本申請要求于2014年9月30日提交的第62/058,062號美國臨時(shí)申請的權(quán)益，該美國臨時(shí)申請通過引用包含于此。

本公開總體上涉及紫外輻射，更具體地，涉及一種針對利用可移動(dòng)紫外輻射源的方案。

背景技術(shù)：

衛(wèi)生和生物物品(諸如食品)的可靠和衛(wèi)生儲存是重要問題。例如，該問題存在于整個(gè)食品行業(yè)例如制造商、零售商、餐館以及在每個(gè)家庭中，并且對餐飲服務(wù)場所尤其顯著，其中食品質(zhì)量控制的相關(guān)問題也顯著。除了在容易獲得電的固定位置(例如，冰箱)中的食品儲存和質(zhì)量控制之外，在諸如野餐、露營、流動(dòng)食品亭、款待或戰(zhàn)場用餐地點(diǎn)、搜索與營救等無法獲得不受限制的電和/或諸如冰箱的穩(wěn)定的儲存設(shè)備的場合下適當(dāng)?shù)氖称穬Υ婧唾|(zhì)量控制也是重要的。除了食品之外，其它被儲存的物品也需要衛(wèi)生的儲存。例如，醫(yī)療和化學(xué)設(shè)備、建筑木材等也需要在生物安全的環(huán)境中儲存。由于環(huán)境溫度顯著地影響細(xì)菌活性，因此對環(huán)境溫度的有效控制對于確保各種物品的可靠、衛(wèi)生儲存是重要的手段。

新鮮的食品產(chǎn)品可利用紫外光作為殺滅病原體(germicidal)的介質(zhì)來進(jìn)行處理，以減少食品滋生的微生物負(fù)荷(microbialload)。已經(jīng)有相當(dāng)一段時(shí)間用紫外光來處理水，以提供安全的飲用水。能夠通過系統(tǒng)被泵送的水果和蔬菜產(chǎn)品通常都非常適合通過紫外光處理，以減少微生物負(fù)荷。如今，這些產(chǎn)品中的大部分都被巴氏滅菌，以獲得微生物安全且有營養(yǎng)的產(chǎn)品。然而，因?yàn)闇囟群吞幚頃r(shí)間，巴氏滅菌會(huì)改變此類產(chǎn)品的味道和風(fēng)味。不同來源的果汁可通過暴露于不同劑量的紫外光來處理。另一方面，在其它變量之中，需要研究諸如曝光時(shí)間、水果產(chǎn)品的類型、果汁顏色和果汁成分的變量，以獲得具有減少的微生物負(fù)荷、增加的保質(zhì)期以及適當(dāng)?shù)母泄俸蜖I養(yǎng)特性的水果產(chǎn)品。還正在研究針對除了液體之外的食品產(chǎn)品，通過將紫外光應(yīng)用作為殺菌(disinfection)介質(zhì)來減少微生物負(fù)荷。此外，作為替代熱處理或應(yīng)用抗微生物化合物的替代技術(shù)，紫外技術(shù)可以是液體的巴氏滅菌或固體食品的殺菌的來源。

uv-c光(紫外光-c波段)的抗微生物(microbial)性質(zhì)是科學(xué)家所熟知的，并且自從20世紀(jì)30年代以來已經(jīng)用于殺死包含dna和rna的病原體(germ)(包括細(xì)菌、病毒、真菌和霉菌)。uv-c光對于人眼是不可見的。雖然uv-c光是不可見的，但是給定足夠的強(qiáng)度和曝光，uv-c光可以殺死大多數(shù)導(dǎo)致人類和動(dòng)物疾病的病原體(germ)。uv-c光可破壞病原體(pathogen)(致病細(xì)菌、病毒、霉菌等)的dna和/或rna(遺傳物質(zhì))。一旦病原體中的dna被破壞，病原體被殺死或滅活(deactivate)；病原體不能再正常發(fā)揮功能；并且病原體不能再繁殖。

通常，紫外(uv)光分類為三個(gè)波長范圍：uv-c，從大約200納米(nm)至大約280nm；uv-b，從大約280nm至大約315nm；uv-a，從大約315nm至大約400nm。通常，紫外光，尤其uv-c光是“殺菌性的(germicidal)”，即，其使細(xì)菌、病毒和其它病原體的dna滅活，因此破壞它們的繁殖和引起疾病的能力。這有效地導(dǎo)致對微生物(microorganism)的殺滅(sterillization)。具體來說，uv-c光通過在dna中的某些相鄰基之間形成共價(jià)鍵而引起對微生物的核酸的損壞。這些鍵的形成防止dna“解鏈”用于復(fù)制，該生物體既不能夠產(chǎn)生用于生命過程必需的分子，也不能夠繁殖。事實(shí)上，當(dāng)生物體不能夠產(chǎn)生這些必需的分子或者不能夠復(fù)制時(shí)，它就死亡。具有近似在大約250nm至大約280nm之間的波長的uv光提供最高的殺滅病原體(germicidal)的效力。盡管對uv光的敏感性不同，但大約20毫瓦特-秒/cm²至大約34毫瓦特-秒/cm²的uv能量的曝光足以使接近99％的病原體滅活。

已經(jīng)設(shè)法使用各種方法以使用紫外光對隔間(諸如冰箱中設(shè)立的隔間)進(jìn)行殺菌。例如，一種方法提出利用冰箱的標(biāo)準(zhǔn)電路來給uv光源供電的多個(gè)小的低電流uv光。另一方法使用安裝在冰箱頂部中的uv燈和整個(gè)內(nèi)部的反射襯里在整個(gè)隔間中反射uv輻射。另一方法提供具有附連到冰箱內(nèi)部側(cè)壁的單個(gè)uv源的uv系統(tǒng)，以把光輻射到整個(gè)隔間，或者可選擇地，向有限的隔間提供uv曝光。又一方法提出用于冰箱的內(nèi)部隔間的空氣凈化器，該空氣凈化器利用uv過濾器以減少再循環(huán)的空氣中的病原體。又一方法提供具有uv光照射組件的冰箱，以避免來自其中所包含的儲存容器的低強(qiáng)度光(low-levellight)，以提升食品的新鮮度。

