專利名稱：通過(guò)低水平濃度殺菌劑的區(qū)域凈化的制作方法
殺菌劑的區(qū)域mi:駄領(lǐng)域本申請(qǐng)涉^I31低水平濃度殺菌齊啲區(qū)域凈化，以及衝共所述作用的裝置。
技術(shù)背景^B/f周知，微生物能污染區(qū)域，例如醫(yī)院病房，中的環(huán)境表面。由此，涉及 健康和衛(wèi)生的設(shè)施的操作者具有嚴(yán)格的規(guī)范以減少或消除環(huán)境污染來(lái)防止微生 物從這些表面轉(zhuǎn)移到顧客，患者或職員中。微生物從環(huán)境表面轉(zhuǎn)移到患者或工 作人員通過(guò)的主要途徑是患者或工作人員的手。因此，標(biāo)準(zhǔn)的環(huán)境凈化最多關(guān) 注的是高接觸性表面，例如，床欄，^^關(guān)注低^i蟲性表面，例如地板和天花 板。處理區(qū)域污染的標(biāo)準(zhǔn)方&^括以下措施，例如打掃，真空吸塵，用或不用消 毒劑拖和擦低接觸性區(qū)域。高接觸性表面典型地采用化學(xué)試劑消毒，所述化學(xué) 試劑擦或"^凃其上，允許保留適當(dāng)?shù)某废x時(shí)間以保證殺菌活性，然后擦去。因 為這些高接觸性表面在數(shù)量和復(fù)雜性上的多樣，很有可能不能適當(dāng)?shù)靥幚硭?的表面。由于殺菌劑的有害性，這些規(guī)范典型地出現(xiàn)于，例如，在患者居住的 病房中和手術(shù)室的手術(shù)itl呈中。盡管衛(wèi)生體設(shè)鵬一常注意解決制七問(wèn)題，但 是在凈化后找到殘余污染物并不是不常見的。這些處理方式的一種替代方式是 通過(guò)消毒蒸汽或薄霧的區(qū)域凈化，在此，區(qū)域被抽真空并封閉或密封然后處于 消毒蒸汽或薄霧下一段時(shí)間。這些方法需要區(qū)域?yàn)榱颂幚硗Ｖ狗?wù)一段時(shí)間但 確保被處理的區(qū)域中的所有暴露的表面都被消毒。不充分或不完全的凈化和消毒使得傳染性微生物可能從環(huán)境表面轉(zhuǎn)移到患 者或工作人員中，但是設(shè)施停工以全面地解決污染問(wèn)題花費(fèi)昂貴并且效剩氐下。 由此，需要M現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)M娘呈的凈化方式以解決各種設(shè)施中的生物污染。


本發(fā)明的特征和優(yōu)點(diǎn)可以參考附圖更好地理解，其中 圖1為加濕器形式的本發(fā)明的用于凈化區(qū)域的裝置示意圖；圖2為臭氧發(fā)生裝置形式的本發(fā)明的用于凈化區(qū)域的^g示意圖；4圖3為一次性或可重復(fù)使用系統(tǒng)形式的本發(fā)明的用于凈化區(qū)域的裝置示意圖；圖4為連接常規(guī)HVAC系統(tǒng)的單室單元形式的本發(fā)明的用于凈化區(qū)域的裝 置示意圖；圖5為連接常規(guī)HVAC系統(tǒng)的多室單元形式的本發(fā)明的用于凈化區(qū)域的裝 置示意圖；和圖6為連接常規(guī)HVAC系統(tǒng)的多室單元形式的本發(fā)明的用于凈化區(qū)域的裝 置示意圖。 發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的實(shí)施方案提供一種裝置和以低濃度殺菌劑凈化區(qū)域中微生物的相 關(guān)方法，其不需要區(qū)域停止服務(wù)。因此，區(qū)域，例如病房，在制戰(zhàn)行時(shí)能夠 持續(xù)性地或接近持續(xù)性地占用。除了操作性的實(shí)施例，或除非有清楚地 說(shuō)明，在說(shuō)明書的下列部分中， 所有數(shù)值范圍，量，數(shù)值和百分?jǐn)?shù)，例如用于材料量，反應(yīng)時(shí)間和,，量的 比例等等的那些，都應(yīng)看成如同其W詞"約"一樣，盡管詞"約"并沒(méi)有和數(shù)值， 量或范圍一起明確地出現(xiàn)。相應(yīng)地，除非有相反地說(shuō)明，在以下說(shuō)明書和所附 權(quán)利要求書中闡明的數(shù)值參數(shù)是可根據(jù)本發(fā)明要獲得的所要的性質(zhì)變化的近似 值。驗(yàn)碼的，并且不試圖限制對(duì)權(quán)利要求范圍等同原則的應(yīng)用，齡數(shù)值參 ，該至少根據(jù)眾多已報(bào)道的重要數(shù)字以及Mil常規(guī)背景M的應(yīng)用，釋。盡管本發(fā)明中闡明寬范圍的數(shù)字范圍和參數(shù)J^S似值,在 實(shí)施例中闡明 的數(shù)值被盡可能精確 道。但是任何數(shù)值，本身含有從它們的相應(yīng)測(cè)試手段 中形成的標(biāo)準(zhǔn)偏差所必然導(dǎo)致的特定錯(cuò)誤。此外，當(dāng)各種范圍的數(shù)字范圍在此 闡明，預(yù)期可以4柳包括所述值在內(nèi)的任何這些數(shù)值的組合。除非另有說(shuō)明， ^M頓的詞語(yǔ)"」意圖包貪'至少一"或'一或更多"。MOT引,引入的全部或部分的，任何專利，出版物，i他公開材料僅 僅以以下程度被在此弓l入，即被引入的材料不與在本發(fā)明中闡明的現(xiàn)存定義， 說(shuō)明或其他公開材料沖突。由于這樣，并且在必要的程度上，在此明確闡明的 公開內(nèi)容替代了在J^M31援弓I弓l入的倒可沖突性的材料。在jJtilil援弓I引入的 但是和在此闡明的現(xiàn)存定義，說(shuō)明或其他公開材料沖突的任何材料或其部分， 將僅僅以在弓l入的材料和現(xiàn)存公開材料之間不，沖突的程度被引入。本發(fā)明的實(shí) 案,了凈化區(qū)域的裝置和方法。