專利名稱：用于測(cè)量腳部幾何尺寸的裝置和方法
相關(guān)申請(qǐng)本申請(qǐng)要求1999年11月5日申請(qǐng)的美國60/164,090號(hào)臨時(shí)申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)，該臨時(shí)申請(qǐng)的公開在此引用，作為參考。
2.相關(guān)技術(shù)的說明目前，存在著多種測(cè)量腳部足底輪廓的幾何尺寸的方法。將足底輪廓的準(zhǔn)確測(cè)量用于定制鞋膛底(內(nèi)底)的生產(chǎn)?，F(xiàn)有技術(shù)的方法包含石膏型鑄造、光學(xué)掃描、接觸傳感器測(cè)量以及泡沫壓印塊測(cè)量。這些方法都要求腳處于平面位置。但是，一些象高跟鞋或者其它帶有坡面的鞋，由于使用者身體重量的移動(dòng)，使足底輪廓和腳背變形。因此，利用現(xiàn)有技術(shù)的方法制造的鞋膛底沒有考慮這種變形。而且，這些現(xiàn)有技術(shù)的方法都不適于家用。
光學(xué)掃描方法和接觸傳感器測(cè)量方法需要利用昂貴的設(shè)備。這些方法能夠?qū)δ_部進(jìn)行準(zhǔn)確和全面的測(cè)量。但是，這些方法所需設(shè)備的尺寸、費(fèi)用和復(fù)雜性，使它們不適合在所有地方使用。而且，這些方法不能對(duì)將處于穿入鞋內(nèi)的位置的腳部的幾何尺寸進(jìn)行準(zhǔn)確的測(cè)量。
石膏型鑄造法要求由被測(cè)量人之外的另一個(gè)人完成測(cè)量操作。這種方法能夠?qū)δ_進(jìn)行準(zhǔn)確和全面的測(cè)量，但是很臟亂且耗費(fèi)時(shí)間。因此，石膏型鑄造法不適合家庭使用或者一個(gè)人自己使用。而且，這些方法都不能對(duì)將處于穿入鞋內(nèi)位置的腳部的幾何尺寸進(jìn)行準(zhǔn)確的測(cè)量。
泡沫壓印塊測(cè)量方法和裝置采用容易變形的泡沫塊實(shí)現(xiàn)。一個(gè)人踩在泡沫塊上，在較高壓力的位置將泡沫壓扁。在這一方法中，泡沫塊近似地按照人的足底輪廓的形狀變形。盡管現(xiàn)有的該方法適于家用，但由于下述原因，產(chǎn)生了腳的次最佳特征。首先，泡沫塊從腳跟到腳趾的厚度一致。這就使得腳壓入泡沫時(shí)迫使腳趾向上翹，這是因?yàn)槟_趾在泡沫上的壓力比腳跟到跖骨區(qū)域的壓力小。迫使腳趾向上翹會(huì)引起下面一些問題，如足底筋膜的過度拉伸，正確足弓高度的降低，以及對(duì)前腳和腳跟進(jìn)行不適當(dāng)?shù)臏y(cè)量。第二，在整個(gè)身體重量下，腳部展開狀態(tài)比正常的腳部壓印大。另外，現(xiàn)有技術(shù)中沒有提供腳背測(cè)量的方法。而且，目前的泡沫材料和方法不能準(zhǔn)確地測(cè)量將處于穿入鞋內(nèi)位置時(shí)的腳部的幾何尺寸。
在制造定制鞋膛底時(shí)，使用石膏型鑄造法和泡沫壓印方法也需要利用掃描系統(tǒng)。掃描系統(tǒng)可以直接作用在泡沫或者石膏內(nèi)的負(fù)壓印上。掃描系統(tǒng)直接作用在負(fù)壓印上是本領(lǐng)域公知技術(shù)。這些激光掃描系統(tǒng)包含一個(gè)帶有一光線產(chǎn)生鏡片的激光器。激光器以一個(gè)已知入射角將一束光線投在負(fù)壓印上。一攝影機(jī)讀取在負(fù)壓印上的激光線的位置。另一種方案是掃描系統(tǒng)可以作用在由石膏或者泡沫內(nèi)的負(fù)壓印制成的正面石膏模型上。掃描系統(tǒng)直接作用正壓印上也是公知技術(shù)。美國專利4,876,758號(hào)提供了由針狀傳感器陣列構(gòu)成的這種掃描系統(tǒng)。在任何一種情況下，掃描系統(tǒng)都用于使被測(cè)量輪廓數(shù)字化。將數(shù)字化的輪廓提供到計(jì)算機(jī)控制的銑床。銑床利用數(shù)字化信息制造出與數(shù)字化的輪廓相吻合的特制鞋膛底。因此，本發(fā)明中的裝置和方法提供了更廉價(jià)和更容易為客戶制造特制鞋膛底的方式。
因此，本發(fā)明的目的是提供克服上述局限性的腳部測(cè)量裝置和方法。
