專利名稱：足用按摩機的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種能夠對被施療者的腳部具體而言為被施療者的膝蓋以下和大腿進行按摩的足用按摩機。
背景技術：
對被施療者的腳部進行按摩的足用按摩機已為公眾所知。作為這種足用按摩機，提出了具有如下結構的按摩機，即，其具有供被施療者的腿肚和足前部(比腳踝靠下)插入的左右一對凹部，在該凹部內配置有氣囊等按摩機構，通過使按摩機構動作，能夠對被施療者的腿肚和足前部施加按摩。另外，除按摩被施療者的腿肚和足前部之外，還提出了能夠按摩被施療者的大腿的足用按摩機(例如，參照專利文獻1)。專利文獻1中的足用按摩機具有供腿肚及足前部插入的主體單元、在該主體單元的上端被軸支承成能夠在平行于前后方向的面內轉動的副單元，當使副單元向前方轉動時，能夠對膝關節(jié)的周圍施加按摩，當使副單元向后方轉動時，能夠對大腿施加按摩。(專利文獻)專利文獻1 中國實用新型第201342077號公告通過使副單元相對于主體單元僅前后轉動，則無法使副單元對位到大腿的期望位置，從而在施加高效果的按摩方面存在困難。另外，即使副單元對位到大腿上，由于副單元能夠轉動的范圍也僅限于以軸支承部位為中心的圓弧范圍，所以無法自由地在從大腿的接近膝蓋的部分到接近胯下的部分的廣闊范圍內進行對位并施加按摩。為了能夠在大腿的廣闊范圍內施加按摩，雖然只要使副單元大型化即可，但是這樣不但會使其使用便利性惡化，還會導致可收容性惡化、成本增加等問題，從而在商品化方面存在困難。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種副單元能夠相對于主體單元上下移動和/或前后傾動，從而能夠在廣闊的范圍內施加按摩的足用按摩機。為了解決上述問題，本發(fā)明的足用按摩機具備主體單元，其具有主體殼體，該主體殼體形成有能夠供被施療者的腿肚及足前部插入的左右一對凹部；以及副單元，其具有由主體殼體支承的副殼體和在該副殼體上形成的左右一對凹部；該足用按摩機還具有滑動機構，該滑動機構使副殼體以相對于主體殼體能夠沿上下方向滑動的方式與主體殼體連接。優(yōu)選滑動機構支承副殼體，使得所述副殼體能夠在平行于前后方向的面內轉動。進一步優(yōu)選滑動機構具備傾動機構，該傾動機構支承副殼體，使得所述副殼體相對于主體殼體能夠在平行于前后的面內傾動。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的足用按摩機，由于滑動機構使副單元以相對于主體單元能夠沿上下方向滑動的方式與主體單元連接，所以能夠根據(jù)被施療者的腳的長度進行副單元的對位。因此，即使對于腳的長度不同的被施療者，也能夠使副單元抵接大腿而進行按摩。另外，除了基于上述滑動的高度調節(jié)之外，副單元相對于滑動機構可以轉動，從而可使副單元移動到大腿的期望的患部位置。因此，能夠使副單元適配到被施療者的大腿的期望的患部，從而盡可能地施加高效的按摩。進一步而言，通過滑動機構所具備的傾動機構，能夠使副單元相對于主體單元前后傾動，由此能夠將副單元的施療范圍擴大到大腿的近腰處，從而能夠使副單元適配到大腿的期望的患部，從而能夠盡可能施加高效的按摩。


圖1是從斜前方觀察到的本發(fā)明的第一實施例的足用按摩機的立體圖。圖2是該足用按摩機的主視圖。圖3是該足用按摩機的側視圖。圖4是從斜后方觀察到的本發(fā)明的第二實施例的足用按摩機的立體圖。圖5是沿圖4的A-A線的向視剖面圖。圖6是從斜前方觀察到的副單元相對于主體單元向上方滑動移動后的第二實施例的足用按摩機的立體圖。圖7是從斜后方觀察到的圖6的足用按摩機的立體圖。圖8是從斜前方觀察到的副單元向上方滑動移動并進而向后方轉動后的足用按摩機的立體圖。圖9(a)、(b)分別為表示骨架小的被施療者、骨架大的施療者通過足用按摩機接受按摩的狀態(tài)的說明圖。圖10 (a)、(b)分別為表示骨架小的被施療者、骨架大的被施療者使主體單元傾躺而接受按摩的狀態(tài)的說明圖。