該方,含l殺菌源釋放殺菌劑到區(qū)域，控制區(qū)域中的殺菌劑濃度到不超過(guò)允許暴露極限(permissible exposure limit)的預(yù)定濃度，并且將區(qū)域中的微生物和殺菌劑^M以制七該區(qū)域。該區(qū)域可以是本領(lǐng),術(shù)人員公知的易受微生物生長(zhǎng)或發(fā)育，和/或需要保 持衛(wèi)生斜牛的<頓房間或設(shè)施中的空氣和/戯面。例如，本發(fā)明中預(yù)期的區(qū)域 包括辦公室，家，醫(yī)院設(shè)施，醫(yī)院病房，重癥監(jiān)護(hù)病房，救護(hù)車，手術(shù)室，機(jī) 場(chǎng)，健身俱樂(lè)部設(shè)施，餐館，公共廁所設(shè)施，實(shí)驗(yàn)室，動(dòng)物設(shè)施，例如動(dòng)物的 窩，動(dòng)物醫(yī)院，動(dòng)物軟濟(jì)所，以及它們的任意組合。區(qū)域可以是封閉的或半封 閉的，例如門或窗是半幵的或部分半開的情況。殺菌劑可以以氣體，蒸汽，薄霧或它們的任意組合的形式從殺菌源中釋放 入?yún)^(qū)域。如在此i頓的，詞語(yǔ)"氣體"被定義為在常態(tài)，即標(biāo)準(zhǔn)鵬和壓力下， 分子不濃縮成液體或固體的物質(zhì)狀態(tài)。詞語(yǔ)"蒸汽"被定義為在常態(tài)，即標(biāo)準(zhǔn)溫 度和壓力下，液體或固體物質(zhì)的舒的空氣擴(kuò)散。如在此i柳的，詞語(yǔ)"薄霧， 指的是液體的小滴。如在皿用的，詞語(yǔ)"薄霧'用作包括在氣相組合物中懸浮 的小滴的所有形式，包括氣溶膠，霧等，的鄉(xiāng)爾。殺菌齊阿以在人翻物獸灘長(zhǎng)期并且安^ 露，并且適于M^、，消除或減 弱區(qū)域中空氣和/自面的微生物的濃度下被釋放到區(qū)域中。本發(fā)明預(yù)期凈化的 微生物包括各種傳染劑，例如，病毒，細(xì)菌繁殖體(vegetativebacteria),真菌， 分枝桿菌，細(xì)菌孢子，及它們的組合，特別地，包括，例如，甲氧西林耐受金 黃色葡萄球菌(&a/ /^/ococcw awewj) (MRSA)，萬(wàn)古霉素耐受腸球菌 (e"feracoccMs) (VRE)，諾沃克病毒(Norovirus)，金黃色葡萄球菌(S W梭菌(C.攀7e)等。殺菌劑可以是，例如，過(guò)氧化氫戯氧。當(dāng)采用過(guò)氧化氫時(shí)，殺菌,以是， 例如，液態(tài)的過(guò)氧化氫溶液或固態(tài)的過(guò)氧化物絡(luò)糊。液態(tài)的過(guò)氧化氫溶液可 以為，例如，H2O/H20z溶液。在某些實(shí) 案中，過(guò)氧化氫溶液可以含有30% 的水，在某些實(shí)施方案中含有60%的水，在某些其他實(shí) 案中含有不超過(guò)90 %的水，以重量計(jì)。在某些實(shí)施方案中，過(guò)氧化氫溶液可以被釆用以產(chǎn)生基本 上不含水(即，基本無(wú)水)的過(guò)氧化氮?dú)怏w，蒸汽，和/或薄霧的源，其可以在 蒸發(fā)游呈中被處理以除去7K,例如在真空下進(jìn)行。因此，頓用含水過(guò)氧化氮 絡(luò)合物的某些實(shí)施方案中，在實(shí)施方法的同時(shí)，含水絡(luò)合物被轉(zhuǎn)化成基本不含水的過(guò)氧化氫殺菌劑，如在美國(guó)專利號(hào)5,667,753， 5,674,450，和5，785，934中所 述，雜此全文M51援引引入。如在此討論的，殺菌源可以加熱以便于釋放殺 菌劑。固態(tài)過(guò)氧化物絡(luò)合物具有基本上不隨著過(guò)氧化物釋放水到環(huán)境中的優(yōu)點(diǎn)。一 種基本不含水(即基本無(wú)水)的過(guò)氧化氫源通常釋放基本不含水的過(guò)氧化氫氣體或蒸汽。在一個(gè)實(shí)施方案中，基本不含水的過(guò)氧化氫蒸汽直接從基本不含水 的過(guò)氧化氫絡(luò)合物中產(chǎn)生。本發(fā)明預(yù)期各種過(guò)氧化物絡(luò)合物。在一個(gè)實(shí)施方案 中，例如，殺菌劑為服素過(guò)氧化氫絡(luò)合物中釋放的過(guò)氧化氮。尿素過(guò)氧化氣 絡(luò)，以片劑形式從Fluka Chemical Corp.^Ronkonkoma， N.Y和以粉劑形式從 Aldrich Chemical Co., Milwaukee ,Wis中獲得。這種絡(luò)合物也稱為尿素過(guò)氧化物， 過(guò)氧化鄉(xiāng)織，，過(guò)氧化尿素，過(guò)氧化尿素加合物，尿素過(guò)氧化物加合物， 過(guò)碳醐安(percarbamide)，過(guò)氧化氫合脲，和過(guò)氧化脲。如在此j頓的，詞語(yǔ) "尿素過(guò)氧化物'包括上述所有詞。在本發(fā)明中可以釆用各種其他過(guò)氧化氫絡(luò)合 物。例如，本發(fā)明中預(yù)期的合適的過(guò)氧化氫絡(luò)合物包括聚(乙烯醇) 一過(guò)氧化 氫絡(luò)合物，聚(乙烯甲基醚)一過(guò)氧化氫絡(luò)合物，聚(乙烯甲基酮) 一過(guò)氧化 氫絡(luò)合物，聚(丙烯酸) 一過(guò)氧化氮^物，聚(乙酸乙烯酯)過(guò)氧化氨絡(luò)合 物，纖維素乙烯酯過(guò)氧化敏合抓海藻,過(guò)氧化M^物，纖維素硫酸酯， 鈉鹽，過(guò)氧化氫絡(luò)合物，甘氨酸一過(guò)氧化氫船吻，聚(4-乙烯吡啶)過(guò)氧化氫 鄉(xiāng)#^1，繊過(guò)氧化氫^j^，丙 過(guò)氧化鄉(xiāng)合物，1，3-二甲基E31氧化氫 ^tl，自脲過(guò)氧化M^物，聚丙烯 過(guò)氧化5^物，尼龍6過(guò)氧化 氫絡(luò)合物，尼龍6,6膜過(guò)氧化，合物，聚醚聚氨基甲酸乙酯過(guò)氧化氫絡(luò)合物， 和碳膨如過(guò)氧化i(^物。