本發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一種測(cè)量足底輪廓和腳背的裝置。該裝置帶有一個(gè)泡沫壓印塊和一承載裝置。承載裝置帶有一個(gè)后跟和多個(gè)帶條。泡沫塊具有一個(gè)腳趾厚度，一長度和一腳跟厚度，其中，腳趾厚度比腳跟厚度小。泡沫塊放在承載裝置上，使腳跟厚度和腳跟彼此相鄰。多個(gè)帶條放置在承載裝置上，并且使帶條纏繞腳背，這樣，就可以讀到設(shè)置在每個(gè)帶條上的多個(gè)尺寸刻度。
本發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一種測(cè)量腳部足底輪廓的方法。該方法包括下列步驟(1)將足底輪廓放在一個(gè)置于帶有后跟的承載裝置上的泡沫壓印塊上面，其中，泡沫壓印塊具有一個(gè)腳趾厚度，一長度和一腳跟厚度，腳趾厚度比腳跟厚度小，并且，泡沫塊放置在承載裝置上，使得腳跟厚度和腳跟彼此相鄰；(2)使腳趾與腳趾厚度對(duì)齊；以及(3)將足底輪廓推入泡沫塊而使泡沫塊變形。
本發(fā)明的再一個(gè)目的是提供一種測(cè)量腳部足底輪廓和腳背的方法。該方法包括下列步驟(1)將足底輪廓放在一個(gè)置于帶有后跟和多個(gè)帶條的承載裝置上的泡沫壓印塊上面，其中，泡沫塊具有一個(gè)腳趾厚度，一長度和一腳跟厚度，腳趾厚度小于腳跟厚度，泡沫塊放在承載裝置上，使得腳跟厚度和腳跟彼此相鄰，設(shè)置在承載裝置上的多個(gè)帶條適于纏繞腳部；(2)使腳部的腳趾與腳趾厚度對(duì)齊；(3)將足底輪廓推入泡沫塊，使泡沫塊變形；(4)圍繞腳背纏繞帶條，這樣就可以讀到設(shè)置在每個(gè)帶條上的多個(gè)尺寸刻度；以及(5)記錄由每個(gè)帶條指示的尺寸刻度。
圖3c是腳放在圖3b中容器上的后視圖；圖4是將腳放在

圖1中泡沫塊上的側(cè)面透視圖；圖5是腳使圖1中泡沫塊完全變形的側(cè)面透視圖；圖6是腳從圖1中已變形的泡沫塊移開的側(cè)面透視圖；圖7是腳移開后圖1中已變形的泡沫塊的后面透視圖；圖8是表示腳背測(cè)量實(shí)施例的圖2中已變形泡沫塊的前面透視圖；圖9是表示楔形塊校準(zhǔn)實(shí)施例的圖2中泡沫塊的后面透視圖；圖10a是本發(fā)明第一跖骨支撐實(shí)施例的側(cè)視圖；圖10b是本發(fā)明第二跖骨支撐實(shí)施例的側(cè)視圖；圖11a是將腳放入本發(fā)明雙密度實(shí)施例內(nèi)的后視圖；圖11b是圖11a中雙密度實(shí)施例的側(cè)視圖；圖12是本發(fā)明后跟導(dǎo)向件實(shí)施例的透視圖；圖13是本發(fā)明容器的透明(清晰)實(shí)施例的透視圖；圖14是本發(fā)明掃描標(biāo)記實(shí)施例的頂視圖。
優(yōu)選實(shí)施例的說明參照附圖，特別是附圖1，其中示出一泡沫壓印塊，該泡沫壓印塊用附圖標(biāo)記10總體表示。泡沫塊10由壓力敏感材料制成，當(dāng)人的腳壓入泡沫塊時(shí)，該泡沫塊壓縮?？扇〉氖?，泡沫塊10包含一個(gè)具有低密度、高彎曲模數(shù)(撓曲模量)和低剪切強(qiáng)度的泡沫鑄造材料。因此，泡沫塊10提供了這樣一種材料，該材料容易變形，幾乎沒有或者沒有記憶特性，并且能夠長期保持已變形的形狀。膨脹(發(fā)泡)型酚醛材料例如那些常用的絕緣和超低密度的膨脹型聚苯乙烯適于用作泡沫塊10。在優(yōu)選實(shí)施例中，泡沫塊10是膨脹型酚醛材料。
泡沫塊10的硬度或者密度大約從2到大約25磅每平方英寸(以后標(biāo)為“psi”)。適當(dāng)?shù)呐菽芏鹊倪x擇取決于例如體重、生活方式或者想要的用途(即體育、休閑或者正式)等因素。例如，選擇大約2psi的密度適用鑄造腳在泡沫塊10內(nèi)、人座著的位置，選擇大約5psi密度適用鑄造腳在泡沫塊10內(nèi)、人站立的位置，以及選擇大約10psi的密度適于做下述腳在泡沫塊10內(nèi)的動(dòng)態(tài)鑄造。
