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消毒裝置的制作方法

文檔序號:1220360閱讀:176來源:國知局
專利名稱:消毒裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及消毒和殺菌裝置。特別地,本發(fā)明涉及用于外科設(shè)備的 消毒和殺菌裝置。
背景技術(shù)
外科設(shè)備例如內(nèi)窺鏡每次在使用前需要清洗和消毒?,F(xiàn)有的清洗和 消毒方法包括將內(nèi)窺鏡放置在相對較大的平底托盤內(nèi)并浸沒在消毒流 體例如戊二醛、二氧化氯、過醋酸、過氧化氫、臭氧或臭氧和超氧化水
中。設(shè)備與消毒流體接觸的時限得到定時并且通過翻倒托盤使液體從托 盤中排出以將流體排入貯存槽或沿水池排出。
這種方法的缺點是在消毒之后排干托盤時存在消毒流體的泄漏或 飛濺。而消毒流體通常是腐蝕性的,并對健康有害以及破壞周圍的消毒 區(qū)域。
第二個缺點是消毒之后使用者無意中的接觸會對設(shè)備帶來污染的 危險。其它缺點包括手動提起和翻倒充滿消毒流體的托盤和相對較重的 設(shè)備的不便以及與采用大容積消毒流體相關(guān)的成本問題。
內(nèi)窺鏡消毒裝置是己知的。常規(guī)裝置需要使用者根據(jù)被消毒設(shè)備的 特定部件暴露在所需的特定消毒流體中的時間掌握準確的程序。另外, 這些裝置不提供對在前消毒程序的自動數(shù)據(jù)記錄以實現(xiàn)質(zhì)量控制跟蹤。
所有的參考文獻,包括在本說明書中引用的任何專利或?qū)@暾堅?此引入作為參考。并不是說任何參考文獻都構(gòu)成現(xiàn)有技術(shù)。參考文獻的論述說明它們的作者所宣稱的內(nèi)容,并且申請人保留質(zhì)疑所引用文獻準 確性和相關(guān)性的權(quán)利。可以清楚地認識到,盡管在此參考了許多現(xiàn)有技 術(shù)的公開出版物,但這些參考并不是承認這些文獻中的任何一個都構(gòu)成 本領(lǐng)域、新西蘭或在任何其它國家中的公知常識的一部分。
認識到術(shù)語"包括"在變化的權(quán)限下可以具有排他或包含的意思。對
于本說明書的意圖,除非另有說明,否則術(shù)語"包括(comprise)"將具 有包含的意思,也就是其被采用以表示不僅包括所列出的直接參考的部 件,而且還包括其它未規(guī)定的部件或元件。這一理論還被用在針對方法 或過程中的一個或多個步驟而采用術(shù)語"包括(comprised)"或"包括 (comprising)"的情形。
本發(fā)明的目的是解決以上問題或者至少是向公眾提供有益的選擇。 從僅僅通過舉例方式給出以下描述中將會清楚地了解到本發(fā)明的 其它方面和優(yōu)點。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一方面,提供一種消毒裝置,包括
由至少一個壁和基底形成的消毒室;以及
由至少一個壁和基底形成的溢出室;
所述消毒裝置其特征在于,消毒室的壁(多個壁)容納在溢出室的 壁(多個壁)內(nèi)。
在優(yōu)選實施方式中,消毒裝置還可以包括排放口和相關(guān)的閥,它們 適配以從消毒室和/或溢出室中排出消毒流體。
在優(yōu)選實施方式中,所述消毒裝置還可以包括排放控制裝置,其被 構(gòu)造成操作排放口打開和關(guān)閉以控制設(shè)備在消毒流體中的暴露時間。
對于本說明書來說,術(shù)語"消毒"或其語法變化指的是通過采用消毒
流體使對象沒有活性微生物例如細菌并在袍子形成細菌的內(nèi)袍子達到6 的對數(shù)降低。
對于本說明書來說,術(shù)語"設(shè)備"或其語法變化指的是設(shè)備部件,例 如內(nèi)窺鏡,以及在使用之前和/或之后需要消毒的相關(guān)聯(lián)的電纜。在優(yōu)選實施方式中,溢出室通過高度比外部基底托盤壁更低的壁與 消毒室隔開。
在優(yōu)選實施方式中,基底托盤其內(nèi)表面的輪廓被設(shè)計成通過接觸裝 置接觸和保持設(shè)備以將設(shè)備基本上固定在基底托盤上方,從而使設(shè)備最 大程度地暴露在消毒流體中。
在優(yōu)選實施方式中,接觸裝置具有突出的輪廓以向基底托盤中的設(shè) 備提供接觸表面。
