專利名稱：過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種對(duì)醫(yī)療器械進(jìn)行滅菌消毒的裝置，特別涉及一種通過過氧化氫等離子體、環(huán)氧乙烷來低溫滅菌的系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前，醫(yī)院大量貴重高精密儀器以及昂貴導(dǎo)管等醫(yī)療器械，如光學(xué)儀器、各種精密手術(shù)器械以及貴重導(dǎo)管等，都不能用高溫高壓來消毒，而是通過過氧化氫等離子體低溫滅菌爐和環(huán)氧乙烷低溫滅菌爐兩種方式來對(duì)醫(yī)療器械進(jìn)行消毒滅菌。
然而，醫(yī)院通常用過氧化氫等離子體低溫滅菌爐和環(huán)氧乙烷低溫滅菌爐兩臺(tái)爐進(jìn)行滅菌。因此，必須同時(shí)購(gòu)買兩臺(tái)價(jià)格昂貴的爐，大大增加醫(yī)院硬件成本，而且利用率也較低。而且兩臺(tái)爐的占用面積較大。
有鑒于此，提供一種克服以上缺陷的低溫滅菌系統(tǒng)成為目前有待解決的技術(shù)課題。

發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，以降低低溫滅菌系統(tǒng)硬件成本、減小占地面積。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，提供一種過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其包括滅菌艙，其中該滅菌艙通過通氣管路與真空產(chǎn)生裝置、過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置連接，其中該進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置分別通過第一氣流控制裝置和第二氣流控制裝置與該滅菌艙連接，且該第一氣流控制裝置和該第二氣流控制裝置通過通氣管路與溫度控制裝置連接，該系統(tǒng)還包括控制該真空產(chǎn)生裝置、該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、該第一氣流控制裝置、該第二氣流控制裝置來進(jìn)行過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷低溫滅菌功能間切換的切換控制裝置。
所述進(jìn)氣裝置通過兩個(gè)串聯(lián)的第一氣流控制裝置與所述滅菌艙連接；所述殘余氣體處理裝置通過兩個(gè)串聯(lián)的第二氣流控制裝置與所述滅菌艙連接，其中直接與所述進(jìn)氣裝置連接的第一氣流控制裝置與直接與所述殘余氣體處理裝置連接的第二氣流控制裝置與所述溫度控制裝置連接。
所述真空產(chǎn)生裝置為真空泵。
所述過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置包括過氧化氫汽化、電離部分。
所述溫度控制裝置為溫度閉環(huán)控制裝置，包括發(fā)熱元件、溫度檢測(cè)裝置、強(qiáng)制對(duì)流和控制部分。
所述第一氣流控制裝置和該第二氣流控制裝置的形狀構(gòu)造相同，包括閥門、閥門位置檢測(cè)裝置、風(fēng)機(jī)。
所述進(jìn)氣裝置上裝設(shè)有空氣過濾器。
所述切換控制裝置包括微處理器、控制接口、存儲(chǔ)器和軟件模塊。
所述切換控制裝置還包括彩色觸摸屏、打印機(jī)、以太網(wǎng)接口。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)的滅菌艙通過通氣管路與真空產(chǎn)生裝置、過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置連接，其中該進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置分別通過第一氣流控制裝置和第二氣流控制裝置與該滅菌艙連接，且該第一氣流控制裝置和該第二氣流控制裝置通過通氣管路與溫度控制裝置連接，還包括控制該真空產(chǎn)生裝置、該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、該第一氣流控制裝置、該第二氣流控制裝置來進(jìn)行過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷低溫滅菌之間的切換的切換控制裝置。借此，既可通過過氧化氫等離子體來進(jìn)行低溫滅菌，也可通過環(huán)氧乙烷低溫滅菌，從而一機(jī)兩用，以降低低溫滅菌系統(tǒng)硬件成本、減小占地面積。

圖1是具有本實(shí)用新型過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意框圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。