如圖1所示，泡沫塊10具有一腳趾厚度14、一腳跟16、一腳跟厚度18和一長度19。在一個(gè)實(shí)施例中，腳趾厚度14和腳跟厚度一樣。在優(yōu)選實(shí)施例中，腳趾厚度14、腳跟厚度18和長度19構(gòu)成楔形的泡沫塊。在此實(shí)施例中，腳趾厚度14小于腳跟厚度18，這就減小了將腳趾壓入泡沫塊10時(shí)人的腳趾向上抬的趨勢(shì)。在第一實(shí)施例中，例如腳跟厚度18在大約20毫米到35毫米的范圍，腳趾厚度14在大約10毫米到大約15毫米的范圍。在優(yōu)選實(shí)施例中，腳跟厚度18是大約35毫米，腳趾厚度14是大約10毫米。
泡沫塊10放在承載裝置21頂上。承載裝置21包含一置于承載裝置底上的腳跟16。腳跟16使承載裝置21具有與女式鞋5相似的形狀。泡沫塊10放在承載裝置21上，使后跟厚度18和腳跟16彼此鄰近。
腳跟16利用泡沫塊10提高人腳部測(cè)量的精度。腳跟16和承載裝置21通過更接近假設(shè)腳穿著理想的鞋時(shí)的腳的位置和形狀進(jìn)行測(cè)量。圖2所示的另一個(gè)腳跟16的實(shí)施例，接近男式鞋的坡面。在這一實(shí)施例中，腳跟16和承載裝置21構(gòu)成一個(gè)整個(gè)容器22。圖3所示的腳跟16的另一個(gè)實(shí)施例接近膠底帆布鞋或者網(wǎng)球鞋的坡面。在這一實(shí)施例中，腳跟16和承載裝置21構(gòu)成整個(gè)容器22。在另一個(gè)實(shí)施例中，泡沫塊10提供了帶有一可調(diào)整高度的腳跟16。腳跟16的高度按照下列情況進(jìn)行調(diào)整(1)腳跟高度小于腳趾高度，給泡沫塊10提供一個(gè)負(fù)斜面；(2)腳跟高度等于腳趾高度，不給泡沫塊10提供斜面；(3)腳跟高度大于腳趾高度，給泡沫塊10提供一個(gè)正斜面。可取的是，使容器22成形為接近看到的鞋底的外部狀態(tài)的形狀。而且，將容器22內(nèi)部做成如圖11a所示的具有相對(duì)底表面22-2大約為90度的側(cè)壁22-1，或者設(shè)有如圖3c所示的相對(duì)其底部22-2有一半徑(倒圓)的側(cè)壁22-1。
在圖3b和3c所示的另外的實(shí)施例中，容器22包含一豎直的導(dǎo)向部分34。該部分34從容器22向上延伸到泡沫塊10水平高度之上。因此，部分34幫助使用者將腳與泡沫塊10對(duì)齊。
在另一個(gè)實(shí)施例中，承載裝置21和/或容器22為泡沫塊10提供彎曲度(撓曲性)。在圖3a所示的實(shí)施例中，承載裝置21包含一偏壓區(qū)段23。偏壓區(qū)段23位于腳跟16和腳趾部分17之間?？扇〉氖?，偏壓區(qū)段23位于腳跟16和腳樞軸點(diǎn)部分13之間。偏壓區(qū)段16在23-1所示位置的使用者重量下彈性地彎曲或者偏壓，并且，在23-2所示位置使用后，偏壓區(qū)段恢復(fù)其原始位置。因此，偏壓區(qū)段23進(jìn)一步改善利用泡沫塊10在處于受重位置的人腳部測(cè)量的準(zhǔn)確度和支承性。在另一個(gè)實(shí)施例中，偏壓區(qū)段23的彎曲量是可調(diào)的。偏壓區(qū)段23的彎曲量或是沿著腳的長度方向，沿著腳的寬度方向調(diào)節(jié)，或是沿著長度和寬度兩者調(diào)節(jié)。
應(yīng)該認(rèn)識(shí)到腳跟16、承載裝置21和/或偏壓區(qū)段23的組合，更接近腳穿著鞋的位置，這種組合包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
下面借助示例，參照?qǐng)D1所示的泡沫塊10的實(shí)施例，說明利用泡沫塊10測(cè)量人腳的足底輪廓的情況。使用者將其一只腳定位在泡沫塊10上方，以其腳趾朝著腳趾厚度14，腳跟朝著腳跟厚度18，同時(shí)沿著圖4所示的箭頭A的方向朝著泡沫塊10移動(dòng)腳。然后，如圖5所示，使用者按照箭頭A所示的方向?qū)⑸眢w重量施加到腳上，直到泡沫塊10充分變形。隨著重量施加到腳上，使用者的腳與穿著鞋的腳的形狀一致，其中所述的鞋的腳跟高度基本上等于腳跟16的高度。因此，泡沫塊10按照假設(shè)穿著鞋的使用者的腳的形狀變形。然后，使用者沿著圖6所示的箭頭B的方向?qū)⒛_從已變形的泡沫塊10移開。圖7所示的呈人腳形狀、已經(jīng)完全變形的泡沫塊10與穿著的鞋的腳的形狀一致。