盒式uv殺菌器因用在對包括隱形眼鏡、梳子和安全護(hù)目鏡的所有方式的物體殺菌而公知。通常在這些殺菌器中僅采用單個(gè)輻射源，這樣，在待殺菌的物體上經(jīng)常存在從由單個(gè)源產(chǎn)生的uv輻射遮蔽的區(qū)域。另外，待殺菌的物體在殺菌過程中常常需要擱置在支撐物上。當(dāng)支撐物對uv輻射不透明時(shí)，支撐物也有助于從uv輻射遮蔽待殺菌的物體。

已經(jīng)通過使用紫外光在給表面去污中使用各種方法。一種方法包括用于給房間的墻壁和天花板去污的移動(dòng)殺滅病原體系統(tǒng)，其中殺滅病原體燈鄰近墻壁和/或天花板放置，從而對表面進(jìn)行殺菌。另一種方法提出了一種用于連接到空氣處理管道的紫外空氣殺菌設(shè)備，為了當(dāng)空氣流過管道時(shí)對空氣進(jìn)行殺菌目的。又一方法描述了具有手柄的輪式托架，以允許操作者在地板上移動(dòng)殺菌設(shè)備。其它方法試圖提供一種用于跨過表面移動(dòng)以消除其上的不期望的元件的手持式設(shè)備，利用紫外光對表面殺菌的移動(dòng)殺菌設(shè)備和方法；用于使用發(fā)射紫外光的棒來使環(huán)氧樹脂材料硬化的uv點(diǎn)固化系統(tǒng)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

許多利用紫外輻射的先前方案包括諸如反射器的光學(xué)元件，以將紫外光引導(dǎo)到期望的位置，諸如引導(dǎo)到需要?dú)⒕谋砻嫔?。然而，發(fā)明人認(rèn)識到，由于紫外輻射的通常大的吸收率，使用這樣的光學(xué)元件會(huì)顯著地降低系統(tǒng)的總體效率。另外，擴(kuò)散的紫外光會(huì)被不需要?dú)⒕谋砻?諸如放置有需要?dú)⒕奈锲返娜萜鞯谋?吸收。其它應(yīng)用還可以包括能夠相對于紫外源的位置移動(dòng)的表面，其因此給出了有關(guān)將紫外輻射聚焦到表面上用于表面的各種可能位置的挑戰(zhàn)。

發(fā)明人提供了一種用于使用紫外輻射來處理(例如，殺菌和/或保存等)儲存區(qū)域內(nèi)的儲存物品的方案。例如，實(shí)施例被構(gòu)造為將紫外輻射聚焦在指向待處理的物體的表面的光束中?？梢愿鶕?jù)在監(jiān)測例如表面上的生物活性同時(shí)獲取的反饋數(shù)據(jù)或者根據(jù)需要處理的物品的位置來調(diào)整光束的運(yùn)動(dòng)。實(shí)施例被構(gòu)造為監(jiān)測存儲區(qū)域內(nèi)的可生物降解的物品和/或其它可消耗的物品，并且確定和施加目標(biāo)量的紫外輻射或者確定和應(yīng)用紫外光束的特定運(yùn)動(dòng)，以對物品進(jìn)行保存和/或殺菌，而不影響物品的質(zhì)量。實(shí)施例可以在各種類型的存儲環(huán)境中的任何類型中實(shí)現(xiàn)，諸如在冰箱、食品儲存室、可重復(fù)使用的食品雜貨袋、冷卻器、盒子、生物物品儲存容器和/或無菌物品儲存容器等中實(shí)現(xiàn)。

發(fā)明的方面提供了一種用紫外輻射處理表面的方案?？梢苿?dòng)紫外線源用于發(fā)射具有比待處理的表面的區(qū)域小的特征剖面區(qū)域的紫外輻射光束?？梢苿?dòng)紫外線源可以根據(jù)需要移動(dòng)，以用紫外輻射光束的特征剖面區(qū)域內(nèi)的輻射來直接照射所述表面的任意部分。運(yùn)動(dòng)可包括例如旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和/或相對于表面重新定位可移動(dòng)紫外源。

發(fā)明的第一方面提供了一種容器，所述容器包括：至少一個(gè)物體，具有作為被處理的目標(biāo)的表面；可移動(dòng)紫外源，其中，可移動(dòng)紫外源發(fā)射具有比表面的區(qū)域小的特征剖面區(qū)域的紫外輻射光束；用于移動(dòng)可移動(dòng)紫外源的裝置(means)，以用紫外輻射光束的特征剖面區(qū)域內(nèi)的輻射來照射所述表面的任意部分。

發(fā)明的第二方面提供了一種處理設(shè)備，所述處理設(shè)備包括：可移動(dòng)紫外源，其中，可移動(dòng)紫外源發(fā)射具有比待處理的表面的區(qū)域小的特征剖面區(qū)域的紫外輻射光束；以及用于移動(dòng)可移動(dòng)紫外源的裝置，以用紫外輻射光束的特征剖面區(qū)域內(nèi)的輻射來照射所述表面的任意部分。

發(fā)明的第三方面提供一種外殼，所述外殼包括：可消耗的物體；作為被處理的目標(biāo)的表面，其中，表面的位置根據(jù)可消耗的物體的量而變化；可移動(dòng)紫外源，安裝到外殼的內(nèi)表面，其中，可移動(dòng)紫外源發(fā)射具有比表面的區(qū)域小的特征剖面區(qū)域的紫外輻射光束；用于移動(dòng)可移動(dòng)紫外源的裝置，以用紫外輻射光束的特征剖面區(qū)域內(nèi)的紫外輻射來直接照射所述表面的任意部分。

