個消毒過程的自動化。吹掃管路等安全設計確保本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置具有較高的使用安全性。本發(fā)明涉及的各項關鍵技術和模塊有機結合，共同組成了自動化程度高、結構緊湊、安全可靠、操作維護便捷的氣體二氧化氯消毒裝置。本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置可用于生物安全實驗室、實驗動物房、生物安全柜、 傳染病房、手術室、高效空氣過濾單元等場合的高水平消毒。


圖1為氣體二氧化氯消毒裝置結構流程圖；圖2為氣體二氧化氯消毒裝置在線濃度檢測裝置工作原理圖；圖3為氣體二氧化氯消毒裝置實施例中消毒指示菌放置位置示意圖。
具體實施例方式下面結合附圖對本發(fā)明做進一步描述。如圖1所示，本發(fā)明包括氣體二氧化氯發(fā)生裝置、在線濃度檢測裝置、人機交互平臺和輔助管路；人機交互平臺分別與氣體二氧化氯發(fā)生器、在線濃度檢測裝置和輔助管路連接；所述氣體二氧化氯發(fā)生裝置包括三級反應器6、7和8、哈氏減壓器21、壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶22和質量流量計5，壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶通過依次設置哈氏減壓器、混合氣進氣電磁閥20和質量流量計的混合氣進氣管路與三級反應器前端連接，壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶通過設置吹掃電磁閥3的吹掃管路與混合氣進氣管路連接，三級反應器后端通過二氧化氯送氣管道聯(lián)通消毒空間13 ；依次設置空氣過濾器15、溫度傳感器17、在線濃度檢測裝置18和循環(huán)風機19的檢測管路分別與消毒空間和二氧化氯送氣管道聯(lián)通；輔助管路包括消毒裝置加濕管路、消毒機吹掃保護管路和消毒空間壓差監(jiān)測管路，消毒裝置加濕管路和消毒空間壓差監(jiān)測管路分別與消毒空間相通，消毒機吹掃保護管路與混合氣進氣管路相通；消毒機吹掃管路由氮氣瓶1、氮氣減壓器2、氮氣進氣電磁閥4組成，壓縮氮氣瓶通過依次設置氮氣減壓器和的氮氣進氣管路與混合氣進氣管路連接；加濕管路包括加濕器10、電磁閥11和儲水箱12，加濕管路由依次設置加濕器、加濕電磁閥和儲水箱的加濕管道組成， 加濕管道分別連接加濕器和二氧化氯送氣管道；消毒空間壓差監(jiān)測管路由依次設置壓差傳感器16和高效空氣過濾器14的檢測管道組成。人機交互平臺在圖1中未體現(xiàn)，人機交互平臺由顯示器、PLC模塊、熱敏打印機和 SD存儲設備組成，PLC模塊分別連接顯示器、熱敏打印機、SD存儲設備、混合氣進氣電磁閥、 吹掃電磁閥、氮氣進氣電磁閥、加濕電磁閥、質量流量計、加濕器、溫度傳感器、壓差傳感器和循環(huán)風機。如圖2所示，本發(fā)明所在線濃度檢測裝置18，包括光源23、準直透鏡24、分光鏡沈、氣室27、聚焦透鏡觀、參考探測器25、檢測探測器四、光源驅動和信號處理電路30、PET隔離膜31和32、聚焦透鏡33等，所述光源、準直透鏡、分光鏡、氣室、檢測聚焦透鏡和檢測探測器的中心在同一水平面依次排列，所述分光鏡與入射的平行光線成45度安裝，分光鏡下方依次設置參考聚焦透鏡和參考探測器，所述氣室上、下表面分別設置氣體進口和氣體出口 ；光源驅動電路連接光源，信號處理電路分別連接參考探測器、檢測探測器和模數(shù)轉換電路，控制單元分別連接模數(shù)轉換電路、光源驅動電路和輔助功能單元。