在本發(fā)明另外的實(shí)施例中，用修改的泡沫塊10進(jìn)行腳背或者腳部頂表面的測(cè)量。這一信息對(duì)于舒適地穿鞋來說經(jīng)常是需要的。一個(gè)“高腳背”的人要穿比較深的鞋，同時(shí)防止人們穿上緊貼配合(擠腳)的鞋中。再者，通過了解指定腳的腳背以及了解特定鞋的內(nèi)部幾何尺寸，就能夠確定鞋是否適于穿著。這一信息在制造特定的足底輪廓時(shí)是很有用的。例如，如果利用本發(fā)明通過測(cè)量了解到在鞋內(nèi)將留出2毫米的余量，就能夠在裁剪足底輪廓時(shí)適應(yīng)這一余量。
如圖8所示，用多個(gè)帶條80標(biāo)識(shí)腳背的特征。每個(gè)帶條80在其頂面上具有多個(gè)標(biāo)識(shí)腳背尺度的刻度81。每個(gè)帶條80都設(shè)置在承載裝置21或者容器22上，并跨過腳的頂部，腳背尺度就可以從刻度81讀取。作為額外的特點(diǎn)，帶條80使泡沫塊10與人腳固定，這樣，人就可以帶著與其腳固定的泡沫塊10走動(dòng)。因此，帶條80能夠?qū)崿F(xiàn)腳的動(dòng)態(tài)鑄造。人走動(dòng)時(shí)身體重量的移動(dòng)和腳部尺寸的變化，由泡沫塊10捕獲。腳的動(dòng)態(tài)鑄造要求泡沫塊10至少具有3psi的密度。
人們經(jīng)常希望調(diào)整腳的位置。例如人們總是希望控制腳部足底輪廓相對(duì)地面的角度，以針對(duì)過度的腳的內(nèi)翻(pronation)、外翻(supination)等腳部缺陷進(jìn)行校正。在圖9所示的泡沫塊10中，還提供了一個(gè)支承件30。支承件30插在泡沫塊10和支承件21之間，以對(duì)腳的內(nèi)翻或外翻或者腿的長度差進(jìn)行校正。另一種方案是，將支承件30插入限定在容器22內(nèi)的槽縫31內(nèi)。在另一個(gè)實(shí)施例中，支承件在承載裝置21/容器22內(nèi)形成。通過更接近假設(shè)腳穿著具有理想的內(nèi)翻或外翻校正值的理想的鞋的腳的位置和形狀，支承件30進(jìn)一步提高了腳部測(cè)量的準(zhǔn)確度。
在另一個(gè)實(shí)施例中，支承件30是在圖10a所示的泡沫塊10下面的跖骨支承件，或者是在圖10b所示的泡沫塊10上面的跖骨支承件。支承件30作為跖骨支承件，利用更非常接近假設(shè)穿著帶有理想的跖骨支承件高度的理想鞋的腳的位置和形狀，能夠進(jìn)一步提高人腳部測(cè)量的準(zhǔn)確度。
在圖11a和11b所示的另一個(gè)實(shí)施例中，根據(jù)泡沫塊10內(nèi)所選擇使用的不同密度的泡沫而提供支承件30。在這一示例中，泡沫塊10包含具有第一密度的區(qū)域10-1和具有第二較低密度的區(qū)域10-2。具有較高密度的區(qū)域10-1確保使用者的腳跟在泡沫塊10中正確定中。利用更非常接近假設(shè)腳正確定中時(shí)的腳的位置和形狀，支承件30進(jìn)一步改善人腳部測(cè)量的準(zhǔn)確度。例如在一優(yōu)選實(shí)施例中，區(qū)域10-1的密度為5psi，區(qū)域10-2的密度為3psi。在該實(shí)施例中，較高密度區(qū)域10-1確保腳正好處于較低密度區(qū)域10-2的中心位置。
應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，支承件30幫助把在泡沫塊10內(nèi)的腳調(diào)整到非常接近腳穿著鞋的正確的位置，這一情況包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
理想的情況是將容器22用在不只一種鞋尺寸上。在支承件30固定在容器22內(nèi)的實(shí)施例中，腳必需在支承件上方適當(dāng)?shù)貙?duì)齊。因而提供有圖12所示的腳跟導(dǎo)向件44。腳跟導(dǎo)向件44能使容器22用于不只一種鞋尺寸。腳跟導(dǎo)向件44適合在容器22的一個(gè)或者多個(gè)位置與容器可移動(dòng)配合，這樣，導(dǎo)向件就可以使使用者的腳在容器內(nèi)進(jìn)行適當(dāng)?shù)亩ㄎ?。在一?yōu)選實(shí)施例中，腳跟導(dǎo)向件22包含柱銷45，容器22包含凹部46。柱銷45適于與凹部46配接，可移動(dòng)地使腳跟導(dǎo)向件44與容器22固定。柱銷45位于導(dǎo)向件22上，凹部46位于容器22上，以利于接近鞋尺寸的理想范圍。