發(fā)明的說明性方面被設(shè)計(jì)成解決在此描述的一個(gè)或更多個(gè)問題和/或未討論的一個(gè)或更多個(gè)其它問題。

附圖說明

通過以下結(jié)合描繪了發(fā)明的各個(gè)方面的附圖對發(fā)明的各個(gè)方面進(jìn)行的詳細(xì)描述，將更容易地理解本公開的這些和其它特征。

圖1示出根據(jù)實(shí)施例的說明性處理系統(tǒng)。

圖2a和圖2b示出根據(jù)實(shí)施例的說明性容器。

圖3a和圖3b示出根據(jù)實(shí)施例的可移動(dòng)uv源的可能的運(yùn)動(dòng)。

圖4示出根據(jù)實(shí)施例的可移動(dòng)uv源的說明性組。

圖5示出根據(jù)實(shí)施例的說明性可移動(dòng)uv源和反饋組件。

圖6示出根據(jù)實(shí)施例的說明性可移動(dòng)uv源的剖面。

圖7a和圖7b示出說明紫外光束的角旋轉(zhuǎn)的實(shí)施例。

注意的是，附圖可以不按比例。附圖僅意圖描繪發(fā)明的典型方面，因此不應(yīng)理解為對發(fā)明的范圍的限制。在附圖中，同樣的附圖標(biāo)記表示附圖之間同樣的元件。

具體實(shí)施方式

如上所述，發(fā)明的方面提供了一種用紫外輻射處理表面的方案?？梢苿?dòng)紫外源用于發(fā)射具有比待處理的表面的區(qū)域小的特征剖面區(qū)域的紫外輻射光束。可移動(dòng)紫外源可根據(jù)需要移動(dòng)，以用紫外輻射光束的特征剖面區(qū)域內(nèi)的輻射直接照射表面的任意部位。運(yùn)動(dòng)可包括例如旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)和/或相對于表面重新定位可移動(dòng)紫外源。

如在此使用的，除非另外說明，否則術(shù)語“組(集合)”意味著一個(gè)或更多個(gè)(即，至少一個(gè))，短語“任意方案”意味著任何現(xiàn)在已知或以后開發(fā)的方案。另外，如在此使用的，紫外輻射/紫外光意味著具有在近似10納米(nm)至近似400nm的范圍的波長的電磁輻射，而紫外-c(uv-c)意味著具有在近似100nm至近似280nm的范圍的波長的電磁輻射，紫外-b(uv-b)意味著具有在近似280納米至近似315納米的范圍的波長的電磁輻射，紫外-a(uv-a)意味著具有在近似315納米至近似400納米的范圍的波長的電磁輻射。

如也在此使用的，當(dāng)材料/結(jié)構(gòu)允許具有目標(biāo)波長的輻射的至少百分之十穿過其時(shí)，所述材料/結(jié)構(gòu)是“透明的”，該輻射以相對于層的界面垂直入射輻射。另外，如在此使用的，當(dāng)材料/結(jié)構(gòu)具有針對具有目標(biāo)波長的輻射的至少百分之三十的反射系數(shù)時(shí)，所述材料/結(jié)構(gòu)是“反射的”。在更具體的實(shí)施例中，當(dāng)材料/結(jié)構(gòu)具有針對具有目標(biāo)波長的輻射的至少百分之八十的反射系數(shù)時(shí)，所述材料/結(jié)構(gòu)是“高反射的”。在實(shí)施例中，輻射的目標(biāo)波長對應(yīng)于在裝置操作期間由光電器件的有效區(qū)域發(fā)射或感測的輻射的波長(例如，峰值波長+/-5納米)。對于給定層，波長可以在考慮的材料中測量，并且可取決于材料的折射率。

發(fā)明的方面提供了一種利用紫外輻射對表面進(jìn)行殺菌的方案。為此，紫外輻射可以在表面處以這樣的方式引導(dǎo)，以損害(例如，抑制生長、減量、殺死、損害、損傷等)可能存在于表面上的任何生物體。生物體可包括諸如細(xì)菌、病毒、原生動(dòng)物、生物膜和/或霉菌等的各種類型的生物體的任意組合。在此的討論是指對一個(gè)或更多個(gè)表面殺菌。如在此使用的，“對……殺菌”和“殺菌”是指損害一種或更多種目標(biāo)生物體，并且包括提純、殺菌和/或消毒等。另外，如在此使用的，“無菌表面”包括沒有任何活的生物體的表面、沒有任何活的目標(biāo)生物體(但其可包括非目標(biāo)生物體)的表面以及包括一些活的目標(biāo)生物體但此類生物體基本上忽略不計(jì)的表面。

參見附圖，圖1示出根據(jù)實(shí)施例的說明性處理系統(tǒng)10。為此，處理系統(tǒng)10包括監(jiān)測和/或控制系統(tǒng)11，其被示出作為計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20來實(shí)現(xiàn)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可執(zhí)行在此描述的進(jìn)程以處理物體2的一個(gè)或更多個(gè)表面。具體地，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20被示出為包括處理程序30，其使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20通過執(zhí)行在此描述的進(jìn)程可操作來用由一組可移動(dòng)uv源40發(fā)射的紫外輻射處理物體2的表面。