所述的準直透鏡、 分光鏡、檢測聚焦透鏡、參考聚焦透鏡的材質為紫外熔石英。參考探測器和檢測探測器為對 365nm紫外光敏感的光電二極管。光源采用365nm窄帶紫外發(fā)光二極管(UVLED)，發(fā)射光譜范圍為 360-370nm。光源發(fā)出的光線經(jīng)過準直透鏡會聚為近似平行光；平行光線經(jīng)過分光鏡后一部分反射后經(jīng)過參考聚焦透鏡會聚于參考探測器感應出參考信號，另一部分透射后經(jīng)過氣室， 再經(jīng)過檢測聚焦透鏡會聚于檢測探測器感應出檢測信號；檢測信號和參考信號由信號處理電路進行電流-電壓變換、放大并濾波后，再經(jīng)模數(shù)轉換電路轉換為數(shù)字信號；控制單元讀取上述數(shù)字信號并進行運算獲得二氧化氯氣體的濃度。在最佳實施例中，光源驅動電路可采用英飛凌的LED驅動芯片LT3950，在其它實施例中，可以采用恒流源芯片或LED線性驅動芯片，如LT3092或CAT4008等；控制單元以恩智浦的增強型51單片機P89LPC935為核心， 或者采用PIC、AVR或ARM等單片機；信號處理電路17的第一級電流-電壓變換采用低偏置電流的運算放大器芯片0PA129 ；模數(shù)轉換電路的模數(shù)轉換器采用14位分辨率的AD7942，或者可以采用分辨率為12位或16位的轉換器。濃度檢測的原理如下所述物質分子吸收光譜的波長、強度、偏振態(tài)等情況，和該物質的結構特征有著固有的關系，通過檢測氣體對特定波長光的吸收程度，就可確定氣體的成分及濃度。氣體吸收滿足朗伯-比爾定律I(v) = I0(v) · e_a WLC式中，ν為光波的頻率，I0(v)和I(V)分別為氣體吸收前后的輸入光強和輸出光強，α (ν)頻率ν處氣體的吸收系數(shù)，C為氣體濃度，L為氣體吸收有光程。如果使用特定頻率的光線，且假設光源發(fā)射的光強是穩(wěn)定的，則α (ν)、IO(V)均是常數(shù)，又L也是常數(shù)，所以，I(V)和被測氣體濃度C為一一對應的關系。因此，在檢測時， 只要檢測得到I(V)的值，就可以根據(jù)標定時制定的I(V)與C的關系曲線計算得到被測氣體的濃度C。由于光源及光源驅動電路元件的溫度特性，光源發(fā)射的光強不是穩(wěn)定不變的，會影響到檢測結果的準確性。為此，設計一個參考光路，獲得光線在進入氣體吸收路徑前的光強r Jv)，禾IJ用I(V)禾P Γ O(V)的比值與C的關系曲線計算被測氣體的濃度C。禾Ij用上述雙光路的方法可以基本消除光源波動帶來的測量誤差。通過測量光電二極管的感應電流的大小來反應光強值，感應電流經(jīng)信號處理電路進行電流-電壓變換、放大、濾波，此過程均采用低噪聲的運算放大器來減小誤差。濾波后的電壓信號經(jīng)14位高精度模數(shù)轉換器轉換化數(shù)字信號，送入控制單元?？刂茊卧捎枚髦瞧值脑鰪娦?1單片機為核心，根據(jù)標定時固化的關系曲線計算獲得二氧化氯氣體的濃度。 控制單元將計算結果存在本機存儲中，通過數(shù)碼管或液晶屏進行顯示，通過RS232通信口進行傳送，通過變送電路轉換為4-20mA的標準工業(yè)模擬信號。也可以再擴展鍵盤響應、結果打印等功能。