如圖3所示的一種例如毛圈織物布料(絨布，但不局限于這種面料)的薄的順從的介質(zhì)85，放在泡沫塊10的頂面上。腳壓入毛圈織物介質(zhì)85內(nèi)，該毛圈織物介質(zhì)進(jìn)而壓縮泡沫塊10。順從介質(zhì)85起到防止任何泡沫塊10粘著使用者的腳的作用。
通常希望在存在問題處，例如在跖骨頭處的腳的底部上標(biāo)記特定的點(diǎn)。在這種情況下，希望容器22具有圖13所示的光學(xué)透明(清晰)材料。可選擇的是，只在容器22的一部分例如底面22-2上有光學(xué)透明材料?？扇〉氖?，透明容器22包含一置于其上的參考柵格60?？蛇x擇的是，參考柵格60是一種哈瑞斯(Harris)柵網(wǎng)、足部條形圖(a pedo bar graph)、一種與計(jì)算機(jī)顯示軟件有關(guān)的用于校正或者類似用途的柵格。因此，透明容器22能讓使用者從容器22移走泡沫塊10，將他們的腳放在參考柵格60上，并精確地標(biāo)識(shí)出存在的問題點(diǎn)。
如上所述，由泡沫塊10測(cè)量的足底輪廓經(jīng)常用于定制鞋膛底的生產(chǎn)中。將泡沫塊10上的輪廓轉(zhuǎn)換為特制鞋膛底的過程，經(jīng)常需要使用掃描儀，使從泡沫塊10直接得到的輪廓數(shù)字化。在這種情況下，就希望承載裝置21和/或容器22包含一個(gè)或者多個(gè)圖12和14中所示的掃描參考標(biāo)記33。標(biāo)記33幫助光學(xué)掃描儀快速、準(zhǔn)確的對(duì)準(zhǔn)容器和被測(cè)量的足底輪廓的中心。
可選擇的是，容器22和/或承載裝置21包含將泡沫塊10固定在其中的機(jī)構(gòu)。例如，在第一實(shí)施例中，用一粘接劑將泡沫塊10固定在容器22內(nèi)。在另一個(gè)實(shí)施例中，容器22內(nèi)形成有刻痕70(如圖10a所示)或者槽縫71(如圖10b所示)。在泡沫塊變形之前，刻痕70和/或槽縫71允許移走泡沫塊10。但是，一旦使用者使泡沫塊變形，泡沫塊10膨脹進(jìn)入刻痕70和/或槽縫71內(nèi)，就將泡沫塊固定在容器22內(nèi)。
可以理解，上面的描述只是為了說明本發(fā)明。本領(lǐng)域技術(shù)人員可在不偏離本發(fā)明的情況下作出各種替換和修改方案。因此，本發(fā)明所包含的所有這些替換、修改和改變方案，都落在所附的權(quán)利要求的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種測(cè)量足底輪廓的裝置，包含一具有一前部和一后部的泡沫壓印塊；以及一包含用于調(diào)節(jié)高度的裝置的承載裝置，其中，所述泡沫塊與所述承載裝置相連，使所述高度調(diào)節(jié)裝置或者與該后部鄰近、或者與該前部鄰近。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征是所述前部具有一腳趾厚度，所述后部具有一腳跟厚度，并且所述腳趾厚度小于所述腳跟厚度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征是所述泡沫塊是膨脹的酚醛泡沫。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征是所述腳跟厚度在從大約20毫米到大約35毫米的范圍，所述腳趾厚度在從大約10毫米到大約15毫米的范圍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征是所述高度調(diào)節(jié)裝置能夠?qū)λ雠菽瓑K提供一斜面，所述斜面處于這樣一個(gè)范圍內(nèi)，即在所述高度調(diào)節(jié)裝置鄰近后部的正斜面到所述高度調(diào)節(jié)裝置鄰近前部的負(fù)斜面的范圍內(nèi)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征是所述承載裝置和所述高度調(diào)節(jié)裝置形成一個(gè)整體容器。