圖11是使副單元接近主體單元的狀態(tài)下的滑動機構的放大圖。圖12是圖11的立體圖。圖13是滑動機構的分解立體圖。圖14是使副單元相對于主體單元滑動的狀態(tài)下的滑動機構的放大圖。圖15(a)至(C)是使副單元的滑動方向后傾之后的足用按摩機的說明圖。圖16是從斜前方觀察到的本發(fā)明的第三實施例的足用按摩機的立體圖，其示出了使副單元向上方滑動后的狀態(tài)。圖17是從斜前方觀察到的使副單元從圖16的狀態(tài)后傾并向后方轉動后的足用按摩機的立體圖。圖18是表示第三實施例的足用按摩機的通常狀態(tài)的側視圖。圖19是使副單元向上方滑動后的足用按摩機的側視圖。
圖20是使副單元向上方滑動并后傾后的足用按摩機的側視圖。圖21是使圖20的副單元向后方轉動后的足用按摩機的側視圖。圖22是主體單元從圖21的狀態(tài)后傾后的足用按摩機的側視圖。圖23是表示具備支承副單元的傾動機構的滑動機構的分解立體圖。圖M是表示在滑動機構的上框架上安裝有副單元的狀態(tài)的分解立體圖。圖25是表示滑動機構的傾動機構的放大圖。圖沈是主體單元的立體圖，其示出在凹部的底面配設有加熱單元的實施例。圖27是加熱單元的放大剖面圖。圖觀是加熱器安裝構件的立體圖。圖四是主體單元的立體圖，其示出在凹部的底面配設有加熱單元的不同的實施例。圖30是加熱單元的放大剖面圖。圖31是不同的加熱單元的放大剖視圖。圖32是又一不同的加熱單元的放大剖視圖。圖33是加熱單元的立體圖。圖34是加熱單元的左側加熱器及安裝構件(加熱板)的仰視圖。符號說明10足用按摩機11 基體20主體單元21主體殼體22凹部(主體單元)40副單元41副殼體42凹部(副單元)60滑動機構61 臂68滑動框架
具體實施例方式圖1至圖3表示本發(fā)明的第一實施例的足用按摩機10，圖4至圖8表示第二實施例的足用按摩機10。足用按摩機10在載置于地面的基體11上具備主體單元20，在該主體單元20上配置有能夠上下滑動的副單元40。基體11由內部中空的樹脂制的基體殼體12形成，在上部支承主體單元20，并在下表面穩(wěn)定地將足用按摩機10載置于地面。主體單元20在基體11的上部能夠配置成傾躺狀態(tài)或者與基體11 一體形成。如圖1、圖6等所示，主體單元20由下側朝向前方突出、后側向上突出的形狀的主體殼體21構成，在該主體殼體21上具有前面及上面開口的左右一對的凹部22、22。被施療者的足前部和腿肚插入凹部22、22。在主體單元20的凹部22、22，在底面23、后表面24、內側面25和/或外側面沈具備氣囊等按摩機構(在圖9及圖10中以符號30表示腳掌用的按摩機構)。副單元40在主體單元20的上端配置成能夠通過后述的滑動機構60而上下滑動。如圖1、圖6等所示，副單元40具有副殼體41，在該副殼體41形成有左右一對的凹部42、42。在凹部42、42的內表面配置有氣囊等副按摩機構(未圖示)。如圖1至圖8所示，將上述主體單元20和副單元40連接成能夠滑動的滑動機構 60可由前端與副單元40連接且基端能在主體單元20上滑動的、優(yōu)選由能夠滑動且能夠定位的滑動機構60 (臂61)構成。在本發(fā)明的圖4至圖8所示的第二實施例中，如圖8所示，副單元40能夠進一步在平行于前后方向的面內向臂61轉動。另外，關于滑動機構60的具體例將進行后述。通過使副單元40能夠相對于主體單元20上下滑動，如圖9所示，能夠與被施療者的腳的長度匹配地調節(jié)副單元40的高度。例如，在被施療者的腳短的情況下，通過在最接近主體單元20的狀態(tài)下使用副單元40 (參照圖1至圖4)，能夠進行被施療者的膝關節(jié)的周圍的按摩，另外，通過使副單元40 朝向后方轉動，如圖9(a)所示那樣，能夠使副單元40與被施療者的大腿對位而施加按摩。另外，在被施療者的腳長的情況下，通過朝向上方拉引副單元40，能夠使臂61相對于主體單元20朝向上方滑動(參照圖6及圖7)，使副單元40相對于主體單元20朝向上方移動。