如圖1所示，本實(shí)用新型過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)10包括滅菌艙12。其中該滅菌艙12通過通氣管路18與真空產(chǎn)生裝置11、過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置13、進(jìn)氣裝置16和殘余氣體處理裝置17連接。其中該進(jìn)氣裝置16和殘余氣體處理裝置17分別通過第一氣流控制裝置15A和第二氣流控制裝置15B與該滅菌艙12連接。而且該第一氣流控制裝置15A和該第二氣流控制裝置15B通過通氣管路18與溫度控制裝置14連接。本實(shí)用新型過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)10還包括控制該真空產(chǎn)生裝置11、該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置13、該第一氣流控制裝置15A、該第二氣流控制裝置15B來進(jìn)行過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷低溫滅菌功能間切換的的切換控制裝置，借此，本實(shí)用新型過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)10既可通過過氧化氫等離子體來進(jìn)行低溫滅菌，也可通過環(huán)氧乙烷低溫滅菌，從而一機(jī)兩用，以降低低溫滅菌系統(tǒng)硬件成本、減小占地面積，以下詳細(xì)說明。
作為優(yōu)選方式，該進(jìn)氣裝置16通過兩個(gè)串聯(lián)的第一氣流控制裝置15A與該滅菌艙12連接；該殘余氣體處理裝置17通過兩個(gè)串聯(lián)的第二氣流控制裝置15B與該滅菌艙12連接。其中直接與該進(jìn)氣裝置16連接的第一氣流控制裝置15A與直接與該殘余氣體處理裝置17連接的第二氣流控制裝置15B與該溫度控制裝置14連接。
在本實(shí)施例中，該真空產(chǎn)生裝置11為真空泵，其真空極限為200帕斯卡。該滅菌艙12可使用強(qiáng)度較高的材料如金屬制成，設(shè)計(jì)一個(gè)或多個(gè)門。該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置13包括過氧化氫汽化、電離等部分。該溫度控制裝置14為溫度閉環(huán)控制裝置，包括發(fā)熱元件、溫度檢測(cè)裝置、強(qiáng)制對(duì)流和控制部分。該第一氣流控制裝置15A和該第二氣流控制裝置15B的形狀構(gòu)造相同，包括閥門、閥門位置檢測(cè)裝置、風(fēng)機(jī)等部件。該進(jìn)氣裝置16上裝設(shè)有空氣過濾器，用于吸入空氣。該殘余氣體處理裝置17主要用來吸收分解殘余的環(huán)氧乙烷氣體。該切換控制裝置包括微處理器、控制接口、存儲(chǔ)器和軟件模塊。此外，該切換控制裝置還可包括彩色觸摸屏、打印機(jī)、以太網(wǎng)接口等。
本實(shí)用新型過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)10的工作原理是這樣的當(dāng)用戶選擇過氧化氫等離子體來進(jìn)行低溫滅菌時(shí)，該切換控制裝置將向該第一氣流控制裝置15A和該第二氣流控制裝置15B發(fā)出指令，關(guān)閉相關(guān)的通氣管路18，從而使得該滅菌艙12、該真空產(chǎn)生裝置11、該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置13構(gòu)成一個(gè)滅菌系統(tǒng)，從而讓該過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)10順利完成過氧化氫等離子體低溫滅菌過程，其原理與現(xiàn)有過氧化氫等離子體低溫滅菌原理相同，在此不必贅述。
當(dāng)用戶選擇環(huán)氧乙烷來進(jìn)行低溫滅菌時(shí)，該切換控制裝置向該真空產(chǎn)生裝置11、該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置13發(fā)出指令，關(guān)閉相關(guān)通氣管路；同時(shí)向該第一氣流控制裝置15A和該第二氣流控制裝置15B發(fā)出指令，打開相關(guān)通氣管路18，從而讓該滅菌艙12、該溫度控制裝置14、該進(jìn)氣裝置16、該殘余氣體處理裝置17構(gòu)成一個(gè)滅菌系統(tǒng)，從而讓該過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)10順利完成環(huán)氧乙烷低溫滅菌過程，其原理與現(xiàn)有環(huán)氧乙烷低溫滅菌原理相同，在此不必贅述。當(dāng)環(huán)氧乙烷低溫滅菌過程結(jié)束后，該該殘余氣體處理裝置17吸收分解殘余的環(huán)氧乙烷氣體，從而便于下次滅菌操作。
需要注意的是，以上真空產(chǎn)生裝置11、滅菌艙12、過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置13、溫度控制裝置14、第一氣流控制裝置15A和第二氣流控制裝置15B、進(jìn)氣裝置16、殘余氣體處理裝置17、通氣管路18和切換控制裝置為現(xiàn)有常規(guī)元件。本實(shí)用新型主要特點(diǎn)在于該通氣管路18按照以上方式連接該兩種低溫滅菌系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)既可通過過氧化氫等離子體來進(jìn)行低溫滅菌，也可通過環(huán)氧乙烷低溫滅菌，從而一機(jī)兩用，以降低低溫滅菌系統(tǒng)硬件成本、減小占地面積。