細(xì)固態(tài)過(guò)氧化物^tl時(shí)，系統(tǒng)中會(huì)絲一些水。 這些水可能來(lái)自過(guò)氧化氫的分解，它產(chǎn)生水和氧氣作為副產(chǎn)物，并可發(fā)生這些 水與絡(luò)合物的一些氫結(jié)合。適用于本發(fā)明的其他過(guò)氧化氫溶液或絡(luò)合物為在美國(guó)專利號(hào)5,667,753 ， 5，674，450,和5,785,934中公開的^tl。當(dāng)殺菌劑為臭氧時(shí)，殺菌源為氧氣。在某些實(shí)施方案中，氧氣由空氣，純 氧源或它們的組合衝共。當(dāng)釋駄區(qū)域，殺菌齊呵以控制在人驗(yàn)物育辦長(zhǎng)期暴露的樹可合適的濃度 下。典型地，區(qū)域中的殺菌劑濃度被控制到不趟S"低水平鄰度或'允許暴露極限，的預(yù)定水平。如tt使用的，"允許暴露極限"(PEL)指的魏質(zhì)在空氣中 的量或濃度的辭見極限，如TO或國(guó)家衛(wèi)生當(dāng)局所限定的。例如，職虛安全與 衛(wèi)生管理局("OSHA")設(shè)定PELs以保護(hù)工人不受暴露于有害物質(zhì)下的^Ji^ 害。對(duì)于過(guò)氧化氫，OSHA設(shè)定PEL為l.Oppm。在類似的方式下，臭氧的PEL, OSHA設(shè)定為O.lppm。在其他國(guó)家的法規(guī)體系可能有不同的PEL's。相應(yīng)地，在本申請(qǐng)?zhí)囟ǖ钠渌麑?shí)施方案中，殺菌齊l底不大于限定的PEL極 限的各種預(yù)定濃度下被可控制地在區(qū)域中釋放。在其他實(shí)施方案中，預(yù)定濃度 不大于允許暴露極限的一半。在其他的實(shí)施方案中，預(yù)定濃度不大于允許暴露 極限的三分之一。例如，在特定的實(shí)施方案中，過(guò)氧化氫的OSHA PEL為 l.Oppm，殺菌劑可以等于或小于l.Oppm可控制,放，在其他實(shí)施方案中為等 于或小于0.75ppm,在其他實(shí)施方案中為等于或小于0.5ppm，和在其他實(shí)皿 案中為等于或小于0.3ppm。在殺菌劑為臭氧的實(shí)施方案中，其中OSHA PEL 為O.lppm，臭氧以等于或小于O.lppm可控制 放，并且在一些實(shí)施方案中， 為等于或小于0.05ppm。在某些實(shí)施方案中，這些濃度水平在設(shè)備的標(biāo)準(zhǔn)操作中 (艮贓按慣例被稱為"幵啟"和"關(guān)附'的時(shí)間之間)被控制和/或維持。殺菌劑可以在各種頻率下被釋^A區(qū)域，以允許長(zhǎng)期水平下的濃度控制。例 如，預(yù)期殺菌齊鵬^A區(qū)域可以;i^的，間歇的，周期性的，或它們的組合。 殺菌劑的連續(xù)和控制的釋放允許凈化設(shè)備的手工的和基本上無(wú)Ai^督;W作。 在其他實(shí)施方案中，殺菌劑的釋放可以為間歇的或周期性的。預(yù)期殺菌劑的間 歇或周期性的釋放可以在凈化的M階段進(jìn)行，例如在,操作之后殺菌劑的 低水平濃度已經(jīng)到達(dá)預(yù)先設(shè)定點(diǎn)之后。如在《—步詳細(xì)所述，控制區(qū)域內(nèi)殺 菌劑的低水平到達(dá)預(yù)定濃度可以Sii各種方法進(jìn)行，例如M31在區(qū)域內(nèi)放置任 選的傳麟和監(jiān)測(cè)器。在這種方式下，釋放可以基于經(jīng)由傳感體和/鄉(xiāng)iJ^ 制的監(jiān)測(cè)的反饋控制而中斷一段時(shí)間，所述傳感縫禾P/^^控制的監(jiān)測(cè)允許 殺菌劑的釋放臨時(shí)中止，例如艦關(guān)閉電力供應(yīng)，例如加繊，和/^131辦 裝置中的分配器，例如自或鼓風(fēng)機(jī)。如在此討論的，間歇的或周期性的釋放 可以基于被引入設(shè)備中的各種設(shè)定點(diǎn)。另外，工作狀態(tài)的循環(huán)也可以改變。例 如，非連續(xù)暴露，釋放可以被限定到每天特定數(shù)小時(shí)，每周數(shù)天，或按天的時(shí) 間。例如，釋放每規(guī)行8小時(shí)，例如，在公共廁所中，只在深夜，以M^、人 類暴露。各種設(shè)定點(diǎn)可以引入設(shè)備以提供對(duì)下列的選擇，例如，工作時(shí)間(開啟時(shí)間， 關(guān)閉時(shí)間，或開/關(guān)時(shí)間)，比例(每單位時(shí)間釋放的量)，殺菌劑濃度，和/或區(qū) 駄小或狀況(密封/關(guān)辦卩抽真空的區(qū)域)，和它們的組合，由此殺菌齊呵以在 預(yù)定的低濃度水平之內(nèi)被可控制 放。在這種方法中，操作者可選擇設(shè)備上的一個(gè)或更多個(gè)操作設(shè)定，所述操作設(shè)定控制殺菌齊i脾放iax區(qū)域。各種設(shè)定 點(diǎn)允許設(shè)備在可能需要調(diào),作剝牛的區(qū)域中更加方便鵬作。 在特定實(shí) 案中，預(yù)期可以釆用的凈化方法為控制殺菌劑濃度高于和低于PEL的方法。例如，在一個(gè)實(shí)施方案中，凈化區(qū)域的方、跑含當(dāng)區(qū)職標(biāo)準(zhǔn)操 作時(shí)，控庫(kù)贓區(qū)域內(nèi)的殺菌劑濃度到不艦PEL的預(yù)定7jC平，然后增加區(qū)域中 的殺菌劑濃度到皿PEL的水平一段時(shí)間用于緊急凈化。據(jù)此，裝置可以被配 置淑示準(zhǔn)操作時(shí)釋放不艦PEL的預(yù)定濃度的殺菌劑到區(qū)域，但是在緊急凈化 時(shí)可以在短暫的時(shí)間內(nèi)皿PEL。