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征是所述整體容器呈鞋底形式。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征是所述整體容器具有相對(duì)其底面大約為90度的側(cè)壁。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝置，其特征是所述整體容器具有相對(duì)其底面具有一半徑的側(cè)壁。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征是至少所述整體容器的底部是透明的。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的裝置，其特征是所述底部還包含一適于精確地標(biāo)記足底輪廓辨別點(diǎn)的參考柵格。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征是所述承載裝置還包含一偏壓區(qū)段，其適于在使用中彎曲或者偏壓，這樣，所述泡沫塊能夠提高足底輪廓的測(cè)量精度。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其特征是所述偏壓區(qū)段的彎曲量是可調(diào)整的。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的裝置，其特征是所述偏壓區(qū)段位于所述高度調(diào)節(jié)裝置和所述承載裝置的樞軸點(diǎn)部分之間。
15.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征是還包含連接所述泡沫塊和所述承載裝置的連接裝置。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其特征是所述的連接裝置是粘接劑。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其特征是所述連接裝置是在所述容器內(nèi)的至少有一個(gè)槽縫。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其特征是所述連接裝置是在所述容器內(nèi)至少有一個(gè)刻痕。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的裝置，其特征是所述連接裝置是一種在所述泡沫塊和所述容器之間的壓配合。
20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征是還包含用于控制足底輪廓的裝置。
21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的裝置，其特征是所述控制裝置是一個(gè)在所述泡沫塊和所述承載裝置之間的楔形件。
22.根據(jù)權(quán)利要求20所述的裝置，其特征是所述控制裝置是一個(gè)在所述泡沫塊和所述承載裝置之間的跖骨支承件。
23.根據(jù)權(quán)利要求20所述的裝置，其特征是所述控制裝置是一個(gè)在所述泡沫塊上的跖骨支承件。
24.根據(jù)權(quán)利要求20所述的裝置，其特征是所述控制裝置包含一具有第一密度的所述泡沫塊的第一區(qū)域和具有第二密度的所述泡沫塊的第二區(qū)域。
25.根據(jù)權(quán)利要求24所述的裝置，其特征是所述第一密度低于所述第二密度。
26.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征是還包含設(shè)置在其上的至少一個(gè)掃描參考裝置，用于幫助光學(xué)掃描儀使所述泡沫塊處于掃描區(qū)域的中心。
27.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征是所述容器還包含設(shè)置在其上的豎直導(dǎo)向件，用于將使用者的腳導(dǎo)入所述泡沫塊內(nèi)。