計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20被示出為包括處理組件22(例如，一個(gè)或更多個(gè)處理器)、存儲組件24(例如，存儲層次(storagehierarchy))、輸入/輸出(i/o)組件26(例如，一個(gè)或更多個(gè)i/o接口和/或裝置)以及通信路徑28。通常，處理組件22執(zhí)行至少部分地固定在存儲組件24中的諸如處理程序30的程序代碼。在執(zhí)行程序代碼的同時(shí)，處理組件22可處理數(shù)據(jù)，這可導(dǎo)致為了進(jìn)一步處理而從存儲組件24和/或i/o組件26讀取轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù)和/或?qū)⑥D(zhuǎn)換數(shù)據(jù)寫入到存儲組件24和/或i/o組件26。路徑28在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20中的每個(gè)組件之間提供通信鏈路。i/o組件26可包括一個(gè)或更多個(gè)人類i/o裝置和/或一個(gè)或更多個(gè)通信裝置，所述一個(gè)或更多個(gè)人類i/o裝置使得人類用戶12能夠與計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20進(jìn)行交互，所述一個(gè)或更多個(gè)通信裝置使得系統(tǒng)用戶12能夠利用任意類型的通信鏈路與計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20通信。為此，處理程序30可管理使得人類用戶和/或系統(tǒng)用戶12能夠與處理程序30交互的一組界面(例如，圖形用戶界面和/或應(yīng)用程序界面等)。另外，處理程序30可使用任意方案來管理(例如，存儲、檢索、創(chuàng)建、操作、組織、呈現(xiàn)等)諸如處理數(shù)據(jù)34的數(shù)據(jù)。

在任何情況下，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可包括能夠執(zhí)行安裝在其上的諸如處理程序30的程序代碼的一個(gè)或更多個(gè)通用計(jì)算制造品(例如，計(jì)算裝置)。如在此使用的，理解的是，“程序代碼”意味著以任何語言、代碼或符號的指令的任意集合，這些指令使得具有信息處理能力的計(jì)算裝置直接執(zhí)行特定操作或者在以下任意組合之后執(zhí)行特定操作：(a)轉(zhuǎn)換為另一種語言、代碼或符號；(b)以不同的材料形式復(fù)制；和/或(c)解壓。為此，處理程序30可被實(shí)現(xiàn)為系統(tǒng)軟件和/或應(yīng)用軟件的任意組合。

另外，處理程序30可使用一組模塊32來實(shí)現(xiàn)。在這種情況下，模塊32可使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20能夠執(zhí)行由處理程序30使用的一組作業(yè)，并且可單獨(dú)開發(fā)和/或與處理程序30的其它部分分開實(shí)現(xiàn)。如在此使用的，術(shù)語“組件”意味著具有或不具有軟件的的任何配置的硬件，其使用任意方案實(shí)現(xiàn)結(jié)合其描述的功能，而術(shù)語“模塊”意味著使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20能夠使用任意方案實(shí)現(xiàn)結(jié)合其描述的操作的程序代碼。當(dāng)模塊固定在包括處理組件22的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20的存儲組件24中時(shí)，模塊是組件的實(shí)現(xiàn)該操作的實(shí)質(zhì)性部分。不管怎樣，理解的是，兩個(gè)或更多個(gè)組件、模塊和/或系統(tǒng)可共享它們各自的一些/全部硬件和/或軟件。另外，理解的是，在此討論的一些功能可以不實(shí)施，或者附加功能可以作為計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20的一部分而被包括。

當(dāng)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20包括多個(gè)計(jì)算裝置時(shí)，每個(gè)計(jì)算裝置可僅具有固定在其上的處理程序30的一部分(例如，一個(gè)或更多個(gè)模塊32)。然而，理解的是，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20和處理程序30僅是可以執(zhí)行在此描述的進(jìn)程的各種可能的等效計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的代表。為此，在其它實(shí)施例中，由計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20和處理程序30提供的功能可由包括具有或不具有程序代碼的通用和/或?qū)Ｓ糜布娜我饨M合的一個(gè)或更多個(gè)計(jì)算裝置來至少部分地實(shí)現(xiàn)。在每個(gè)實(shí)施例中，硬件和程序代碼(如果包括)可分別使用標(biāo)準(zhǔn)工程技術(shù)和標(biāo)準(zhǔn)編程技術(shù)來創(chuàng)建。在另一實(shí)施例中，監(jiān)測和/或控制系統(tǒng)11可例如使用實(shí)現(xiàn)反饋控制環(huán)路的閉環(huán)電路來實(shí)現(xiàn)而不用任何計(jì)算裝置，其中，在反饋控制環(huán)路中，一個(gè)或更多個(gè)感測裝置的輸出用作控制一個(gè)或更多個(gè)其它裝置的操作的輸入。結(jié)合計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20來進(jìn)一步地描述發(fā)明的說明性方面。然而，理解的是，與此結(jié)合描述的功能可通過任意類型的監(jiān)測和/或控制系統(tǒng)11來實(shí)現(xiàn)。

不管怎樣，當(dāng)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20包括多個(gè)計(jì)算裝置時(shí)，計(jì)算裝置可以通過任意類型的通信鏈路通信。另外，在執(zhí)行在此描述的進(jìn)程的同時(shí)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使用任意類型的通信鏈路與一個(gè)或更多個(gè)其它計(jì)算機(jī)系統(tǒng)來通信。不論哪種情況，通信鏈路可包括各種類型的光纖、有線鏈路和/或無線鏈路的任意組合；包括一種或更多種類型的網(wǎng)絡(luò)的任意組合；和/或利用各種類型的傳輸技術(shù)和協(xié)議的任意組合。

如在此討論的，處理程序30使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20能夠處理物體2的表面。為此，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可將可移動(dòng)紫外(uv)源40操作為對物體2的一個(gè)或更多個(gè)表面進(jìn)行直接紫外輻射，以對表面消毒(sanitize)。另外，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可從反饋組件42接收有關(guān)物體2的表面的反饋數(shù)據(jù)，所述反饋組件42可包括使用任意方案用于獲取有關(guān)物體2的表面的數(shù)據(jù)的一個(gè)或更多個(gè)感測裝置。在實(shí)施例中，處理系統(tǒng)10包括能夠在各種不同操作配置中實(shí)現(xiàn)和操作的控制組件、電力組件和/或控制邏輯等，如通過引用包含于此的于2013年8月28日提交的第14/012,682號美國專利申請描述的。結(jié)合可使用處理系統(tǒng)10的說明性實(shí)施例來示出并描述發(fā)明的另外方面。