如本文使用的，術(shù)語(yǔ)"標(biāo)準(zhǔn)操作"定義為下 列時(shí)候當(dāng)區(qū)域被人和/，物占用，并且用于它的意圖和指定的目的時(shí)。標(biāo)準(zhǔn) 操作可以，例如在正常營(yíng)業(yè)時(shí)間時(shí)。術(shù)語(yǔ)"緊急凈化"定義為用短時(shí)間內(nèi)濃度 大^S31PEL的殺菌劑的凈化。例如，當(dāng)過(guò)氧化氫作為殺菌齊U使用，緊急， 典型地在30到1500ppm的水平范圍內(nèi)實(shí)施最多至6—8小時(shí)。在區(qū)域不在標(biāo)準(zhǔn) 操作的時(shí)間內(nèi)，區(qū)域可以用皿PEL的濃度的殺菌齊IJ凈化。在這個(gè)方法中，凈 化區(qū)域可以在正常的營(yíng)業(yè)時(shí)間之夕喊當(dāng)區(qū)域不被i頓，例如在敏呈之間，在晚 上，周末期間，假日關(guān)閉等時(shí)，更有效 行。現(xiàn)在轉(zhuǎn)到附圖，附圖1為力卩濕器形式的，用于凈化區(qū)域150的裝置100的示 意圖。裝置100包含定位于外罩120之內(nèi)的殺菌源110，和與外罩120連接的釋 放器130。釋放器130被配置以從殺菌源110釋放預(yù)定濃度下的殺菌劑140駄 區(qū)域150，由此在區(qū)域150中的殺菌劑140的預(yù)定濃度不皿PEL。當(dāng)殺菌源110為過(guò)氧化氫時(shí)，外罩120可包括用于支持殺菌源110的支, 122，并且可以為，例如，槽，板或盤。如圖，外罩120可包括，例如，金屬支 ,,例如盤，例如，鋁盤。殺菌劑140可以艦各種機(jī)器例如，氣體發(fā)生器， 薄霧發(fā)生器，加濕器(如圖示的)，加熱器，和它們的任意組合以氣體，蒸汽和 域薄霧的形式A^殺菌源110中產(chǎn)生。通常，艦i頓盼'釋放器"可以為允許或 幫助殺菌齊晚過(guò)殺菌源iftA區(qū)域的任何體鄉(xiāng)臘。例如，釋放器130可以包 括允許殺菌劑擴(kuò)散到區(qū)域150的氣體可滲,自。在特定的實(shí)施例方式中，釋放器130可以結(jié)合自^M風(fēng)饑以幫助散布?xì)⒕鷦?40遍及區(qū)域150。在小區(qū) 域中，或當(dāng)裝置100結(jié)合到現(xiàn)有空氣循環(huán)系統(tǒng)中時(shí)，例如下述討論的HVAC系 統(tǒng)，麵^M機(jī)可以不Ji^、需的。釋放器130也可以包括流體控制器，例如 從Bronkhorst High-Tech B,V， Netherlands商iLh可獲得的控帝藤。 使用的流 體控制器為M它的組成，幾何結(jié)構(gòu)，或機(jī)械作用控制殺菌劑140駄區(qū)域150 的裝置謝料?？梢耘灨鞣N方法控制區(qū)域150中的低7jC平的殺菌劑140到預(yù)定濃度,例如 Sil在區(qū)域150中^S—個(gè)或更多個(gè)任選的傳感器160。傳感器160可以，在 外罩120上或可以遙控地位于區(qū)域150以衝共，例如，區(qū)域150中殺菌劑140 的濃Jt7K平的禾鵬制的監(jiān)測(cè)和衝共對(duì)于，例如，為控制區(qū)域150中的殺菌劑 的釋放和濃度而配置的流體控制器的反饋控制器。如在此闡明的，殺菌劑140 的釋放可以JK續(xù)的，間歇的，和/鵬期性的。殺菌劑140釋放的頻率可以基 于選自設(shè)定點(diǎn)控制器170的各種設(shè)定點(diǎn)。設(shè)定點(diǎn)可以是程雜制的，或手動(dòng)的 且可以包括，例如，工作時(shí)間，殺菌劑濃度，區(qū)域大小，和它們的任意組合。 4頓的傳繊160的縫和它們的方位可以根據(jù) ^區(qū)域150中殺菌劑濃度 的所需均一性而變化。根據(jù)例如裝置100在區(qū)域150中的配置和位置這些因素， 預(yù)期釋放器130獸嫩艦微鵬鵬制并且隨使得，例如，多個(gè)流體控諱幡 育灘3te地控制以致位于區(qū)域150的某些，^^的特定室的一個(gè)^M多 個(gè)流體控制器，可釋放出不同量的殺菌劑140以產(chǎn)生殺菌劑140更大的均一性， 或者，可選地，基于傳 反饋控制，在特殊選定的位置提供較高或較低濃度 的殺菌劑140。如圖所示，體100可以包括其他任選特征，例如i頓絲顯示器180，以 顯示，例如，何時(shí)砂卜罩120中的殺菌源110的量被消耗完。i柳絲顯示器 可以為液面?zhèn)骺?，遙控傳麟的過(guò)氧4t^測(cè)器。圖2是用于制七區(qū)域190的連蹄常規(guī)HVAC系統(tǒng)185的臭織生器形式 的體180的示意圖。裝置180包括外罩182,和與外罩182連接的釋放器184。 釋放器184被配置以釋放預(yù)定濃度的殺菌劑進(jìn)入?yún)^(qū)域190以致在區(qū)域190中的 殺菌劑的預(yù)定濃度不艦PEL。當(dāng)殺菌劑為臭氧時(shí)，釋放器184可以包括臭氧 發(fā)生縫186，例如，電3/Il^電，電暈放電，鄉(xiāng)外一鄉(xiāng)(UV)源，例如UV 燈。例如，在本文所闡明的預(yù)定和控制濃度內(nèi)的臭氧氣體可以釆用電暈放電發(fā)10生器產(chǎn)生。在一個(gè)實(shí)施例中，電暈放電發(fā)生器可以包括充滿氣體的密封玻璃管。 在一端穿過(guò)玻璃管的導(dǎo)電桿可延伸管的全長(zhǎng)。穿孔的，金屬網(wǎng)柵可圍繞該管以 至于當(dāng)將高電壓應(yīng)用于桿和網(wǎng)柵時(shí)，電暈在玻璃管和網(wǎng)柵之間形成。通過(guò)電暈的氧氣被離子化以生成臭氧。