盡管通過以上實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了揭示，但是本實(shí)用新型的范圍并不局限于此，在不偏離本實(shí)用新型構(gòu)思的條件下，以上各元件或構(gòu)造可用所屬技術(shù)領(lǐng)域人員了解的相似或等同元件或構(gòu)造來替換。
權(quán)利要求1.一種過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，包括滅菌艙，其特征在于，該滅菌艙通過通氣管路與真空產(chǎn)生裝置、過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置連接，其中該進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置分別通過第一氣流控制裝置和第二氣流控制裝置與該滅菌艙連接，且該第一氣流控制裝置和該第二氣流控制裝置通過通氣管路與溫度控制裝置連接；該系統(tǒng)還包括控制該真空產(chǎn)生裝置、該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、該第一氣流控制裝置、該第二氣流控制裝置來進(jìn)行過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷低溫滅菌功能間切換的切換控制裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述進(jìn)氣裝置通過兩個(gè)串聯(lián)的第一氣流控制裝置與所述滅菌艙連接；所述殘余氣體處理裝置通過兩個(gè)串聯(lián)的第二氣流控制裝置與所述滅菌艙連接，其中直接與所述進(jìn)氣裝置連接的第一氣流控制裝置與直接與所述殘余氣體處理裝置連接的第二氣流控制裝置與所述溫度控制裝置連接。
3.如權(quán)利要求1或2所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述真空產(chǎn)生裝置為真空泵。
4.如權(quán)利要求1或2所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置包括過氧化氫汽化、電離部分。
5.如權(quán)利要求1或2所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述溫度控制裝置為溫度閉環(huán)控制裝置，包括發(fā)熱元件、溫度檢測(cè)裝置、強(qiáng)制對(duì)流和控制部分。
6.如權(quán)利要求1或2所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述第一氣流控制裝置和該第二氣流控制裝置的形狀構(gòu)造相同，包括閥門、閥門位置檢測(cè)裝置、風(fēng)機(jī)。
7.如權(quán)利要求1或2所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述進(jìn)氣裝置上裝設(shè)有空氣過濾器。
8.如權(quán)利要求1或2所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述切換控制裝置包括微處理器、控制接口、存儲(chǔ)器和軟件模塊。
9.如權(quán)利要求8所述的過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其特征在于，所述切換控制裝置還包括彩色觸摸屏、打印機(jī)、以太網(wǎng)接口。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷兩用低溫滅菌系統(tǒng)，其包括滅菌艙。該滅菌艙通過通氣管路與真空產(chǎn)生裝置、過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置連接。其中該進(jìn)氣裝置和殘余氣體處理裝置分別通過第一、二氣流控制裝置與該滅菌艙連接，且該第一氣流控制裝置和該第二氣流控制裝置通過通氣管路與溫度控制裝置連接。該真空產(chǎn)生裝置、該過氧化氫等離子體產(chǎn)生裝置、該第一、二氣流控制裝置還與切換控制裝置連接，來進(jìn)行過氧化氫等離子體和環(huán)氧乙烷低溫滅菌之間的切換。借此，既可通過過氧化氫等離子體來進(jìn)行低溫滅菌，也可通過環(huán)氧乙烷低溫滅菌，從而一機(jī)兩用，以降低低溫滅菌系統(tǒng)硬件成本、減小占地面積。
文檔編號(hào)A61L2/16GK2925484SQ20062001683
公開日2007年7月25日 申請(qǐng)日期2006年7月5日 優(yōu)先權(quán)日2006年7月5日
發(fā)明者韓思宇 申請(qǐng)人:深圳市安德森醫(yī)療設(shè)備有限公司