在實(shí)施例中，在操作的初始時(shí)段(例如，在最近訪問物體2之后和/或添加/移除/重新配置物體2等)期間，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可從反饋組件42獲取有關(guān)物體2的一個(gè)或更多個(gè)屬性和/或物體2所在的區(qū)域的條件的數(shù)據(jù)，并且產(chǎn)生用于進(jìn)一步處理的處理數(shù)據(jù)34。處理數(shù)據(jù)34可包括有關(guān)例如物體2的顏色和/或外觀等的信息和/或在物體2上或在所述區(qū)域內(nèi)微生物的存在的信息等。另外，處理數(shù)據(jù)34可包括有關(guān)所述區(qū)域內(nèi)的乙烯氣體的存在的信息。如在此討論的，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可利用處理數(shù)據(jù)34來控制由可移動(dòng)uv源40產(chǎn)生的紫外輻射的一個(gè)或更多個(gè)方面。另外，理解的是，可移動(dòng)uv源40的操作的一個(gè)或更多個(gè)方面可由用戶12例如經(jīng)由計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20的界面來控制。這樣的用戶控制的操作可包括可移動(dòng)uv源40的防止操作、可移動(dòng)uv源40的請求操作和/或請求可移動(dòng)uv源40的特定模式的操作等。

圖2a示出根據(jù)實(shí)施例的說明性容器50。在這種情況下，容器50包括主體52和可拆卸蓋54(例如，帽和/或頂蓋等)，可拆卸蓋54被構(gòu)造為封閉由主體52限定的內(nèi)部區(qū)域。雖然示出圓柱形的容器50，但理解的是，容器50可具有任意形狀(例如，盒狀)。容器50可由適合于相應(yīng)應(yīng)用的任意材料形成。在實(shí)施例中，容器50的至少內(nèi)表面由高度紫外反射的材料形成。說明性的紫外反射材料包括諸如ptfe等的反射性含氟聚合物、由鋁(例如，拋光鋁)形成的uv反射膜和/或高度紫外反射的膨脹聚四氟乙烯(eptfe)膜(例如，漫反射材料)。不管怎樣，容器50還包括被構(gòu)造為將紫外輻射光束44引導(dǎo)到表面4上以對表面4進(jìn)行消毒的可移動(dòng)uv源40。如示出的，可移動(dòng)uv源40可位于可拆卸蓋54中，但理解的是，這僅僅是可以安裝可移動(dòng)uv源40的各種位置的說明。

表面4可以是位于容器50內(nèi)的任意類型的物體2的表面。例如，表面4可對應(yīng)于儲存在容器50內(nèi)的諸如化妝品的可消耗的產(chǎn)品的頂表面?？蛇x擇地，表面4可對應(yīng)于能夠在主體52內(nèi)豎直移動(dòng)的物體2(例如，活塞)的在分配可消耗的產(chǎn)品(例如，化妝品)中使用的表面。不論哪種情況，在使用可消耗的產(chǎn)品期間，表面4相對于可移動(dòng)uv源40的位置移動(dòng)。然而，理解的是，化妝品和活塞僅僅是各種類型的物體2的說明。為此，說明性物體2包括：容器50的內(nèi)表面、諸如易腐食品(例如，意大利面醬、色拉調(diào)味品、牛奶和/或水果等)的另一類型的可消耗品的頂表面和/或物體2包括的用于防止空氣與可消耗品接觸的暴露的表面等。

如示出的，紫外輻射光束44具有比表面4的剖面區(qū)域6明顯小的剖面區(qū)域46。在實(shí)施例中，不管在表面4與可移動(dòng)uv源40之間與相應(yīng)應(yīng)用有關(guān)的距離如何，剖面區(qū)域46明顯小于剖面區(qū)域6。例如，甚至在主體52的與可移動(dòng)uv源40的位置相對的底表面處，剖面區(qū)域46也可保持比由主體52限定的內(nèi)部的剖面區(qū)域明顯小。不管怎樣，可移動(dòng)uv源40可僅能夠照射表面4的剖面區(qū)域6的一部分。在實(shí)施例中，紫外輻射光束44的特征剖面區(qū)域(即，包括包含在紫外輻射光束44內(nèi)的功率的至少百分之九十的剖面區(qū)域)小于表面4的區(qū)域。在實(shí)施例中，紫外輻射光束44在撞擊表面4時(shí)具有不大于表面4的百分之八十的剖面區(qū)域的最大剖面區(qū)域。然而，理解的是，該剖面區(qū)域可相對于表面4的剖面區(qū)域明顯地較小。另外，理解的是，例如當(dāng)表面4位于更接近或更遠(yuǎn)離uv源40時(shí)，光束44的剖面區(qū)域的相對尺寸可以變化。

為此，可移動(dòng)uv源40可包括被構(gòu)造為以如下方式移動(dòng)的一個(gè)或更多個(gè)組件：使得紫外輻射光束44能夠選擇性地指向與用于照射的基本上整個(gè)表面4對應(yīng)的不同子區(qū)域。在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20(圖1)可調(diào)整紫外輻射光束40(例如，紫外輻射光束40的中心軸)與表面4之間形成的相對角度。例如，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可以選擇性地使可移動(dòng)uv源40關(guān)于軸旋轉(zhuǎn)，以使得紫外輻射光束44能夠選擇性地指向表面4的任意區(qū)域。為此，圖2b示出具有示出為旋轉(zhuǎn)到三個(gè)不同位置41a-41c的可移動(dòng)uv源40的容器50。如示出的，每個(gè)位置41a-41c分別導(dǎo)致指向不同的方向的相應(yīng)的紫外輻射光束44a-44c，紫外輻射光束44a-44c中的每個(gè)以獨(dú)特的角度在表面的獨(dú)特的子區(qū)域中撞擊表面(例如，圖2a中示出的表面4)。