在優(yōu)選實施方式中,突出的輪廓具有肋和導(dǎo)向突出部。
在優(yōu)選實施方式中,基底托盤的內(nèi)表面預(yù)先得到模制以基本上與待 消毒設(shè)備的總體形狀保持一致。
這樣,每一消毒循環(huán)使用的消毒流體體積最小。
在優(yōu)選實施方式中,排放控制裝置通過夾具、扣環(huán)、插銷、緊固件
或閥操作排放口打開和關(guān)閉。
在優(yōu)選實施方式中,排放控制裝置通過閥操作排放口打開和關(guān)閉。 可以想到在不脫離本發(fā)明范圍的前提下以多種不同的形式制成排
放控制裝置。
在一些實施方式中,排放控制裝置包括連同選擇顯示裝置一起的控 制裝置。例如,控制裝置可以包括小鍵盤并且顯示裝置的形式可以是發(fā) 光二極管、液晶顯示器或類似部件。
在優(yōu)選實施方式中,排放控制裝置包括對消毒循環(huán)各個階段進行定 時并與控制和顯示裝置交互的定時器。
在優(yōu)選實施方式中,排放控制裝置遵照自動超控程序,其中如果不 符合正確的消毒循環(huán)的事件順序,則從消毒室中排出消毒流體。
這樣防止設(shè)備長期與可能具有腐蝕性的消毒流體接觸。
在優(yōu)選實施方式中,排放控制裝置包括CPU或其它處理裝置或邏
輯單元。
在更優(yōu)選的實施方式中,排放控制裝置包括遠程CPU或其它遠程
處理裝置或遠程邏輯單元。
在優(yōu)選實施方式中,排放控制裝置記錄在前消毒循環(huán)的參數(shù)。在更優(yōu)選的實施方式中,排放控制裝置與打印機或通用串行總線
(USB)相連。這樣存儲的記錄參數(shù)可以被傳送到遠程裝置或被打印輸出。
通過這種方式可以實現(xiàn)對在前執(zhí)行的消毒循環(huán)進行跟蹤。 在優(yōu)選實施方式中,排放控制裝置可以包括液位傳感器,使得當優(yōu)
選數(shù)量的消毒流體已經(jīng)被添加到消毒裝置內(nèi)時顯示裝置可以向使用者
提供指示。
在優(yōu)選實施方式中,基底托盤具有通過蓋接合裝置與基底托盤接合
的蓋o
在更優(yōu)選的實施方式中,蓋接合裝置是在蓋的圓周上與基底托盤的 外壁接合的唇緣。
在優(yōu)選實施方式中,蓋在其上表面上具有手柄。
在優(yōu)選實施方式中,托盤的下表面的輪廓被設(shè)計成使得當基底托盤 得到填充并且蓋接合時下表面的一部分可以接觸消毒流體。這樣蓋的一 部分得到消毒并防止在接觸得到消毒的蓋部分時無意中污染得到消毒 的設(shè)備。
在優(yōu)選實施方式中,當蓋與基底托盤接合時蓋不會接觸基底托盤的 內(nèi)壁。
在優(yōu)選實施方式中,基底托盤具有使一個基底托盤能夠與另一基底 托盤接合的托盤接合裝置。
在更優(yōu)選的實施方式中,托盤接合裝置具有繞基底托盤底部圓周的 突出肋,其與蓋和/或另一基底托盤的內(nèi)壁上的相應(yīng)凹部接合。
這樣具有或不具有蓋的基底托盤可以相互上下疊放以在存儲多個 基底托盤時節(jié)省空間。
在優(yōu)選實施方式中,蓋具有使一個蓋能夠與另一蓋接合的蓋接合裝置。
在更優(yōu)選實施方式中,蓋接合裝置是繞蓋底部圓周的突出肋,其與 另一蓋頂部的相應(yīng)凹部接合。
這樣,未連接在基底托盤上的蓋可以相互上下疊放以在存儲多個蓋時節(jié)省空間。
在優(yōu)選實施方式中,基底托盤的外壁具有用于待消毒設(shè)備的電纜的 出口。在更優(yōu)選的實施方式中,用于待消毒設(shè)備的相關(guān)電纜的出口是基 底托盤外壁上的切口。可以想到當不需要切出的出口時可以通過可拆除 地將相應(yīng)突出部插入切出的出口內(nèi)而使該切出的出口得到填充。
在優(yōu)選實施方式中,基底托盤和蓋由塑料制成。
在基底托盤和蓋的構(gòu)造中采用的塑料必須承受所使用的消毒流體
而不發(fā)生降解并且能夠通過高達135°C的高壓鍋進行消毒。
在優(yōu)選實施方式中,基底托盤具有相關(guān)聯(lián)的容器,其可拆卸地連接 在消毒室上,使得其上邊緣低于或與消毒室的上邊緣平齊。在更優(yōu)選的 實施方式中,相關(guān)聯(lián)的容器具有穿孔。這樣向消毒室內(nèi)添加消毒流體也 將對相關(guān)聯(lián)的容器進行填充并且消毒室的排放也將使相關(guān)聯(lián)的容器排 放。