由電暈產(chǎn)生的臭氧可以ilil由電暈，和/或任選的 自^Mm形成的離子風(fēng)擴(kuò)tfctA區(qū)域。如本^^討論的，臭氧的濃度可以 通皿用傳 和，控制的監(jiān)測(cè)，制，以控制預(yù)定濃度不大于本文中闡明 的PEL范圍。在本文公開的特定實(shí)施方案中，相對(duì)、皿水平維持在高于20 % ， 并且在某些實(shí)施方案中維持在70%—90X的7jC平范圍。鵬肖辦ilil加濕器和在特定實(shí)施例中，加壓的和/或加熱的空氣可3IMJ見有的HVAC系統(tǒng)185經(jīng) 由現(xiàn)存的通順統(tǒng)188被供應(yīng)到錢180。相艦，在特定的實(shí)施例中，如果需 要，分離的加熱和擴(kuò)散系統(tǒng)，可以由現(xiàn)存的HVAC系統(tǒng)185提供。^gl80可 以被Sag用于釋^t殺菌劑，例如臭氧，以臭氧氣體的形^iSA區(qū)域190。如本文所述的，臭氧氣鵬度可以在區(qū)域190中被控制在低水平，經(jīng)由湖 提供反饋控娜幾制以控制臭氧氣條區(qū)域190的釋放的任選的傳鵬192到達(dá) 預(yù)定的濃度。臭氧氣體的釋M31設(shè)定點(diǎn)控銅藤194，以本文所討論的方式，可 以Ji3^的，間歇的，和/鋼期性的。圖3為用于凈化區(qū)域250，壁掛式一次性JOT或可以重復(fù)使用系統(tǒng)形式的裝 置200的示意圖。裝置200包括位于外罩220之內(nèi)的殺菌源210，和與外罩220 連接的釋放器230。釋放器230被配置以將預(yù)定濃度的殺菌劑240 ^菌源210 釋方j(luò)(ii入?yún)^(qū)域250，由此殺菌劑240在區(qū)域250中的預(yù)定濃度不皿PEL。當(dāng)殺菌源210為固態(tài)過(guò)氧化物^tl或液態(tài)過(guò)氧化氫溶液時(shí)，外罩220可以 包括用于支持殺菌源210的支,222，且可以為，例如，槽，板，鄉(xiāng)。如圖 所示，夕卜罩220可以包括，例如，金屬支,，例如盤，例如，鋁盤，和用于 加熱殺菌源210皿菌劑以氣體,蒸汽，和/或薄霧形式釋放的任選的加 290。 當(dāng)采用任選的加M 290時(shí)，1M測(cè)器，例如mS計(jì)，可以與外罩220連接 以監(jiān)測(cè)和控制支論的、鵬。殺菌源210可以直接放置在支微222上或內(nèi)。 可選地和任選地，如果殺菌源為固態(tài)過(guò)氧化物絡(luò)^tl,為了提供均勻的固態(tài)過(guò) 氧ib^物的加熱，過(guò)氧化物^物可以被^S在一個(gè)或更多個(gè)位于支持物222 頂部的鋁隔(未顯示)之間。該過(guò)氧化物絡(luò)合物可以用例如商業(yè)上可獲得于Dupont de Nemours&Co.，WilmingtoiO)E的醫(yī)用級(jí)TYVEK，或商業(yè)上可獲得于 Kimberly-Clark Co.,Dallas' TX的SPUNGUARD的氣體可滲3tM覆蓋，由此， 從殺菌源210釋放的殺菌劑240可以通過(guò)釋放器230在擴(kuò)散入?yún)^(qū)域250之前穿 過(guò)M物。如本文所述，殺菌劑240的濃度可以在區(qū)域250中被控制在低tK平，經(jīng)由使 用提供反饋控制系統(tǒng)以控制殺菌劑240釋放的任選的傳感器260到達(dá)預(yù)定的濃 度,如本文所討論的那樣。殺菌劑240的釋Mil設(shè)定點(diǎn)控帝藤270,以本劉/f 討論的方式，可以;K續(xù)的，間歇的，和/或周期性的。如圖所示，^fi200可 以具有其他任選特征，例如使用壽命顯示器280。如圖所示，裝置200可以包含絕緣外罩(未顯示)，從這里可以延伸出標(biāo)準(zhǔn) 壁 件224的^部分226， 228，該插件肖,Aii壁電源插座，如標(biāo)準(zhǔn)120 伏墻壁電源插座，的艦插座中。為了力鵬殺菌源210并釋縣菌劑240，鵬 置200插入到電源的SS^座中以激活電源。在特定的實(shí)驗(yàn)案中，體的電 壓僅在當(dāng)裝置200被插入電源時(shí)應(yīng)用。如果需要，裝置200會(huì)灘用合適的定位 螺釘或配件固定。在本發(fā)明的其他實(shí)施方案中，裝置可以是電池運(yùn)行的。預(yù)期 裝置可以重復(fù)利用，由此當(dāng)殺菌源210用完時(shí)，例如,盒形式的支持物222， 可以被移去或替換。在割《的方面，裝置200可以為當(dāng)殺菌源210用完時(shí)丟棄 的一次性裝置。圖4為用于凈化區(qū)域350，例如單室，連接常規(guī)HVAC系統(tǒng)305的單室形 式的裝置300的示意圖。裝置300包括位于外罩320之內(nèi)的殺菌源310,和與外 罩320連接的釋放器330。釋放器330被配置以將預(yù)定濃度的殺菌劑340從殺菌 源310釋^iaA區(qū)域350，以致區(qū)域350中的殺菌劑340的預(yù)定濃度不TOPEL。 夕卜罩320可以包括用于支持殺菌源310的支持物322，該殺菌源可以是固態(tài) 過(guò)氧化物絡(luò)^或液態(tài)過(guò)氧化氫溶液，任選的加熱器390，如本文所討論的，其 用于加熱殺菌源，M氧發(fā)生裝置，例如本文所闡明的那些裝置。支持物322 可以包括氣體可滲慰卜殼以包裹殺菌源310。在特定的實(shí)施方案中，加壓和/或 加熱的空氣可以通過(guò)現(xiàn)有的HVAC系統(tǒng)305經(jīng)由現(xiàn)有的通風(fēng)系統(tǒng)供應(yīng)到裝置 300中。相應(yīng)地，在特定的實(shí)施方案中，如果需要，分離的加熱和分散系統(tǒng)，可 以由現(xiàn)有的HVAC系統(tǒng)305提供。