28.一種用于測(cè)量足底輪廓和腳背的裝置，包含一帶有一前部和一后部的泡沫壓印塊；一包含承載裝置和高度調(diào)節(jié)裝置的容器；以及至少一個(gè)設(shè)置在所述容器上且適于纏繞腳背的帶條；其特征是所述泡沫塊與所述承載裝置相連，使得所述高度調(diào)節(jié)裝置或者與該前部鄰近、或者與該后部鄰近。
29.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述前部具有一前部厚度，所述后部具有一后部厚度，并且，所述前部厚度小于所述后部厚度。
30.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述至少一個(gè)帶條包含多個(gè)設(shè)置在其上的尺寸刻度，這樣，當(dāng)所述至少一個(gè)帶條纏繞腳背時(shí)，可以讀出所述尺寸刻度。
31.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述泡沫塊是膨脹的酚醛泡沫。
32.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述后部厚度在從大約20毫米到大約35毫米的范圍內(nèi)，所述前部厚度在從大約10毫米到大約15毫米的范圍內(nèi)。
33.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述高度調(diào)節(jié)裝置能夠?qū)λ雠菽瓑K提供一斜面，所述斜面處于這樣一個(gè)范圍內(nèi)，即在所述高度調(diào)節(jié)裝置鄰近后部的正斜面到所述高度調(diào)節(jié)裝置鄰近前部的負(fù)斜面的范圍內(nèi)。
34.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述容器呈鞋底形式。
35.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是至少所述容器的底部是透明的。
36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的裝置，其特征是所述底部還包含一適于精確地標(biāo)記足底輪廓辨別點(diǎn)的參考柵格。
37.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述承載裝置還包含一偏壓區(qū)段，其適于在使用中彎曲或者偏壓，這樣，所述泡沫塊能夠提高足底輪廓的測(cè)量精度。
38.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是還包含連接所述泡沫塊和所述承載裝置的連接裝置。
39.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是還包含用于控制足底輪廓的裝置。
40.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其特征是所述控制裝置是一個(gè)在所述泡沫塊和所述承載裝置之間的楔形件。
41.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其特征是所述控制裝置是一個(gè)在所述泡沫塊和所述承載裝置之間的跖骨支承件。
42.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其特征是所述控制裝置是一個(gè)在所述泡沫塊上的跖骨支承件。
43.根據(jù)權(quán)利要求39所述的裝置，其特征是所述控制裝置為一具有第一密度的所述泡沫塊的第一區(qū)域和具有第二密度的所述泡沫塊的第二區(qū)域。
44.根據(jù)權(quán)利要求43所述的裝置，其特征是所述第一密度低于所述第二密度。
45.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是還包含設(shè)置在其上的至少一個(gè)掃描參考裝置，用于幫助光學(xué)掃描儀使所述泡沫塊處于掃描區(qū)域的中心。