可以想到相關(guān)聯(lián)的容器使與設(shè)備相關(guān)聯(lián)的小部件便于得到消毒并 從基底托盤中取回。
在使用時,消毒流體可以從包括戊二醛、二氧化氯溶液、過醋酸、 過氧化氫溶液、臭氧或臭氧化超氧化水中選擇。
在優(yōu)選實施方式中,消毒流體是二氧化氯溶液。
在更優(yōu)選的實施方式中,在使用前通過添加預(yù)先等分數(shù)量的亞氯酸 鈉和酸性溶液來制備制備二氧化氯溶液。
在優(yōu)選實施方式中,消毒裝置與用于在使用前制備二氧化氯溶液的 壺一起銷售。
這樣當一件設(shè)備定位在消毒裝置中以進行消毒時可以制備準確數(shù) 量的二氧化氯溶液來填充消毒室。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,提供一種用于采用本發(fā)明的消毒裝置對設(shè) 備進行定時消毒的方法,包括以下步驟
1. 執(zhí)行取下消毒裝置的蓋的可選擇步驟;
2. 將設(shè)備放置在消毒裝置中;
3. 向消毒室中的設(shè)備添加消毒流體;4. 操作控制裝置以選擇所需的消毒時間;
5. 從消毒裝置中取出設(shè)備進行使用。 因而,優(yōu)選實施方式具有多個優(yōu)點,包括
降低了消毒流體溢出到消毒裝置外部的危險;
降低了消毒之后通過使用者無意中接觸設(shè)備而導(dǎo)致設(shè)備污染的 危險;
消毒流體使用經(jīng)濟;
提高了待消毒設(shè)備在消毒裝置中運送和存放的便利;
自動超控程序降低了未符合正確消毒循環(huán)的情況下設(shè)備過度暴
露在消毒流體中的危險;
自動控制設(shè)備與消毒流體的接觸時間以避免過處理和所引發(fā)的
破壞;以及
數(shù)據(jù)記錄提供對在前采用的消毒循環(huán)的跟蹤。
本發(fā)明解決了在現(xiàn)有技術(shù)中公認的當在消毒之后排空基底托盤時 消毒流體溢出的問題、出現(xiàn)消毒之后通過使用者無意中的觸摸導(dǎo)致設(shè)備 污染的危險、手動提升和翻倒充滿消毒流體的托盤和相對較重的設(shè)備的 不便、消毒之后運送和存放設(shè)備的不便、與采用大體積消毒流體相關(guān)的 成本提高問題、設(shè)備與消毒流體接觸時間的非自動控制問題以及缺乏對 在前采用的消毒程序的跟蹤問題。


從僅僅通過舉例并參照附圖給出的以下描述中將會清楚地了解到 本發(fā)明的其它方面,圖中
圖1表示具有基底托盤的蓋和接合的排放控制裝置的本發(fā)明消毒裝 置透視圖2表示圖1所示的消毒裝置不具有接合的排放控制裝置的透視
圖3表示圖2所示的消毒裝置具有處于打開位置的基底托盤的蓋的 透視圖;圖4表示圖2所示的消毒裝置的消毒托盤的蓋被取下的平面圖; 圖5表示圖1所示實施方式的消毒裝置的剖面?zhèn)纫晥D; 圖6表示圖2所示實施方式的多個堆疊的消毒裝置的透視圖,以及 圖7表示圖1所示實施方式的消毒裝置的多個疊放的蓋的透視圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在針對圖l-6所示的本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式描述本發(fā)明。應(yīng)
該認識到在不脫離本發(fā)明范圍的前提下本發(fā)明可以與附圖有差異。
參照圖1-6,消毒裝置總體由箭頭1表示并包括具有一體的排放控 制裝置3的基底托盤2。蓋4具有兩個模制手柄5以有助于取下蓋4。 小鍵盤6和內(nèi)部計時器(未示出)形式的控制裝置通過球閥8控制柔性 管7 (標準醫(yī)用吸管)形式的排放口的打開和關(guān)閉。顯示板9形式的顯 示裝置顯示整個消毒循環(huán)過程中的文字信息提示。柔性管7連接在兩個 排放口 10和IOA上,這兩個排放口又與內(nèi)消毒室11和外溢出室12相 連。兩個室通過高度低于基底托盤外壁14的內(nèi)壁13隔開。這樣任何溢 出的消毒流體都被收集在溢出室12中并且不會超過基底托盤2的側(cè)面。
參照圖3和4,消毒室11具有導(dǎo)向件15和肋形式的升高輪廓以及 作為接觸和定位表面的導(dǎo)向件16,用于柔性內(nèi)窺鏡(未示出)形式的設(shè) 備和相關(guān)電纜(未示出),使得在消毒過程中設(shè)備保持在與基底托盤2 具有最小接觸的位置。如果需要,設(shè)備的電纜可以放置在消毒裝置2的 外部。