由此，能夠施加被施療者的膝關節(jié)的周圍的按摩，另外，如圖8、圖9(a)所示那樣， 通過使副單元40朝向后方轉動，能夠使副單元40與被施療者的大腿對位而施加按摩。圖10表示使主體單元20相對于基體11向后方傾躺的狀態(tài)。如圖10所示，通過使主體單元20傾躺，能夠使被施療者在橫臥的狀態(tài)下接受按摩。圖10 (a)為使副單元40最接近主體單元20的狀態(tài)，其能夠對腳短的被施療者適宜地施加按摩。圖10(b)為使副單元40朝向離開主體單元20的方向滑動的狀態(tài)，其能夠對腳長的被施療者適宜地施加按摩。圖11至圖14表示滑動機構60的一個實施例。圖11及圖12表示使滑動機構60最短的狀態(tài)，即，使副單元40最接近主體單元20 的狀態(tài)，圖13是滑動機構60的分解立體圖，圖14表示將滑動機構60伸長后的狀態(tài)，即，使副單元40朝向離開主體單元20的方向移動的狀態(tài)。如圖所示，滑動機構60配置在從主體殼體21突出設置的上下一對的上立壁62、62 上。在上立壁62、62上形成有開口，從外側將滑動套筒63、63分別嵌入該開口中。上立壁 62,62的開口被開設成連結上下開口的中心的線與主體殼體21的凹部22的后表面M大致平行(圖4的線α)。如圖11及圖13所示，在滑動套筒63、63上具有通過彈簧65向使金屬制的球體64 突出的方向對所述球體施加力的球體收容室66，在滑動套筒63、63的球體收容室66的外側形成有二字形的狹縫67。二字形的滑動框架68能夠滑動地插入在兩滑動套筒63、63的狹縫67中。
在滑動框架68上開設有多個定位用孔68a、68a，該定位用孔68a能夠在滑動框架 68嵌入滑動套筒63時與球體64嵌合。在由彈簧65對球體64施力而使球體64嵌入定位用孔68a的狀態(tài)下，滑動框架68 相對于滑動套筒63被定位，但是當被施療者如后述那樣向上方拉引副單元40或向下方下壓副單元40從而滑動框架68要移動時，球體64克服彈簧65的作用力而向從定位用孔68a 脫離的方向后退，從而滑動框架68能夠移動。當滑動框架68移動而球體64與相鄰的定位用孔68a對置時，在彈簧65的作用力的作用下，球體64嵌入所述相鄰的定位用孔68a。由此，滑動框架68能夠相對于滑動套筒63滑動且定位。如圖11及圖14所示，在滑動框架68上覆蓋有框架罩69，并形成有臂61。在臂61 (滑動框架68)的前端安裝有副單元40，副單元40與臂61的上下滑動一體地進行上下移動。在本發(fā)明的第二實施例中，副單元40的副殼體41具有被軸支承在滑動框架68前端的樞軸47，能夠相對于臂61使副單元40轉動。優(yōu)選臂61和副單元40在滑動框架68和樞軸47之間配置有棘輪機構等，從而使副單元40能夠相對于臂61轉動且定位。如上所述，臂61以能夠滑動且能夠定位的方式與主體單元20連接，副單元40與臂61連接成能夠一體地上下移動，因此，通過被施療者向上方拉引副單元40，副單元40向上方離開主體單元20并相對于主體單元20被定位，通過向下方下壓副單元40，副單元40 接近主體單元20而相對于主體單元20被定位。因此，如使用圖9及圖10所說明的那樣，能夠與被施療者的腳的長度匹配地調節(jié)副單元40的高度，能夠對被施療者的期望的大腿的患部施加適宜的按摩。另外，通過使副單元40能夠相對于臂61轉動，能夠擴大副單元40的施療范圍。例如，越使副單元40向后方轉動，越能夠對大腿的靠近腰(臀部)的部位施加按摩。在上述內容中，雖然可使臂61與主體單元20的凹部22的后表面M大致平行(圖 3的線α )而對副單元40進行高度調節(jié)，但也可以如圖1 所示，使臂61的滑動方向比主體單元20的凹部22的后表面M更后傾(圖15 (a)的β )。由此，如圖15(a)至圖15(c)所示那樣，當腳的長度不同的被施療者根據(jù)腳的長度將副單元40向上方拉引時，能夠使副單元40向被施療者的臀部側移動，結果能夠在適宜的位置施加按摩，從而能夠提高對大腿的按摩效果。