專(zhuān)利名稱(chēng)：一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種沖擊波發(fā)生器，尤其涉及一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，屬
于醫(yī)療器械技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
市場(chǎng)上體外沖擊波碎石機(jī)使用過(guò)程中，采用電磁式波源所需的主要元件是線(xiàn)圈 和金屬膜片，特別是自聚焦式電磁波源，通過(guò)凹面蝶形線(xiàn)圈產(chǎn)生脈動(dòng)的電磁場(chǎng)，根據(jù)電 磁原理使其相鄰的凹面蝶形金屬膜片產(chǎn)生機(jī)械運(yùn)動(dòng)并通過(guò)水驅(qū)動(dòng)、產(chǎn)生一個(gè)自聚焦的沖 擊波，凹面蝶形線(xiàn)圈與其相鄰的凹面蝶形金屬膜片的相對(duì)位置是產(chǎn)生自聚焦的沖擊波性 能優(yōu)劣、自聚焦點(diǎn)穩(wěn)定的關(guān)鍵所在，也是碎石效果的關(guān)鍵所在。 然而傳統(tǒng)的電磁式波源特別是分體式自聚焦式電磁波源，線(xiàn)圈和金屬膜片均為 分離元件，安裝時(shí)要求極為嚴(yán)格，即使這樣也很難保證線(xiàn)圈與金屬膜片相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)始終 處于最佳位置，由于線(xiàn)圈和金屬膜片是分體式的，金屬膜片每次運(yùn)動(dòng)很難保證一致性， 又勢(shì)必會(huì)發(fā)生位置偏離，偏離的結(jié)果務(wù)必會(huì)導(dǎo)致其自聚焦第二焦點(diǎn)的位置也發(fā)生偏離、 分散不集中即焦點(diǎn)漂移范圍大，直至導(dǎo)致焦點(diǎn)的穩(wěn)定性能差，相對(duì)患者碎石的風(fēng)險(xiǎn)增 大，影響碎石效果。 另外線(xiàn)圈和金屬膜片是分體式的使抽真空的范圍較大，相對(duì)影響真空度的因數(shù) 較多，影響使用壽命的因數(shù)也較多，導(dǎo)致使用壽命降低，不利于臨床使用。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)存在的以上問(wèn)題，提供一種自聚焦電磁式?jīng)_擊 波發(fā)生器。 為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，包括有底座，其上設(shè)有 壓蓋，其中底座上端設(shè)有電磁線(xiàn)圈，電磁線(xiàn)圈的上端設(shè)有金屬膜片，所述底座、電磁 線(xiàn)圈、金屬膜片三者為一體式連接，且底座內(nèi)側(cè)與電磁線(xiàn)圈、金屬膜片三者構(gòu)成弧度一 致的凹形碟面；所述電磁線(xiàn)圈與金屬膜片之間構(gòu)成真空室；底座一側(cè)貫穿有抽真空裝 置，電磁線(xiàn)圈上延伸有高壓端子和低壓端子。 進(jìn)一步地，上述的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，其中，所述凹形碟面的谷 底延伸有抽真空裝置，抽真空裝置的抽真空接口位于底座底端。 更進(jìn)一步地，上述的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，其中，所述的低壓端子 連接至電磁線(xiàn)圈的尾端，高壓端子和低壓端子的端口均位于底座底端。 再進(jìn)一步地，上述的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，其中，所述的底座與壓 蓋之間設(shè)有密封圈，同時(shí)使金屬膜片驅(qū)動(dòng)、產(chǎn)生沖擊波時(shí)運(yùn)動(dòng)自如。 采用本發(fā)明技術(shù)方案，可提高電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器焦點(diǎn)的穩(wěn)定性，大大提高第 二焦點(diǎn)的聚焦性能，降低了患者碎石的風(fēng)險(xiǎn)程度，最終優(yōu)化了其碎石效果。同時(shí)，使用 壽命較現(xiàn)有裝置來(lái)說(shuō)可大大提高，更便利于臨床使用。
本發(fā)明的目的、優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)，將通過(guò)下面優(yōu)先實(shí)施例的非限制性說(shuō)明進(jìn)行圖示 和解釋?zhuān)@些實(shí)施例是參照附圖僅作為例子給出的。


圖1是本自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器的剖面構(gòu)造示意圖。 圖中各附圖標(biāo)記的含義如下 l低壓端子2抽真空接口 3高壓端子4底座 5電磁線(xiàn)圈6金屬膜片 7密封圈 8壓蓋
具體實(shí)施例方式