參照圖5,排放控制裝置3包含對消毒流體的水平面達到填充水位 線18的時刻進行感應(yīng)的液位傳感器17。對排放控制裝置3中的CPU(未 示出)的反饋在顯示板9產(chǎn)生文字提示以警告使用者所需數(shù)量的消毒流 體已經(jīng)添加到內(nèi)消毒室11內(nèi)。
排放控制裝置3中的電機19 (與微動開關(guān)和變速箱聯(lián)合)通過球閥 8的分別脫開或接合能夠使排放口 7打開和關(guān)閉。
蓋4通過蓋接合唇緣20與底座托盤2接合,所述蓋接合唇緣20與 底座托盤2的外壁接合。蓋4的下表面的部分4A的輪廓被設(shè)計成在消毒循環(huán)過程中當?shù)鬃?托盤2充滿并且蓋4接合時接觸消毒流體。這樣,蓋的部分4A得到消 毒并防止在接觸得到消毒的蓋的部分4A時無意中污染消毒設(shè)備。
托盤接合肋21定位在底座托盤2的底部的圓周周圍以與同底座托 盤2的蓋4相關(guān)聯(lián)的凹槽22接合,使得消毒設(shè)備(參見圖6)或蓋4(參 見圖7)可以上下疊放以在不用時節(jié)省空間。
在底座托盤2的外壁14上切出的電纜出口 23使進行消毒的設(shè)備的 電纜可以引出并使消毒裝置1的蓋4在消毒循環(huán)過程中仍然能夠與底座 托盤2接合。
實施例1
下文是采用本發(fā)明的消毒裝置對設(shè)備進行定時消毒所執(zhí)行的工序
1.0消毒裝置制備
1.1取下消毒裝置的蓋;
1.2將排放口通道的一端連接在消毒裝置上;
1.3將排放口通道的另一端連接到消毒流體排放處理的容器或水池
內(nèi);
2.0消毒循環(huán)
2.1按下"ON"按鈕;
2.2排放控制裝置通過交互裝置關(guān)閉排放口;
2.3開始5分鐘定時,直至交互裝置解除;
2.4在顯示板上示出文字信息以提示過程的連續(xù);
2.5設(shè)備被放入底座托盤內(nèi),從而確保其得到準確安放;
2.6在相關(guān)混合壺內(nèi)制備消毒流體;
2.7消毒流體被注入消毒室內(nèi),直至其過流到溢出室內(nèi)(提供對消 毒室適當填充的視覺指示)。另外,當適當容積的消毒流體已經(jīng)添加到 底座托盤內(nèi)時液體傳感器通過報警警告使用者;
2.8開始5分鐘的定時以取消2.3中的定時。文字信息 "STERILISING (消毒進行中)"顯示在顯示板上。
2.9蓋被放在消毒裝置上;2.10在5分鐘之后,通過聲響信號完全解除交互裝置;
2.11在顯示板上示出文字信息"COMPLETE (完成)"; 2.12按下"OFF'按鈕; 2.13交互裝置保持解除;
2.14排放控制裝置記錄數(shù)據(jù)、時間和循環(huán)次數(shù); 2.15排放控制裝置關(guān)閉; 3.0缺省的排放程序
3.1如果從"ON"按鈕被按下后"START"按鈕在5分鐘內(nèi)未被按下;
3.2通過排放控制裝置解除夾具;
3.3在顯示板上示出文字信息"FAIL";
3.4報警聲音持續(xù)5分鐘或直至"0FF"按鈕被按下;
3.5排放控制裝置記錄數(shù)據(jù)、時間和故障;
3.6排放控制裝置關(guān)閉;
3.7使用者可以通過按壓"OFF'按鈕并隨后按壓"ON"按鈕再次啟動 消毒循環(huán);
4.0電池電量警告
4.1在顯示板上顯示電池充電電量;
4.2如果電池電量低,則在顯示板上顯示文字提示"BATTERYLOW (電池電量低)";
4.3如果電池電量不足以維持5個循環(huán),則排放控制裝置將不操作 并且在顯示板上出現(xiàn)文字提示"CHANGE BATTERY (電池充電)"。
已經(jīng)僅通過舉例描述了本發(fā)明的多個方面并且應(yīng)該認識到在不脫 離由附加權(quán)利要求限定的本發(fā)明的范圍的前提下可以對其做出修改和 增加。
權(quán)利要求
1.一種消毒裝置,包括由至少一個壁和基底形成的消毒室;以及由至少一個壁和基底形成的溢出室;所述消毒裝置其特征在于,消毒室的壁容納在溢出室的壁內(nèi)。
2. 如權(quán)利要求1所述的消毒裝置,其特征在于,消毒裝置還包括排放口及其相關(guān)的閥,它們適配以從消毒室和/或溢出室中排出消毒流體。