氣體二氧化氯消毒裝置消毒分以下幾個步驟(1)根據(jù)消毒空間的性質、需要消毒的對象及消毒級別在人機交互系統(tǒng)中設置氣體二氧化氯消毒濃度、空間濕度、消毒時間等參數(shù)；(2)開啟消毒裝置加濕管路，使消毒空間濕度達到設定值；(3)開啟消毒裝置氣體二氧化氯發(fā)生器，向消毒空間注入氣體二氧化氯，同時系統(tǒng)監(jiān)測消毒空間氣體濃度、濕度和壓力變化；(4)消毒空間氣體二氧化氯濃度達到設定值后，發(fā)生器停止運行；(5)消毒空間在設定氣體二氧化氯濃度下暴露至設定時間后，開啟消毒空間空調(diào)或換氣系統(tǒng)(注是被消毒房間自身的空調(diào)或換氣系統(tǒng)，一般實驗室均有，非消毒裝置所有)進行曝氣，同時開啟消毒裝置氮氣吹掃保護管路，直到消毒空間內(nèi)氣體二氧化氯濃度低于呼吸有害值；(6)形成消毒過程摘要，根據(jù)需要進行存儲或打印，整個消毒過程結束。在本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置中，上述步驟在完成第(1)步后，后續(xù)步驟均由人機交互系統(tǒng)自動控制，無需人為干預，達到消毒過程的自動化。所述發(fā)明涉及的氣體二氧化氯發(fā)生器采用亞氯酸鈉顆粒與氯氣反應的方法，具體反應式如下2NaC102+Cl2 = 2C102+2NaCl氣體二氧化氯發(fā)生方法以亞氯酸鈉顆粒和一定比例氯氣/氮氣混合氣體為反應物，生成物中只有氣體二氧化氯和固態(tài)氯化鈉，從而使經(jīng)過反應器后的氣體中只有氣體二氧化氯和氮氣的混合氣體。為使亞氯酸鈉顆粒完全反應，特添加一定比例的檸檬酸類反應活化劑，反應活化劑不直接參與反應，因此無反應副產(chǎn)物出現(xiàn)。理論上，亞氯酸鈉向氣體二氧化氯的轉化率為100%，與前述方法比較，成本更低。在上述反應中，要求氯氣完全反應，因為殘留的氯氣會導致待消毒的空間受到腐蝕等影響，因此選擇一定比例的氯氣/氮氣的混合氣體作為反應氣體，經(jīng)過實驗驗證，氯氣占混合氣體的比例應控制在2% -10%范圍。為確保亞氯酸鈉顆粒反應的徹底性，檸檬酸類活化劑的比例應控制在20% -30%范圍內(nèi)。氣體二氧化氯反應器設計成圓筒形，其長徑比控制在7 1以上，三個上述圓筒形反應器串聯(lián)使用。亞氯酸鈉顆粒物的粒度>0. 3mm,以確保反應器填充亞氯酸鈉后具有較低空氣阻力，同時該粒度下的亞氯酸鈉顆粒不易結塊。由于氯氣對多種金屬有腐蝕性，氯氣本身也是劇毒的危險氣體，即使?jié)舛葍H為2% 時仍具有腐蝕和泄露的危險，因此氯氣/氮氣混合氣體的減壓器采用哈氏合金減壓器。用質量流量計嚴格控制向反應器注入混合氣體的流量。本發(fā)明中，經(jīng)過哈氏合金減壓器將氯氣/氮氣混合氣體壓力減至1. 4kg/cm2，質量流量計控制范圍為21pm-301pm。本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置所述消毒機吹掃管路為了將消毒結束后裝置中殘留的氣體二氧化氯、氯氣等吹掃出去，確保裝置在閑置時的安全性。在整個氣體二氧化氯發(fā)生和使用完畢后，不可避免地會有一部分氯氣/氮氣混合氣體會滯留于反應器前端管路， 而三級反應器內(nèi)將充滿氣體二氧化氯，對整個發(fā)生裝置的閥門、管件、接頭、管件部件等具有潛在腐蝕威脅，也為發(fā)生裝置的檢修和維護帶來不便。因此出于對上述因素的考慮，本發(fā)明特別設計了消毒機吹掃管路，在氯氣/氮氣混合氣體氣瓶和哈氏減壓器之間接入氮氣吹掃支路，當發(fā)生器反應完畢后，關閉氯氣/氮氣混合氣瓶，開啟氮氣氣瓶，向發(fā)生器內(nèi)注入高純氮氣，在將氯氣和氣體二氧化氯吹掃出消毒裝置，從而確保裝置的安全性。