若副單元40的滑動方向與凹部22的后表面M大致平行，則當上拉副單元40時， 如圖15(c)的虛線γ所示，副單元40稍稍過于靠向前方而從大腿脫離。為了不使副單元 40從大腿脫離，需要使副單元40向后方轉動。然而，若使滑動方向如圖15(a)的β那樣后傾，則不會存在這個問題。如上所述，根據(jù)本發(fā)明的足用按摩機10，通過使副單元40相對于主體單元20上下可動，能夠根據(jù)被施療者的腳的長度來調節(jié)副單元40的高度，從而具有能夠提高按摩效果這一優(yōu)點。圖16至圖25表示第三實施例的足用按摩機10。在第三實施例中，不但能夠在上下方向上調節(jié)連接主體單元20和副單元40的滑動機構60的高度，還能夠使其沿前后方向傾動。如圖16及圖17所示，副單元40通過滑動機構60與主體單元20連接。滑動機構 60將副單元40支承成在上下方向上能夠調節(jié)高度且能夠轉動。另外，滑動機構60具備下端由形成于主體殼體21的后表面的凹部21a軸支承(參照圖25的符號77)而能夠從凹部 21a朝向后方進出的傾動機構，滑動機構60能夠相對于主體單元20沿前后方向傾動。另外，在后面將使用圖23至圖25說明具備傾動機構的滑動機構60的具體結構例。圖18至圖21表示第三實施例的足用按摩機10的副單元40的上下方向的高度調節(jié)和前后方向的傾動動作。如圖18所示，通常狀態(tài)(初期狀態(tài))下的足用按摩機10的副單元40接近于主體單元20。當從該狀態(tài)向上方拉引副單元40時，滑動機構60伸長，如圖16及圖19所示，副單元40相對于主體單元20向上方滑動，從而能夠調節(jié)副單元40的高度。由此，能夠與被施療者的腳的長度匹配地調節(jié)副單元40的位置，從而能夠在被施療者的期望的高度位置施加適宜的按摩。另外，通過從圖19的狀態(tài)向后方拉動副單元40，滑動機構60如圖20所示那樣相對于主體單元20向后方傾動。由此，能夠沿著被施療者的大腿調節(jié)副單元40的位置，從而能夠對被施療者的期望的大腿的患部施加適宜的按摩。需要說明的是，根據(jù)需要，通過如圖17、圖20及圖21所示那樣使副單元40相對于滑動機構60轉動，能夠使副單元40的凹部42、42適合(fit)于被施療者的大腿L，從而能夠提高按摩效果。另外，如圖22所示，通過使主體單元20相對于基體11向后方傾躺，以對副單元40 進行高度調節(jié)及使其傾動，從而被施療者能夠在躺著的狀態(tài)下通過主體單元20及副單元 40對期望的患部接受適宜的按摩。圖23及圖M表示具備傾動機構的滑動機構60的分解立體圖。如圖所示，滑動機構60包括在前端將副單元40安裝成能夠轉動的安裝框架70、安裝在該安裝框架70上的上框架71、以及能夠滑動地嵌入該上框架71的下框架75。如圖M所示，副單元40具有插入副單元40的內部的左右一對的安裝框架70、70， 在該安裝框架70、70上把持有上框架71。安裝框架70、70是剖面為大致矩形的框架，在對置的面的大致中央分別沿長度方向開設有狹縫70a、70a。另外，副單元40經(jīng)省略了圖示的轉動機構在安裝框架70上安裝成能夠轉動且能夠定位，并且根據(jù)需要，副單元40如圖17及圖20所示那樣進行轉動。如圖23所示，上框架71為通過橫桿73連接朝向后方開口的二字形的左右兩根桿體72、72的大致H形的框架，桿體72、72嵌入所述安裝框架70、70。如圖23中放大所示的那樣，在桿體72、72的二字形凹部軸支承輥74、74，輥74、74 在輥軸74a、74a的作用下能夠轉動。下框架75為能夠傾動地被支承在主體單元20上的大致H形的框架，左右兩根桿體76、76通過橫桿78連接。如圖25所示，在桿體76、76的下端附近由主體單元20軸支承(參考符號77)。下框架75的桿體76、76能夠滑動地嵌入安裝在安裝框架70上的上框架71的二字形的桿體72、72。當將下框架75安裝到上框架71上時，下框架75的桿體76以前表面及兩側面與上框架71的桿體72抵接、后表面與安裝框架70抵接的方式嵌入。