3. 如權(quán)利要求2所述的消毒裝置,其特征在于,所述消毒裝置還包括排放控制裝置,其被構(gòu)造成操作排放口打開和關(guān)閉以控制設(shè)備在消毒流體中的暴露時間。
4. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,溢出室通過高度比外部基底托盤壁更低的壁與消毒室隔開。
5. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,基底托盤其內(nèi)表面的輪廓被設(shè)計成通過接觸裝置來接觸和保持設(shè)備,以將設(shè)備基本上固定在基底托盤上方,從而使設(shè)備最大程度地暴露在消毒流體中。
6. 如權(quán)利要求5所述的消毒裝置,其特征在于,接觸裝置具有突出的輪廓以向基底托盤中的設(shè)備提供接觸表面。
7. 如權(quán)利要求6所述的消毒裝置,其特征在于,突出的輪廓具有肋和導(dǎo)向突出部。
8. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,基底托盤的內(nèi)表面預(yù)先模制以基本上與待消毒設(shè)備的總體形狀保持一致。
9. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置通過夾具、扣環(huán)、插銷、緊固件或閥操作排放口打開和關(guān)閉。
10. 如權(quán)利要求9所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置通過閥操作排放口打開和關(guān)閉。
11. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置包括具有選擇顯示裝置的控制裝置。
12. 如權(quán)利要求11所述的消毒裝置,其特征在于,控制裝置包括小鍵盤。
13. 如權(quán)利要求11所述的消毒裝置,其特征在于,顯示裝置選自發(fā)光二極管、液晶顯示器或類似部件。
14. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置包括定時器,其對消毒循環(huán)各個階段進行定時并與控制和顯示裝置交互作用。
15. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置遵照自動超控程序,其中如果不符合正確的消毒循環(huán)順序,則從消毒室中排出消毒流體。
16. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置包括CPU或其它處理裝置或邏輯單元。
17. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置包括遠程CPU或其它遠程處理裝置或遠程邏輯單元。
18. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置記錄在先消毒循環(huán)的參數(shù)。
19. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置與打印機或通用串行總線(USB)相連。
20. 如權(quán)利要求3所述的消毒裝置,其特征在于,排放控制裝置包括液位傳感器,使得當優(yōu)選數(shù)量的消毒流體已經(jīng)被添加到消毒裝置內(nèi)時,顯示裝置向使用者提供指示。
21. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,基底托盤具有通過蓋接合裝置與基底托盤接合的蓋。
22. 如權(quán)利要求21所述的消毒裝置,其特征在于,蓋接合裝置是在蓋的圓周上與基底托盤的外壁接合的唇緣。
23. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,蓋具有在其上表面上的手柄。
24. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,托盤的下表面輪廓被設(shè)計成使得當基底托盤得到填充并且蓋接合時下表面的一部分接觸消毒流體。
25. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,當蓋與基底托盤接合時,蓋不會接觸基底托盤的內(nèi)壁。
26. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,基底托盤具有使一個基底托盤能夠與另一基底托盤接合的托盤接合裝置。
27. 如權(quán)利要求26所述的消毒裝置,其特征在于,托盤接合裝置具有繞基底托盤底部圓周的突出肋,其與蓋和/或另一基底托盤內(nèi)壁上的相應(yīng)凹部接合。
28. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,蓋具有使一個蓋能夠與另一蓋接合的蓋接合裝置。
29. 如權(quán)利要求28所述的消毒裝置,其特征在于,蓋接合裝置是繞蓋底部圓周的突出肋,其與另一蓋頂部的相應(yīng)凹部接合。
30. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,基底托盤的外壁具有用于待消毒設(shè)備的電纜的出口。
31. 如權(quán)利要求30所述的消毒裝置,其特征在于,用于待消毒設(shè)備的相關(guān)電纜的出口是基底托盤外壁上的切口。
32. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,基底托盤和蓋由塑料制成。
33. 如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置,其特征在于,基底托盤具有相關(guān)聯(lián)的容器,其可拆卸地連接在消毒室上,使得其上邊緣低f或與消毒室的上邊緣平齊。
34. 如權(quán)利要求33所述的消毒裝置,其特征在于,相關(guān)聯(lián)的容器具有在相關(guān)聯(lián)的容器的壁和/或基底上的穿孔。
35. —種如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置的應(yīng)用,其特征在于,消毒流體選自戊二醛、二氧化氯溶液、過醋酸、過氧化氫溶液、臭氧或臭氧化超氧化水。
36. 如權(quán)利要求35所述的消毒裝置的應(yīng)用,其特征在于,消毒流體是二氧化氯溶液。
37. 如權(quán)利要求36所述的消毒裝置的應(yīng)用,其特征在于,在使用前通過添加預(yù)先等分數(shù)量的亞氯酸鈉和酸性溶液來制備二氧化氯溶液。
38. —種如權(quán)利要求1-3中任一項所述的消毒裝置的成套組件,其特征在于,消毒裝置與用于使用前制備二氧化氯溶液的壺一起銷售。
39. —種用于采用本發(fā)明的消毒裝置對設(shè)備進行定時消毒的方法,包括以下步驟1) 執(zhí)行取下消毒裝置的蓋的可選擇步驟;2) 將設(shè)備放置在消毒裝置中;3) 向消毒室中的設(shè)備添加消毒流體;4) 操作控制裝置以選擇所需的消毒時間;5) 從消毒裝置中取出設(shè)備進行使用。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種消毒和殺菌裝置。特別地,本發(fā)明涉及用于外科設(shè)備的消毒和殺菌裝置。優(yōu)選實施方式與現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的多個優(yōu)點包括降低了消毒流體溢出到消毒裝置外部的危險;降低了消毒之后通過使用者無意中接觸設(shè)備而導(dǎo)致設(shè)備污染的危險;消毒流體使用經(jīng)濟;提高了待消毒設(shè)備在消毒裝置中運送和存放的便利;自動超控程序降低了未符合正確消毒循環(huán)的情況下設(shè)備過度暴露在消毒流體中的危險;自動控制設(shè)備與消毒流體的接觸時間以避免過處理和所引發(fā)的破壞;以及數(shù)據(jù)記錄提供對在前采用的消毒循環(huán)的跟蹤。
文檔編號A61L2/18GK101605565SQ200780011483
公開日2009年12月16日 申請日期2007年8月15日 優(yōu)先權(quán)日2006年8月15日
發(fā)明者馬克·羅伯特·弗勞德費爾 申請人:特里斯特爾有限公司
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