如圖所示，外罩320可以包括多個(gè)可控的開 口 324以引導(dǎo)空氣流和用于將殺菌齊似氣體，蒸汽，禾卩/或薄霧形微放到區(qū)域350中。相應(yīng)地，釋放器330可以包括，例如，開口324和HVAC系統(tǒng)305的加壓空氣。如本文所述的，殺菌劑340的濃度可以在區(qū)域350中被控制在低水平，經(jīng)由 <頓衝共反饋控制機(jī)制以控制殺菌劑340釋放的任選的傳繊360到達(dá)預(yù)定的 濃度，例如通過(guò)為控制殺菌劑M開口 324的釋放和在區(qū)域350中的殺菌劑340 的濃度而隨的流體控第幡。以本文所討論的方式，殺菌劑340的釋M51設(shè) 定點(diǎn)控制器(未顯示)可以是連續(xù)的，間歇的，和/或周期性的。圖5為用于凈化一個(gè)或更多個(gè)區(qū)域450,連接常規(guī)HVAC系統(tǒng)405的多室形 式的一個(gè)鞭多^h^S400， 500的示意圖。錢400可以包括位于外罩420之 內(nèi)的殺菌源410，和與外罩420相連的釋放器430。釋放器430被配置以M菌 源410釋放預(yù)定濃度的殺菌劑440到區(qū)域450中，由此區(qū)域450中的殺菌劑440 的預(yù)定濃度不艦PEL。夕卜罩420可以包括用于支持殺菌源410的支,422，該殺菌麗以是固態(tài)過(guò)氧化物^t/或液態(tài)過(guò)氧化氫溶液，任選的加熱器490，如本文戶;n寸論的，其用于加熱殺菌源，^J:氧發(fā)生裝置，例如本文所闡明的那些裝置。如圖所示， 釋放器430可以將殺菌劑440以氣體，蒸汽，和/或薄霧的形式釋放到區(qū)域450 中。如上文所討論的，如果需要，加壓和加熱的空氣，可以由現(xiàn)有的HVAC系 統(tǒng)405jlf共。如圖所示，區(qū)域450的一個(gè)或更多個(gè)區(qū)域也可以，或可選池，包括連接到 HVAC系統(tǒng)405的臭氧發(fā)生裝置500，其用于凈化區(qū)域450的第二區(qū)域。 500包括釋放器530，其被配置以以本文所述方辦放預(yù)定濃度的殺菌劑540, 例如臭氧氣體，到區(qū)域450，由此在區(qū)域450中的殺菌劑540的預(yù)定濃度不鵬 PEL。在特定的實(shí)施方案中，加壓和/或加熱的空氣可以通過(guò)現(xiàn)有的HVAC系統(tǒng) 405經(jīng)由現(xiàn)有的通K^統(tǒng)供應(yīng)到裝置500中。相應(yīng)地，在特定的實(shí)M案中，如 果需要，分離的加皿和分散器系統(tǒng)，可以由現(xiàn)有的HVAC系統(tǒng)405提供。在特定的實(shí) 案中，如圖所示，區(qū)域450可以包括一個(gè)或更多個(gè)區(qū)域，并 ^少一個(gè)區(qū)域包括一個(gè)^多^g400, 500由itfc^S 400和皿500或協(xié)同工作以控制區(qū)域450中的殺菌劑水平。例如， 一個(gè)區(qū)域可以只包括體 400，例如加濕器，其控制殺菌劑，例如如本文所提供的，過(guò)氧化氫的水平。第 二區(qū)域可以只包括裝置500,它可以和裝置400相同或不同，例如臭氧發(fā)生器，其控制如本文所提供的臭氧氣體的水平。第三區(qū)域可以包括多于一個(gè)的裝置400 ， 500，它們可以相同或不同，例如，加濕器和臭縱生器。在第三區(qū)域中， 加濕，制區(qū)域中殺菌劑440的水平，臭氧發(fā)生，制殺菌劑540的水平。在 這個(gè)方法中，預(yù)期多個(gè)相同跡同的體400， 500可以在區(qū)域的一個(gè)區(qū)域中共 存，從而肖辦在此產(chǎn)生協(xié)同效果。殺菌劑440 ， 540的濃度可以在區(qū)域450中被控制在低水平，經(jīng)由使用分別 鵬反饋控制系統(tǒng)以控制殺菌劑440 ， 540釋放的任選的傳麟460， 470至lj達(dá) 預(yù)定的濃度。例如，傳麟460可以是過(guò)氧化氫傳繊，傳麟470可以為臭 氧傳感器。如在本文中討論的，采用的傳感器460 ， 470的f(S和它們的方位可 以根據(jù)所需的在鱉個(gè)區(qū)域450中殺菌齊鵬度的均一性而變化。ra于如區(qū)域450 中體400的配置禾啦置的這些因素，預(yù)期釋放器430, 530育灘通過(guò)mbS器 雜制并且被配置使得，例如，在區(qū)域450的齡室中的流體限制器可以獨(dú)立 地控制，以使得基于傳 反饋控制，在特g擇的區(qū)域中可以衝共較高或較 低濃度的殺菌劑440 ， 540。而且，如本文所討論的，在如文本所討論的方法中， 殺菌劑440， 540的釋放如本鄉(xiāng)述Mil設(shè)定點(diǎn)控制器(未顯示)可以是連續(xù) 的，間歇的，禾口/或周期性的。圖6為本發(fā)明的用于凈化區(qū)域650的連接常規(guī)HVAC系統(tǒng)的多室單元形式 的裝置600的示意圖。裝置600可以包括位于外罩620之內(nèi)的殺菌源610，和與 外罩620相連的釋放器630。釋放器630可被lfig以M菌源610釋放預(yù)定濃度 的殺菌劑640到區(qū)域650中，由此區(qū)域650中的殺菌劑640的預(yù)定濃度不皿 PEL。夕卜罩620可以含有殺菌劑610，其如本文所討論的，可以是，例.如，固態(tài)過(guò) 氧化物絡(luò)合物，液態(tài)過(guò)氧化氫溶液，^氧發(fā)生^g。如圖所示，釋放器630 可以將殺菌劑640以氣體，蒸汽，禾0/或薄霧的形式釋放到區(qū)域650中。如果需 要，力B熱和加壓的空氣，可以由現(xiàn)有的HVAC系統(tǒng)605提供，如 所討論的 那樣。