本發(fā)明所述氣體二氧化氯消毒裝置工作時，首先根據(jù)消毒空間的性質、需要消毒的對象及消毒級別在人機交互系統(tǒng)中設置氣體二氧化氯消毒濃度、空間濕度、消毒時間等參數(shù)；開啟循環(huán)風機19和消毒裝置加濕器10，使消毒空間濕度達到設定值；開啟混合氣進氣電磁閥20，三級反應器6、7、8開始工作，向消毒空間注入氣體二氧化氯，同時系統(tǒng)監(jiān)測消毒空間氣體濃度、濕度和壓力變化；消毒空間氣體二氧化氯濃度達到設定值后，混合氣進氣電磁閥20關閉，三級反應器6、7、8停止運行；消毒空間消毒至設定時間后，開啟消毒空間換氣系統(tǒng)進行曝氣，同時關閉氯氣/氮氣混合氣瓶，開啟吹掃電磁閥3、氮氣進氣電磁閥4、 混合氣進氣電磁閥20，對消毒裝置管路和反應器進行氮氣吹掃保護，直到消毒空間內(nèi)氣體二氧化氯濃度低于呼吸有害值；形成消毒過程摘要，根據(jù)需要進行存儲或打印，整個消毒過程結束。在整個消毒過程中，除參數(shù)輸入、啟動機器和關閉氯氣/氮氣混合氣瓶需要手動以外，其余動作切換均由人機交互平臺自動完成。實施例為了說明本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置的使用過程和效果，特列舉如下的實施例。本實施例采用本發(fā)明所述的氣體二氧化氯消毒裝置對體積為50m3的類似生物安全三級實驗室的房間進行消毒，采用枯草桿菌黑色變種芽孢和白色葡萄球菌作為消毒指示菌，按照《消毒技術規(guī)范(2002版)》中消毒劑消毒效果評價方法進行實驗。如圖3所示，在消毒房間的1至10號位置放置接種指示菌接種片，為使氣體二氧化氯在空間均勻分布，在房間A、B、C、D四個位置放置風扇。消毒時，房間溫度維持在20°C， 通過加濕器將房間的相對濕度增加至70%，封閉房間空調(diào)系統(tǒng)，向房間內(nèi)注入氣體二氧化氯，同時監(jiān)測氣體濃度、濕度、壓力等參數(shù)，待氣體二氧化氯濃度達到2. 8mg/l時停止注入， 在此濃度下使房間暴露2小時，消毒過程中對參數(shù)持續(xù)監(jiān)測，2小時后開啟空調(diào)排風系統(tǒng)換氣10次，直到房間內(nèi)氣體二氧化氯濃度達到人體安全濃度，整個消毒過程結束，取下指示菌接種片進行培養(yǎng)計數(shù)，計算殺菌對數(shù)值。實驗過程中對房間氣體二氧化氯濃度、濕度和壓力的變化情況進行記錄，本發(fā)明氣體二氧化氯消毒過程可分為4個階段環(huán)境加濕階段、氣體二氧化氯注入階段、暴露消毒階段和曝氣階段。環(huán)境加濕階段和氣體二氧化氯注入階段是整個消毒環(huán)境形成階段，此時濕度、壓力和氣體二氧化氯濃度均有較大變化，然而在暴露消毒階段這三個參數(shù)基本維持恒定，說明本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置消毒過程的穩(wěn)定性。通過10次的排風換氣后，消毒房間內(nèi)氣體二氧化氯濃度降至人體呼吸安全范圍，進入房間后無殘留異味。從房間加濕至排風換氣結束，整個消毒過程僅持續(xù)3. 5小時。通過對消毒指示菌片的培養(yǎng)計數(shù)后得到本實施例消毒的最終結果如表1和2所示，2. 8mg/l的氣體二氧化氯濃度在相對濕度70%的條件下對枯草桿菌黑色變種芽孢的殺滅對數(shù)值達4. 26，達到了高等級消毒的水平，對白色葡萄球菌殺滅對數(shù)值達8. 21，達到了滅菌的水平。本實施例說明本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置對空間消毒具有很高的效率，同時消毒周期短，工作效率高。表1實施例中對枯草桿菌黑色變種芽孢的殺滅效果
權利要求