46.根據(jù)權(quán)利要求28所述的裝置，其特征是所述容器還包含設(shè)置在其上的豎直導(dǎo)向件，用于將使用者的腳導(dǎo)入所述泡沫塊內(nèi)。
47.一種測(cè)量腳部足底輪廓的方法，包含將足底輪廓放在與帶有高度調(diào)節(jié)裝置的承載裝置連接的泡沫壓印塊上面，其中，所述泡沫塊具有一前部和一后部，所述泡沫塊與所述承載裝置相連，使得所述調(diào)節(jié)裝置或者與該前部鄰近、或者與該后部鄰近；使腳部腳趾與所述前部對(duì)齊；以及將足底輪廓推入所述泡沫塊，使所述泡沫塊變形。
48.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法，其特征是所述前部具有一前部厚度，所述后部具有一后部厚度，并且所述前部厚度小于所述后部厚度。
49.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法，還包含通過至少一條與所述承載裝置相連的帶條，將所述泡沫塊與腳部固定；以及帶著與腳部固定的所述泡沫塊一起走動(dòng)，形成足底輪廓的動(dòng)態(tài)鑄造。
50.根據(jù)權(quán)利要求47所述的方法，還包含插入裝置，用于在將足底輪廓放在所述泡沫壓印塊上之前，控制所述泡沫塊和所述承載裝置之間的足底輪廓。
51.一種測(cè)量腳部足底輪廓和腳背的方法，包含將足底輪廓放在置于帶有高度調(diào)節(jié)裝置以及至少一個(gè)帶條的承載裝置上的泡沫壓印塊上面；其特征是所述泡沫塊具有一前部和一后部，所述泡沫塊與所述承載裝置相連，使得所述調(diào)節(jié)裝置或者與所述前部鄰近或者與所述后部鄰近，并且所述至少一個(gè)帶條適于纏繞腳背；使腳部腳趾與所述前部對(duì)齊；以及將足底輪廓推入所述泡沫塊，使所述泡沫塊變形；用所述至少一個(gè)帶條纏繞腳背，這樣，就可以讀出設(shè)置在所述至少一個(gè)帶條上的多個(gè)尺寸刻度；以及記錄由所述至少一個(gè)帶條所指示的所述尺寸刻度。
52.根據(jù)權(quán)利要求51所述的方法，其特征是所述前部的厚度小于所述后部的厚度。
53.根據(jù)權(quán)利要求51所述的方法，還包含通過所述至少一個(gè)帶條，將所述泡沫塊與腳部固定；以及帶著與腳部固定的所述泡沫塊一起走動(dòng)，形成足底輪廓的動(dòng)態(tài)鑄造。
54.一種制造定制的鞋膛底的方法，包含通過將足底輪廓放在與帶有高度調(diào)節(jié)裝置的承載裝置相連的泡沫壓印塊上來測(cè)量腳部的足底輪廓，泡沫塊具有一前部區(qū)段和一后部區(qū)段；使腳部腳趾與前部區(qū)段對(duì)齊；將足底輪廓推入泡沫塊，使泡沫塊變形；利用一掃描儀使由已變形的泡沫塊提供的足底輪廓數(shù)字化；給計(jì)算機(jī)控制的銑床提供數(shù)字化的足底輪廓；以及指示計(jì)算機(jī)控制的銑床利用數(shù)字化輪廓生產(chǎn)出定制的鞋膛底。
55.根據(jù)權(quán)利要求54所述的方法，其特征是該前部區(qū)段比該后部區(qū)段厚。
56.根據(jù)權(quán)利要求54所述的方法，其特征是，測(cè)量足底輪廓還包含通過至少一個(gè)與承載裝置相連的帶條，使泡沫塊與腳部固定；以及帶著與腳部固定的所述泡沫塊一起走動(dòng)，形成足底輪廓的動(dòng)態(tài)鑄造。
57.根據(jù)權(quán)利要求54的所述的方法，其特征是，測(cè)量足底輪廓還包含插入裝置，用于控制在泡沫塊和承載裝置之間的足底輪廓。
全文摘要
一種具有泡沫壓印塊(10)和承載裝置(21)測(cè)量足底輪廓的裝置和方法。該裝置具有一個(gè)包含一前部(14)和一后部(18)的泡沫壓印塊以及包含一高度調(diào)節(jié)器的承載裝置。泡沫塊與承載裝置相連,使得該后部與高度調(diào)節(jié)器彼此相鄰。
文檔編號(hào)A61B5/107GK1387415SQ00815000
公開日2002年12月25日 申請(qǐng)日期2000年11月2日 優(yōu)先權(quán)日1999年11月6日
發(fā)明者T·G·塔迪 申請(qǐng)人:阿莫菲特公司