如圖l所示的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，包括有底座4，其上設(shè)有壓蓋 8，其與眾不同在于所述的底座4上端設(shè)有電磁線(xiàn)圈5，電磁線(xiàn)圈5的上端設(shè)有金屬膜 片6。并且，底座4、電磁線(xiàn)圈5、金屬膜片6三者為一體式連接，底座4內(nèi)側(cè)與電磁線(xiàn) 圈5、金屬膜片6三者構(gòu)成弧度一致的凹形碟面。同時(shí)，所述電磁線(xiàn)圈5與金屬膜片6之 間構(gòu)成真空室。底座4一側(cè)貫穿有抽真空裝置，電磁線(xiàn)圈5上延伸有高壓端子3和低壓 端子l。為了提高電磁線(xiàn)圈5的工作效率，電磁線(xiàn)圈5采用銅材料的導(dǎo)線(xiàn)盤(pán)繞制成凹形碟 面。 進(jìn)一步結(jié)合本發(fā)明一較佳的實(shí)施方式來(lái)看，凹形碟面的谷底延伸有抽真空裝 置，抽真空裝置的抽真空接口 2位于底座4底端。同時(shí)結(jié)合圖l來(lái)看，低壓端子l連接 至電磁線(xiàn)圈5的尾端，高壓端子3和低壓端子1的端口均位于底座4底端。同時(shí)，考慮 到底座4與壓蓋8之間密封性，在期間設(shè)有密封圈7。 在實(shí)際使用過(guò)程中，底座4、電磁線(xiàn)圈5、金屬膜片6三者的一體式設(shè)計(jì)，可保 證電磁線(xiàn)圈5與金屬膜片6在相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)，始終處于最佳位置。這樣，使得金屬膜片6 的每次運(yùn)動(dòng)都位置一致，不會(huì)發(fā)生位置偏離。正是如此，也不會(huì)導(dǎo)致其自聚焦的第二焦 點(diǎn)位置偏離或漂移。確保了其焦點(diǎn)能量集中，增加了焦點(diǎn)的穩(wěn)定性，大大提高第二焦點(diǎn) 的聚焦性能，優(yōu)化了碎石效果。 同時(shí)，依托于線(xiàn)圈和金屬膜片6之間的真空室存在，結(jié)合一體式的設(shè)計(jì)，使得 抽真空范圍僅限于電磁線(xiàn)圈5與金屬膜片6之間，影響真空度的因數(shù)也少，裝置整體的使 用壽命大大提高，更有利于臨床使用。 通過(guò)上述的文字表述并結(jié)合附圖可以看出，采用本發(fā)明后，可提高電磁式?jīng)_擊 波發(fā)生器焦點(diǎn)的穩(wěn)定性，大大提高第二焦點(diǎn)的聚焦性能，降低了患者碎石的風(fēng)險(xiǎn)程度， 最終優(yōu)化了其碎石效果。同時(shí)，使用壽命較現(xiàn)有裝置來(lái)說(shuō)可大大提高，更便利于臨床使 用。 當(dāng)然，以上僅是本發(fā)明的具體應(yīng)用范例，對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍不構(gòu)成任何限 制。除上述實(shí)施例外，本發(fā)明還可以有其它實(shí)施方式。凡采用等同替換或等效變換形成 的技術(shù)方案，均落在本發(fā)明所要求保護(hù)的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，包括有底座，其上設(shè)有壓蓋，其特征在于底座上端設(shè)有電磁線(xiàn)圈，電磁線(xiàn)圈的上端設(shè)有金屬膜片，所述底座、電磁線(xiàn)圈、金屬膜片三者為一體式連接，且底座內(nèi)側(cè)與電磁線(xiàn)圈、金屬膜片三者構(gòu)成弧度一致的凹形碟面；所述電磁線(xiàn)圈與金屬膜片之間構(gòu)成真空室；底座一側(cè)貫穿有抽真空裝置，電磁線(xiàn)圈上延伸有高壓端子和低壓端子。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，其特征在于所述凹形碟面的谷底延伸有抽真空裝置，抽真空裝置的抽真空接口位于底座底端。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，其特征在于所述的低壓端子連接至電磁線(xiàn)圈的尾端，高壓端子和低壓端子的端口均位于底座底端。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，其特征在于所述的底座與壓蓋之間設(shè)有密封圈。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種自聚焦電磁式?jīng)_擊波發(fā)生器，包括有底座，其上設(shè)有壓蓋，特點(diǎn)是底座上端設(shè)有電磁線(xiàn)圈，電磁線(xiàn)圈的上端設(shè)有金屬膜片，所述底座、電磁線(xiàn)圈、金屬膜片三者為一體式連接，且底座內(nèi)側(cè)與電磁線(xiàn)圈、金屬膜片三者構(gòu)成弧度一致的凹形碟面；電磁線(xiàn)圈與金屬膜片之間構(gòu)成真空室；底座一側(cè)貫穿有抽真空裝置，電磁線(xiàn)圈上延伸有高壓端子和低壓端子。由此，提高了第二焦點(diǎn)的聚焦性能，降低了患者碎石的風(fēng)險(xiǎn)程度，且使用壽命較現(xiàn)有裝置來(lái)說(shuō)可大大提高。
文檔編號(hào)A61B17/225GK101690675SQ20091003554
公開(kāi)日2010年4月7日 申請(qǐng)日期2009年9月24日 優(yōu)先權(quán)日2009年9月24日
發(fā)明者孫健康, 張碧航, 王安平, 謝偉民, 馬軍 申請(qǐng)人:蘇州特立醫(yī)療設(shè)備科技有限公司