另外，當將上框架71嵌入下框架75時，下框架75的橫桿78能夠通過安裝框架70 的狹縫70a。在將下框架75嵌入到上框架71的狀態(tài)下，所述上框架71的輥74壓抵于下框架 75的桿體76、76的前表面。如圖23的放大圖等所示，在桿體76、76的前表面形成有多個凹坑76a、76a，輥74 的周面的一部分能夠嵌入該凹坑76a內。通過將輥74嵌入凹坑76a，在無負載的狀態(tài)下，上框架71相對于下框架75定位， 通過將副單元40拉引成遠離主體單元20或者將其下壓成靠近主體單元20，輥74旋轉而從凹坑76a脫出并在桿體76上轉動，然后嵌入在上方或下方相鄰的其他凹坑76a而被定位。 由此，上框架71相對于下框架75在上下方向上滑動，從而能夠相對于主體單元20沿上下方向調節(jié)副單元40的高度并對其進行定位。副單元40的前后方向的傾動如上述那樣是以軸支承部分77為中心進行的。此時， 為了能夠將副單元40定位在期望的位置而具備定位機構。如圖25所示，在下框架75的比軸支承部分77更靠上方處，從朝向前方突出設置的凸緣79向內突出設置有定位軸79a，該定位軸79a嵌入在主體殼體21的凹部21a的內側面形成的下側具有臺階部的定位槽21b 內。當被施療者使副單元40向前方或后方傾動時，定位軸79a越過定位槽21b的臺階部而到達相鄰的臺階部，當停止傾動時，因為定位軸79a被定位在定位槽21b的臺階部間， 所以能夠使副單元40在傾動方向定位。通過具備具有上述結構的傾動機構的滑動機構60，如使用圖18至圖21所說明的那樣，由于能夠相對主體單元20調節(jié)副單元40的高度及使其傾動，所以能夠對被施療者的大腿的廣闊范圍施加適當?shù)陌茨ΑD沈至圖34表示在足用按摩機10上配設有加熱單元80的實施例。特別是冬季等，在足用按摩機10被冷卻的狀態(tài)下，當被施療者將腳插入足用按摩機10時，不僅會使其感到不快，還會使肌肉緊張，從而無法得到充分的按摩效果。另外，當患部變冷時，血流停滯，從而促進血液循環(huán)的效果不充分。因此，優(yōu)選在足用按摩機10上配設加熱單元80，但是需要使加熱單元80抑制消耗電力而以更高的效率使足用按摩機10升溫。以往，雖然在主體單元20的主體殼體21的底面23的里側配設有加熱單元80，但是由于主體殼體21設在與被施療者的腳掌之間，所以效率不夠。因此，在本發(fā)明中，采用了在主體殼體21的底面23的表側即與被施療者的腳掌相接的一側配設加熱單元80的方式。圖沈是主體單元20的立體圖。如圖所示，在主體殼體21的底面23上以在前后方向往復的方式配置加熱單元80的加熱線81。如圖27及圖觀所示，加熱線81通過加熱器安裝構件82安裝在主體殼體21上， 加熱器安裝構件82具有供加熱線81嵌入的凹坑83和能夠安裝在主體殼體21上的爪84、 84。加熱器安裝構件82可由ABS樹脂、聚丙烯等制作，通過由這些材料制作，能夠減小熱量損失。加熱器安裝構件82通過大幅度地覆蓋凹部22的底面23，能夠具備均熱效果，從而能夠防止局部的升溫、超溫(過溫)。另外，由于加熱器安裝構件82從上方覆蓋加熱線81，所以能夠使加熱線81免于受到外力，從而具有能夠防止斷線等的效果。通過在主體殼體21的凹部22的底面23的表側配設加熱線81，能夠以良好的效率迅速地使主體單元20升溫。另外，在圖27中，符號28為覆蓋主體殼體20的布制的罩。另外，能夠根據(jù)需要設置熱敏電阻等溫度傳感器，或者使用兼有溫度傳感器和加熱線81的電熱線。圖四至圖34為在主體殼體21的底面23的表側配置有內置了加熱線81的加熱單元80的不同實施例。如圖所示，加熱單元80在加熱板92收容有加熱線81，加熱板92在中央處形成有大致矩形的開口 91。在加熱板92的開口 91例如配置有能夠進出的腳掌用的按摩機構(未圖示)。加熱板92與主體殼體21的底面23的凹坑的深度匹配，如圖30至圖32所示，改變從加熱板92的里面周緣及開口周緣突出設置的框93的高度。