在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可相對于表面4調(diào)整可移動(dòng)uv源40的位置。例如，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可以在容器50的可拆卸蓋54內(nèi)將可移動(dòng)uv源40重新定位。在這種情況下，可移動(dòng)uv源40可在與表面4大體上平行的橫向平面內(nèi)重新定位。此外，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可以將可移動(dòng)uv源40在與表面4大體上垂直的平面中重新定位。在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可以將可移動(dòng)uv源40重新定位到不同的位置(在相對于表面4平行和/或垂直的表面中)并使可移動(dòng)uv源40關(guān)于一個(gè)或更多個(gè)軸旋轉(zhuǎn)。

為此，圖3a和3b示出根據(jù)實(shí)施例的可移動(dòng)uv源40的可能的運(yùn)動(dòng)。在圖3a中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使可移動(dòng)uv源40關(guān)于其z軸60在角θ的范圍內(nèi)旋轉(zhuǎn)。此外，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可將可移動(dòng)uv源40重新定位到沿著橢圓路徑62定位的任意位置，該橢圓路徑62可大體上平行于被照射的表面4(圖2a)。在實(shí)施例中，可移動(dòng)uv源40還可沿著z軸60重新定位。在圖3b中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可以使可移動(dòng)uv源40沿著線性路徑64(例如，軌道)重新定位，并且計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20還可以使線性路徑64沿著一對線性路徑66a、66b重新定位。例如，可移動(dòng)uv源40可經(jīng)由通過計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20選擇性地可旋轉(zhuǎn)的輪組件68附接到線性路徑64。相似地，線性路徑64可經(jīng)由通過計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20也選擇性地可旋轉(zhuǎn)的輪組件70a、70b附接到線性路徑66a、66b(例如，軌道)。以這種方式，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可將可移動(dòng)uv源40定位在與由線性路徑66a、66b限定的區(qū)域?qū)?yīng)的任意位置中。

理解的是，可以使用用于使可移動(dòng)uv源40重新定位的各種替代方案。例如，另一方案可以使用可旋轉(zhuǎn)且/或可伸縮的臂。這樣的臂可用于將可移動(dòng)uv源40在與表面4平行和/或垂直的方向上重新定位。另外，可移動(dòng)uv源40可通過沿豎直圓柱滑動(dòng)在豎直方向上被重新定位，也可以被附接到具有壓縮和伸長運(yùn)動(dòng)的彈簧。其它可能性包括附接到擺(pendulum)的可移動(dòng)uv源40。

理解的是，可移動(dòng)uv源40可被構(gòu)造為使用任意方案(例如，線性地和/或橢圓地等)被重新定位和/或旋轉(zhuǎn)，這將使得可移動(dòng)uv源40能夠成功地照射表面(諸如圖2a中示出的表面4)的期望的區(qū)域(例如，基本上整個(gè)表面)的多個(gè)子區(qū)域，這可因與可移動(dòng)uv源40的距離而變化。為此，角θ的范圍以及二維或三維位置的特定組合可以用于提供可移動(dòng)uv源40的期望的覆蓋范圍。

另外，雖然僅示出了單個(gè)可移動(dòng)uv源40，但理解的是，實(shí)施例可包括一個(gè)或更多個(gè)中的任意數(shù)量的可移動(dòng)uv源40，該可移動(dòng)uv源40可通過計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20被成組地和/或單獨(dú)地旋轉(zhuǎn)、重新定位和/或打開/關(guān)閉等。為此，圖4示出根據(jù)實(shí)施例的可移動(dòng)uv源40a-40d的說明性組。如示出的，每個(gè)可移動(dòng)uv源40a-40d可關(guān)于兩個(gè)軸旋轉(zhuǎn)。在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使每個(gè)可移動(dòng)uv源40a-40d關(guān)于一個(gè)軸或兩個(gè)軸獨(dú)立地旋轉(zhuǎn)。另外，每個(gè)可移動(dòng)uv源40a-40d可沿橢圓路徑62重新定位。在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可以把可移動(dòng)uv源40a-40d成組地重新定位。在另一實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可將每個(gè)可移動(dòng)uv源40a-40d在橢圓路徑62的有限區(qū)域上獨(dú)立地重新定位。

可使用任何機(jī)械裝置來完成可移動(dòng)uv源40的旋轉(zhuǎn)和/或位置的調(diào)整。說明性的機(jī)械裝置包括可移動(dòng)uv源40附接到的安裝件，所述安裝件在一個(gè)或更多個(gè)軸(例如，x軸、y軸和/或z軸)上選擇性地可旋轉(zhuǎn)和/或在一個(gè)或更多個(gè)方向上選擇性地可重新定位。安裝件可在整個(gè)軸或軸的僅一部分上可旋轉(zhuǎn)。例如，安裝件可使得可移動(dòng)uv源40的角運(yùn)動(dòng)能夠沿方位角和天頂角或極角(其等同于球面坐標(biāo)中的角φ和θ)。安裝件可包括內(nèi)置機(jī)械裝置，諸如電動(dòng)機(jī)，其使得安裝件能夠通過計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20沿軸選擇性地旋轉(zhuǎn)和/或通過計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20沿路徑(例如，軌道和/或齒條/齒桿等)選擇性地重新定位。可選擇地，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可控制單獨(dú)的機(jī)械裝置，這反過來導(dǎo)致安裝件沿路徑旋轉(zhuǎn)和/或重新定位。不管怎樣，用于旋轉(zhuǎn)和/或重新定位可移動(dòng)uv源40的說明性機(jī)械裝置包括：電動(dòng)機(jī)；電磁體；彈簧；永磁體；振動(dòng)發(fā)生器(例如，由壓電傳動(dòng)器引起的)；連接到可移動(dòng)uv源40的線的振蕩；和/或壓電傳動(dòng)運(yùn)動(dòng)等。在每種情況下，用于旋轉(zhuǎn)和/或重新定位可移動(dòng)uv源40的各種組件可在系統(tǒng)10(圖1)內(nèi)使用任意方案(例如附接到系統(tǒng)10的各種組件的任意組合)來實(shí)現(xiàn)。