如圖所示，錢600可以不需要位于區(qū)域650之內(nèi)，但是，替fW,可 以和現(xiàn)有通風(fēng)系統(tǒng)串聯(lián)。殺菌劑640的濃度可以在區(qū)域650中被控制在本文所闡明的PEL范圍內(nèi)， 經(jīng)由^ffi提供反饋控制機(jī)制以控制殺菌劑640釋放的任選傳 | 660到達(dá)預(yù)定 的濃度。如在本文中討論的，采用的傳自660的數(shù)量和它們的方位可以根據(jù)14所需的在,區(qū)域660中殺菌齊鵬度的均一性而變化。如圖所示，傳 660 可以和現(xiàn)有通風(fēng)系統(tǒng)串聯(lián)，靠近殺菌源，由此殺菌劑的濃度可以均一地被擴(kuò)散 到區(qū)域650的各個(gè)區(qū)域。根據(jù)例如裝置600的Sfig和位置的因素，預(yù)期釋放器 630肖辦通過(guò)微處理鵬制，并且被配置以使得，例如，基于傳 反饋控制， 流體限制器肯娜3妓控制以將較高或較低濃度的殺菌劑640釋駄區(qū)域650。而 且，如本文所討論的，以本文附寸論的方法，殺菌劑640的釋放如本文所艦 艦設(shè)定點(diǎn)控制器670可以^3^續(xù)的，間歇的，禾P/鋼期性的。在圖5和6所 示的實(shí)施方案可以結(jié)合以保證Wf有區(qū)域中想lJ所需的殺菌齊U濃度。如下實(shí)施例中所述的，Milil供低濃度殺菌劑的連續(xù)慢性流體到區(qū)域，傾向 于發(fā)展的區(qū)域中的微生物污染可被減少或基本上消除而不減少或消除設(shè)施停機(jī) 的需要。本文所公開的實(shí)施方案也可以提供相對(duì)于現(xiàn)有凈化系統(tǒng)增加的機(jī)動(dòng)性 和有效性，通過(guò)提供如下選擇將殺菌劑的濃度從本文所述的慢性低濃度極大 的增加到高于PEL的濃度以在一段時(shí)間內(nèi)提供區(qū)域的急性處理。這將需要區(qū)域 在急性處理階段停止^ffi。在lfct后，系統(tǒng)育辦在低慢性濃銜K平再次i^。相應(yīng)地,本發(fā)明公開的實(shí) ^^—種錢和相關(guān)的以低濃度殺菌劑凈化 區(qū)域中微生物的方法，它不需要區(qū)域停iU艮務(wù)。相應(yīng)地，區(qū)域，例如醫(yī)院病房， 當(dāng)其進(jìn)行制七時(shí)，肯灘離i頓或接^^對(duì)頓本發(fā)明可以艦參考以下實(shí)施例一進(jìn)步闡述。下述實(shí)施例僅跡本發(fā)明作出 例示，并不意圖對(duì)其進(jìn)行限定。除非有其他聲明，所有的部分都用重量計(jì)。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1采用，m^合物中釋放的過(guò)氧化氣蒸汽在0.6ppm的極小7K平下進(jìn)行如下 實(shí)驗(yàn)以證明在不銹鋼表面存活的嗜熱脂肪，桿菌(G ^aw^wo/ /1//^)的 孢子的減少。在不鄉(xiāng)解剖刀刀片上接種10nL的含有6xl(^孢子的擬中體。接 種體然后在刀片表面千燥。九個(gè)接種的刀片腿于lft3由丙烯麟喊的密封室 中。在該室中尿素絡(luò)^t/被放置于具有育辦使得該室中的過(guò)氧化物濃度被控制 的流體限制的玻璃管中。三個(gè)同樣被接種的刀片 置在有蓋的培養(yǎng)皿中并且 被置于靠近該室作為對(duì)照。以三天的間隔，三個(gè)刀片和一個(gè)對(duì)照一起從 密封室中取出。這些刀片經(jīng)過(guò)標(biāo)準(zhǔn)修復(fù)，電鍍和接種程序，從中確定存 活的孢子數(shù)和對(duì)數(shù)減少值。對(duì)數(shù)減少值以及在暴露階段的平均，高和低的過(guò)氧化物濃度在表1中顯示。表l對(duì)數(shù)M^、值平均值暴露ai呈中[H2Q2]的 平均濃度，低濃度，高濃度暴露3天后1.50.56 ， 0.40, 0.83 ppm暴露6天后2.70.66 ， 0.40, 0.83 ppm暴露9天后24.80.66， 0.40, 0.95 ppm表1的結(jié)果證明用0.6ppm的極小濃度的過(guò)氧化氫，嗜熱脂肪魏桿菌孢子 每天大約有0.5的對(duì)數(shù)M^、值。嗜熱脂肪魏桿菌孢子具有對(duì)過(guò)氧化氣的最高已 知耐受性。本方法對(duì)于如金黃色葡萄球菌的非孢子形成微生物和甚至對(duì)孢子形 成體船佳梭菌的有效性預(yù)期是更大的。實(shí)施例2為了證明過(guò)氧化氫嗜熱脂肪芽孢桿菌孢子的對(duì)數(shù)減少依賴于過(guò)氧化物的濃 度，如實(shí)施例1中所述制備的解剖刀刀片，被暴露于0.35ppm的極小H2Q2濃度 下。在這種情況下，接種的刀片被,暴露，這導(dǎo)致在暴露過(guò)程中過(guò)氧化物平 均濃度的一些改變。在經(jīng)過(guò)3， 6， 9天的暴露后的對(duì)數(shù)^Mt以及在暴露中的 過(guò)氧化物的平均濃度，高濃度利氐濃度在表2中所示。表2對(duì)數(shù)齢平均值暴露ai呈中[H202]的 平均濃度，低濃度，高濃 度暴露3天后1.120.35,0.2, 0.5ppm暴露7天后1.830.30 ，0.2, 0.5 ppm暴露9天后24.00.39 0.2, 0.6 ppm上面顯示的濃度為^t暴露縱呈中的平均值。如所示的，在0,35ppm的極小濃度下出現(xiàn)一些變化，但是，在表中的數(shù)據(jù)表明更高濃度產(chǎn)生更髙的微生物 殺死率。
本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解能夠?qū)l^的實(shí)施方案作出改變而不脫離本發(fā)明的 范圍。因此，可以理解，本發(fā)明不局限于公開的特定實(shí)施方案，而是如所附的 權(quán)利要求所限定的，意圖1M在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)的修飾。