加熱板92能夠由ABS樹脂或聚丙烯等制成，加熱板92優(yōu)選形成為適合主體單元 20的凹部22的形狀且不產(chǎn)生間隙地密接的形狀。由此，能夠防止熱量逃散，從而提高效率。如圖30至圖32及圖34所示，在加熱板92的里面突出設有突條94，在突條94、94 間或者突條94和框93之間形成有供加熱線81嵌入的凹坑95。通過在加熱板92的長度方向配設兩層加熱線81，或者在前方(腳尖側)配設一層加熱線81而在后方(腳后跟側)不配設加熱線81，從而對容易變涼的腳尖側進行加溫。 另外，雖然在長度方向上在內側(腳心側)和外側均設置兩層，但是可以在內側設置兩層而在外側設置三層，減少與底面23接觸的面積小的腳心側的加熱線81的條數(shù)，增加外側的加熱線81的條數(shù)，從而有效地對腳掌加溫。如圖四及圖33所示，在主體單元20的左右的凹部22、22分別配設有加熱單元80、 80，如圖33所示，加熱線81配設成通過左右的加熱單元80、80，加熱線81的兩端與電源單元(未圖示)連接，對其通電而升溫。當然，通過被施療者的操作或程序、定時動作等來控制對加熱線81的通電。如上所述，通過利用內置有加熱線81的加熱板92構成加熱單元80，能夠使加熱線 81接近被施療者的腳掌，從而獲得提高熱傳遞效率、節(jié)省電力的效果。另外，通過使加熱板 92整體升溫，能夠具備均熱效果而防止局部升溫，由于能夠比現(xiàn)有技術減小溫度坡度(溫度勾配)，所以能夠實現(xiàn)更高精度的溫度控制。另外，能夠抑制向主體殼體21的熱量損失，能夠以良好的效率迅速升溫，從而能夠盡可能地提高按摩效果。另外，如圖31所示，在主體殼體21的底面23的凹凸大的情況下，由于在加熱板92 的框93之間形成有空氣層，所以通過空氣層能夠防止從加熱線81發(fā)出的熱量向主體殼體 21傳遞。而且，如圖32所示，通過在加熱板92的框93間插入絕熱材料96，能夠防止向主體殼體21的熱傳遞，從而能夠抑制熱量損失。
工業(yè)實用性本發(fā)明對于通過使副單元能夠相對于主體單元上下滑動和/或前后傾動從而容易對被施療者的患部進行對位以提高按摩效果的足用按摩機是有用的。
權利要求
1.一種足用按摩機，其具備主體單元，其具有主體殼體，該主體殼體形成有能夠供被施療者的腿肚及足前部插入的左右一對凹部；以及副單元，其具有由主體殼體支承的副殼體和在該副殼體上形成的左右一對凹部；該足用按摩機的特征在于還具有滑動機構，該滑動機構使副殼體以相對于主體殼體能夠沿上下方向滑動的方式與主體殼體連接。
2.如權利要求1所述的足用按摩機，其特征在于，滑動機構支承副殼體，使得所述副殼體能夠在平行于前后方向的面內轉動。
3.如權利要求1或2所述的足用按摩機，其特征在于，滑動機構具備傾動機構，該傾動機構支承副殼體，使得所述副殼體相對于主體殼體能夠在平行于前后的面內傾動。
4.如權利要求1至3中任意一項所述的足用按摩機，其特征在于，所述足用按摩機具有載置于地面的基體，主體殼體經(jīng)傾躺機構與基體連接，所述傾躺機構使所述主體殼體相對于所述基體在平行于前后方向的面內傾躺。
全文摘要
本發(fā)明提供一種通過使副單元能夠相對于主體單元上下移動而能夠在廣闊的范圍內施加按摩的足用按摩機。該按摩機具備主體單元(20)，其具有主體殼體(21)，該主體殼體(21)形成有能夠供被施療者的腿肚及足前部插入的左右一對凹部(22、22)；副單元(40)，其具有由主體殼體(21)支承的副殼體(41)和在該副殼體(41)上形成的左右一對凹部(42、42)；該足用按摩機還具有滑動機構(60)，該滑動機構(60)使副殼體(41)以相對于主體殼體(21)能夠沿上下方向滑動的方式與主體殼體(21)連接。
文檔編號A61H23/04GK102379799SQ20111007699
公開日2012年3月21日 申請日期2011年3月23日 優(yōu)先權日2010年8月31日
發(fā)明者才木直史, 池田健太, 渡邊力, 菅祐司 申請人:三洋電機株式會社, 三洋電機民用電子株式會社