理解的是，可移動(dòng)uv源40的旋轉(zhuǎn)和/或重新定位可包括對可移動(dòng)uv源40的僅一個(gè)或更多個(gè)組件的旋轉(zhuǎn)和/或重新定位，以調(diào)整所得光束44(圖2)的角度和/或位置。例如，可移動(dòng)uv源40的實(shí)施例可包括可相對于紫外光源旋轉(zhuǎn)的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)。在這種情況下，可移動(dòng)uv源40的旋轉(zhuǎn)可通過僅旋轉(zhuǎn)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)而不是紫外光源來完成。相似的，一組紫外光源可定位為與一組波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的從其發(fā)射光束44的部分物理地分離。例如，光纖可將由紫外光源發(fā)射的光引導(dǎo)到位于一定距離外的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)。在這種情況下，可移動(dòng)uv源40的重新定位可在紫外光源保持在固定位置的同時(shí)通過僅重新定位波導(dǎo)結(jié)構(gòu)來完成。

如在此討論的，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可旋轉(zhuǎn)和/或重新定位在此描述的一個(gè)或更多個(gè)可移動(dòng)uv源40，以僅照射表面4(圖2a)的剖面區(qū)域6(圖2a)的一部分。在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20操作可移動(dòng)uv源40，以照射表面4的需要處理(例如，殺菌)的目標(biāo)區(qū)域。此外，當(dāng)使用多個(gè)可移動(dòng)uv源時(shí)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可操作兩個(gè)或更多個(gè)可移動(dòng)uv源40，以同時(shí)照射表面4的目標(biāo)區(qū)域(例如，以提供更高的劑量)或者同時(shí)照射表面4的可以是非重疊的或部分重疊的不同的目標(biāo)區(qū)域。不管怎樣，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使用從反饋組件42(圖1)的一個(gè)或更多個(gè)感測裝置接收的處理數(shù)據(jù)34(圖1)來識別目標(biāo)區(qū)域和/或?qū)⒆贤廨椛湟龑?dǎo)到目標(biāo)區(qū)域上。

例如，圖5示出根據(jù)實(shí)施例的說明性可移動(dòng)uv源40和反饋組件42。在這種情況下，反饋組件42可包括一組成像裝置72和相應(yīng)的光源74。計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可操作光源74以提供對表面4的一些或全部的照明，以由成像裝置72成像。在實(shí)施例中，成像裝置72可位于固定的位置中并被構(gòu)造為在單個(gè)幀中獲取包括基本全部表面4的圖像數(shù)據(jù)?？蛇x擇的，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可移動(dòng)成像裝置72和/或光源74，以在多個(gè)幀中對表面4成像。在后一種情況下，可使用結(jié)合可移動(dòng)uv源40描述的方案通過計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20安裝以及旋轉(zhuǎn)和/或重新定位成像裝置72和/或光源74。

計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使用任意方案來處理圖像數(shù)據(jù)以識別表面4上需要進(jìn)行處理的區(qū)域8。例如，光源74可以是可見光源，其可結(jié)合相機(jī)72操作以獲取表面4的圖像數(shù)據(jù)。計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可例如基于區(qū)域8的變色來處理圖像數(shù)據(jù)并識別區(qū)域8。然而，理解的是，這僅僅是說明性的，可使用諸如紅外和/或紫外等的其它類型的發(fā)光和/或成像裝置。相似地，理解的是，反饋組件42可被配置為獲取其它類型的數(shù)據(jù)，諸如有關(guān)指示污染的一種或更多種化合物(例如，乙烯)的存在的數(shù)據(jù)和/或通過一個(gè)或更多個(gè)熒光傳感器獲取的熒光數(shù)據(jù)等。在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可處理由反饋組件42獲取的數(shù)據(jù)以確定生物活性的存在，并將確定的存在與需要處理的目標(biāo)區(qū)域8和/或需要的處理的水平等關(guān)聯(lián)。

不管怎樣，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使可移動(dòng)uv源40旋轉(zhuǎn)和/或重新定位，以將光束44引導(dǎo)到需要處理的目標(biāo)區(qū)域8上。另外，當(dāng)光束44僅覆蓋所識別的目標(biāo)區(qū)域8的一部分時(shí)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可進(jìn)一步使可移動(dòng)uv源40旋轉(zhuǎn)和/或重新定位，以將期望劑量的紫外輻射傳送到整個(gè)目標(biāo)區(qū)域8上。在實(shí)施例中，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可進(jìn)一步利用由反饋組件42獲取的圖像數(shù)據(jù)，以對目標(biāo)區(qū)域8的位置進(jìn)行三角測量和/或調(diào)整可移動(dòng)uv源40的角度和/或位置等。

在實(shí)施例中，可移動(dòng)uv源40被構(gòu)造為發(fā)射聚焦的光束44，以將更集中的劑量的紫外輻射傳送到更小的區(qū)域。為此，可移動(dòng)uv源40的實(shí)施例可包括一個(gè)或更多個(gè)紫外線激光器，諸如一個(gè)或更多個(gè)紫外線激光二極管。在實(shí)施例中，可移動(dòng)uv源40可包括一個(gè)或更多個(gè)紫外光源，諸如紫外發(fā)光二極管，其具有被構(gòu)造為將發(fā)射的紫外光聚焦成更聚焦的光束44的導(dǎo)光結(jié)構(gòu)。聚焦的光束44可提供傳送到目標(biāo)區(qū)域8的紫外輻射的增加的通量和用紫外輻射照射的更小的目標(biāo)區(qū)域8。