1.一種氣體二氧化氯消毒裝置，其特征是，包括氣體二氧化氯發(fā)生裝置、在線濃度檢測裝置、人機交互平臺和輔助管路；人機交互平臺分別與氣體二氧化氯發(fā)生器、在線濃度檢測裝置和輔助管路連接；所述氣體二氧化氯發(fā)生裝置包括三級反應器、哈氏減壓器、壓縮氯氣 /氮氣混合氣瓶和質量流量計，壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶通過依次設置哈氏減壓器、混合氣進氣電磁閥和質量流量計的混合氣進氣管路與三級反應器前端連接，壓縮氯氣/氮氣混合氣瓶通過設置吹掃電磁閥的吹掃管路與混合氣進氣管路連接，三級反應器后端通過二氧化氯送氣管道聯(lián)通消毒空間；依次設置溫度傳感器、在線濃度檢測裝置和循環(huán)風機的檢測管路分別與消毒空間和二氧化氯送氣管道聯(lián)通；在線濃度檢測裝置由光源、準直透鏡、分光鏡、氣室、檢測聚焦透鏡、參考聚焦透鏡、參考探測器、檢測探測器、光源驅動電路、信號處理電路、模數(shù)轉換電路、控制單元及輔助功能單元組成，所述光源、準直透鏡、分光鏡、氣室、檢測聚焦透鏡和檢測探測器的中心在同一水平面依次排列，所述分光鏡與入射的平行光線成 45度安裝，分光鏡下方依次設置參考聚焦透鏡和參考探測器，所述氣室上、下表面分別設置氣體進口和氣體出口 ；光源驅動電路連接光源，信號處理電路分別連接參考探測器、檢測探測器和模數(shù)轉換電路，控制單元分別連接模數(shù)轉換電路、光源驅動電路和輔助功能單元；輔助管路包括消毒裝置加濕管路、消毒機吹掃保護管路和消毒空間壓差監(jiān)測管路，消毒裝置加濕管路和消毒空間壓差監(jiān)測管路分別與消毒空間相通，消毒機吹掃保護管路與混合氣進氣管路相通。
2.根據(jù)權利要求1氣體二氧化氯消毒裝置，其特征是，所述消毒機吹掃管路由氮氣瓶、 氮氣減壓器和氮氣進氣電磁閥組成，壓縮氮氣瓶通過依次設置氮氣減壓器和氮氣進氣電磁閥的氮氣進氣管路與混合氣進氣管路連接；加濕管路由依次設置加濕器、加濕電磁閥和儲水箱的加濕管道組成，加濕管道分別連接加濕器和二氧化氯送氣管道；消毒空間壓差監(jiān)測管路由依次設置壓差傳感器和高效空氣過濾器的檢測管道組成。
3.根據(jù)權利要求1氣體二氧化氯消毒裝置，其特征是，所述人機交互平臺由顯示器、 PLC模塊、熱敏打印機和SD存儲設備組成，PLC模塊分別連接顯示器、熱敏打印機、SD存儲設備、混合氣進氣電磁閥、吹掃電磁閥、氮氣進氣電磁閥、加濕電磁閥、質量流量計、加濕器、 溫度傳感器、壓差傳感器和循環(huán)風機。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種具有消毒迅速徹底、無腐蝕和殘留、結構緊湊、操作便捷、消毒過程可視可控、易于維護等特點氣體二氧化氯消毒裝置。本發(fā)明包括氣體二氧化氯發(fā)生裝置、在線濃度檢測裝置、人機交互平臺和輔助管路；人機交互平臺分別與氣體二氧化氯發(fā)生器、在線濃度檢測裝置和輔助管路連接；依次設置溫度傳感器、在線濃度檢測裝置和循環(huán)風機的檢測管路分別與消毒空間和二氧化氯送氣管道聯(lián)通。本發(fā)明氣體二氧化氯消毒裝置可用于生物安全實驗室、實驗動物房、生物安全柜、傳染病房、手術室、高效空氣過濾單元等場合的高水平消毒。
文檔編號A61L9/015GK102178968SQ201110104819
公開日2011年9月14日 申請日期2011年4月26日 優(yōu)先權日2011年4月26日
發(fā)明者吳金輝, 李艷菊, 祁建城, 衣穎 申請人:中國人民解放軍軍事醫(yī)學科學院衛(wèi)生裝備研究所