權(quán)利要求
1.一種凈化區(qū)域的方法，包括將殺菌劑從殺菌源釋放到區(qū)域；控制區(qū)域中的殺菌劑濃度到不超過(guò)允許暴露極限的預(yù)定濃度；和將區(qū)域中的微生物和殺菌劑接觸以凈化該區(qū)域。
2. 權(quán)利要求l的方法，其中釋放以選自氣體，纖，薄霧和它們的任意組合的形式發(fā)生。
3. 權(quán)禾腰求l的方法，其中殺菌齊瞇自過(guò)氧化默口臭氧。
4. 權(quán)利要求l的方法，其中殺菌劑為過(guò)氧化氫且殺菌源選自過(guò)氧化氫溶液和固態(tài)過(guò)氧化物^tio
5. 權(quán)利要求l的方法，其中殺菌劑為臭氧且殺菌源為氧氣。
6. 權(quán)利要求l的方法，其中控制以選自連續(xù)的，間歇的，周期性的或它們的任意組合的頻率發(fā)生。
7. 權(quán)利要求6的方法，進(jìn)一步包M^fii^制的和可手:m擇的設(shè)定點(diǎn)中的至少一種來(lái)調(diào)節(jié)頻率。
8. 權(quán)利要求l的方法，其中區(qū)鵬自房間，辦公室，家，飛豐賜，醫(yī)院設(shè)施，醫(yī)院病房，重癥監(jiān)護(hù)病房，救護(hù)車，手術(shù)室，健身俱樂(lè)部設(shè)施，餐館，實(shí)驗(yàn)室，公共廁所設(shè)施，動(dòng)物設(shè)施，和它們的任意組合。
9. 權(quán)利要求l的方法，其中微生物選自病毒，細(xì)菌繁殖體，真菌，分枝桿菌，細(xì)菌孢子，和它們的任意組合。
10. —種凈化區(qū)域的方法，包括將殺菌劑l殺菌源釋放到區(qū)域；控制區(qū)域中的殺菌劑濃度到不超過(guò)允許暴露極限的標(biāo)準(zhǔn)操作中的預(yù)定水平；為急性凈化增加區(qū)域中的殺菌劑濃度到超過(guò)允許暴露極限的水平一段時(shí)間；禾口將區(qū)域中的微生物和殺菌劑接觸以凈化該區(qū)域。
11. —種用于剩七區(qū)域的體，包括為將預(yù)定濃度的殺菌劑從殺菌源釋放入?yún)^(qū)域使得區(qū)域中的殺菌劑預(yù)定濃度不,允許暴露極限而ssa的釋放器。
12. 權(quán)利要求ll的裝置，其中殺菌劑選自過(guò)氧4^和臭氧。
13. 權(quán)利要求ll的錢，其中殺菌劑為過(guò)氧化氨且殺菌源選自過(guò)氧化氫溶液和固態(tài)過(guò)氧化物M物。
14. 權(quán)利要求ll的體，其中殺菌劑為臭氧且殺菌源為氧氣。
15. 權(quán)利要求ii的體，其中殺菌齊y釋放為選自氣體，總，薄霧和它們的任意組合的至少一種形式。
16. 權(quán)利要求15的裝置，其中殺菌劑M31^自氣體發(fā)生器，薄霧發(fā)生器,加濕器，加熱器，uv—皿裝置，電弧放電，和電暈放電，以及它們的任意組合的機(jī)器產(chǎn)生。
17. 權(quán)利要求ll的裝置，進(jìn)一步包括為調(diào)節(jié)^S的操作到選自連續(xù)的，間歇的，周期性的，和它們的任意組合的頻率而配置的控偉幡。
18. 權(quán)利要求17的錢，其中控帝M配置以M3^imS制的和可手工選擇的設(shè)定點(diǎn)中的至少一種而調(diào)節(jié)頻率。
19. 權(quán)利要求ll的體，進(jìn)一步包括為鵬反饋控制而S3g的傳麟。
20. 權(quán)利要求19的驢，其中傳S^于錢上鵬控地位于區(qū)域內(nèi)。
21. 權(quán)利要求ll的體，其中區(qū)鵬自房間，辦公室，家，飛機(jī)場(chǎng)，醫(yī)院設(shè)施，醫(yī)院病房，重癥監(jiān)護(hù)病房，救護(hù)車，手術(shù)室，健身俱樂(lè)部設(shè)施，餐館，實(shí)驗(yàn)室，公共廁所設(shè)施，動(dòng)物設(shè)施，和它們的任意組合。
22. 權(quán)利要求ll的裝置，其中微生物選自病毒，細(xì)菌繁殖體，真菌，分枝桿菌，細(xì)菌孢子，和它們的任意組合。
23. 權(quán)利要求ll的體，進(jìn)一步包括為控制區(qū)域中殺菌劑濃度而配置的流體控制器。
24. 包括權(quán)利要求ll的裝置的HVAC系統(tǒng)。
25. 權(quán)利要求ll的體，進(jìn)一步包括鵬^Mm。
26. 權(quán)利要求ll的縫，進(jìn)一步包括4柳絲顯示器。
27. —種用于凈化區(qū)域的裝置，包括釋放器，其為將預(yù)定濃度的殺菌劑從殺菌源釋HA區(qū)域以致在標(biāo)準(zhǔn)操作中不超過(guò)允許暴露極限而配置，釋放器進(jìn)一步被配置以為了緊急凈化從殺菌源釋W(xué)i31允許暴露極限的濃度的殺菌劑一段時(shí)間。
全文摘要
提供了通過(guò)低水平濃度殺菌劑的區(qū)域凈化的方法和相關(guān)裝置。該方法包括從殺菌源釋放殺菌劑到區(qū)域，控制在區(qū)域中的殺菌劑濃度到不超過(guò)允許暴露極限的預(yù)定濃度，和將區(qū)域中的微生物和殺菌劑接觸以凈化區(qū)域。該裝置包括為將預(yù)定濃度的殺菌劑從殺菌源釋放入?yún)^(qū)域以致在區(qū)域中的殺菌劑的預(yù)定濃度不超過(guò)允許暴露極限而配置的釋放器。
文檔編號(hào)A61L101/22GK101601864SQ20091020394
公開日2009年12月16日 申請(qǐng)日期2009年4月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月18日
發(fā)明者R·C·小普拉特, R·G·盧卡斯克, 林斯民 申請(qǐng)人:伊西康公司