圖6示出根據(jù)實(shí)施例的說明性可移動(dòng)uv源40的剖面。在這種情況下，可移動(dòng)uv源40包括紫外光源80和導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82。雖然僅示出了單個(gè)紫外光源80，但是理解的是，可移動(dòng)uv源40可包括一個(gè)或更多個(gè)中的任意數(shù)量的光源80。導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82可被構(gòu)造為將從紫外光源80發(fā)射的光重定向(例如，準(zhǔn)直)成更聚焦的光束44，以被引導(dǎo)朝向如圖5中所示的表面的目標(biāo)區(qū)域8。當(dāng)使用導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82時(shí)，從紫外光源80發(fā)射的光應(yīng)當(dāng)與導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82良好地耦合。在實(shí)施例中，耦合確保了由紫外光源80發(fā)射紫外光的至少百分之五十進(jìn)入導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82。在實(shí)施例中，導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82被構(gòu)造為確保在導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82內(nèi)的紫外輻射的損失不超過百分之二十。

在實(shí)施例中，導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82可由紫外透明材料形成，并且使用全內(nèi)反射來使由紫外光源80發(fā)射的紫外光重新定向。說明性的紫外透明材料包括：熔融二氧化硅、含氟聚合物、藍(lán)寶石、陽極氧化鋁、空氣和/或諸如純凈水的液體等。在說明性實(shí)施例中，導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82具有在遠(yuǎn)離紫外光源80的方向上的擴(kuò)展的金字塔狀剖面或圓錐形剖面。如示出的，導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82可包括由諸如含氟聚合物類膜的紫外透明材料形成的層84，其形成一組區(qū)域86a-86c，每個(gè)區(qū)域可填充有透明流體。在這種情況下，紫外光源80可利用諸如含氟聚合物的紫外透明材料熔合到導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82。

在更具體的實(shí)施例中，區(qū)域86a、86c填充有具有低折射率(例如，最多為形成相鄰層84的材料的折射率的百分之九十)的氣體，諸如環(huán)境空氣，而區(qū)域86b填充有對紫外輻射基本上透明的液體。在這種情況下，對于240納米至360納米的范圍的光波長，液體可具有至少與純凈水的透明度相似(例如，在百分之十以內(nèi))的透明度。在實(shí)施例中，區(qū)域86b中的液體是由美國食品和藥物管理局定義的純凈水?？蛇x擇地，液體可以是對人類使用足夠清潔的水(飲用水)。在通過引用包含于此的于2015年9月14日提交的第14/853,057號美國專利申請中示出并描述了說明性導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82的制造。在另一實(shí)施例中，如通過引用包含于此的于2015年9月14日提交的第14/853,014號美國專利申請中示出和描述的，使用陽極化氧化鋁(aao)制造導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82。

然而，理解的是，導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82僅是說明性的。例如，在另一實(shí)施例中，導(dǎo)光結(jié)構(gòu)可包括具有由諸如鋁的反射材料形成的內(nèi)表面的拋物線結(jié)構(gòu)，光從紫外光源80發(fā)射到其上并被準(zhǔn)直。相似地，導(dǎo)光結(jié)構(gòu)82可由反射材料形成，該反射材料具有在遠(yuǎn)離紫外光源80的方向上擴(kuò)展的金字塔狀剖面或圓錐形剖面以及準(zhǔn)直的紫外輻射通過其出射的敞開的底表面。不論哪種情況，反射材料可反射紫外輻射的至少百分之五十。不管怎樣，理解的是，對“準(zhǔn)直的紫外輻射”的引用包括未完全準(zhǔn)直的紫外輻射，在這種情況下，光束44(圖5)將在一定距離上發(fā)散，從而具有圓錐形狀。如在此使用的，當(dāng)光束44在從可移動(dòng)uv源40出射時(shí)的剖面區(qū)域是光束44在光束44行進(jìn)最大豎直距離h(如圖7a中所示)以撞擊表面之后的的剖面區(qū)域的至少百分之七十時(shí)，紫外輻射被認(rèn)為是準(zhǔn)直的。

在實(shí)施例中，當(dāng)向目標(biāo)區(qū)域8傳送目標(biāo)劑量的紫外輻射時(shí)(圖5)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可說明光束44的不同的角度θ和/或發(fā)散度。例如，圖7a和圖7b示出說明紫外光束44a、44b的角旋轉(zhuǎn)的實(shí)施例。如示出的，當(dāng)可移動(dòng)uv源40處于紫外光束44a被導(dǎo)向?yàn)榕c表面4基本上垂直的第一位置41a時(shí)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可確定由紫外光束44a照射的目標(biāo)區(qū)域8a的相應(yīng)半徑r(例如，使用由圖1中示出的反饋組件42獲取的數(shù)據(jù))。假設(shè)已知紫外光束44a的發(fā)散度和/或已知表面4與可移動(dòng)uv源40之間的距離h，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可確定距離h或紫外光束44a的發(fā)散度中的另一者。隨后，假設(shè)表面4與水平面基本上平行，當(dāng)可移動(dòng)uv源40旋轉(zhuǎn)角度θ至第二位置41b時(shí)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使用已知變量和標(biāo)準(zhǔn)幾何計(jì)算目標(biāo)區(qū)域8b的尺寸。然而，理解的是，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可通過例如使用由反饋組件42獲取的數(shù)據(jù)進(jìn)一步分析目標(biāo)區(qū)域8a和/或目標(biāo)區(qū)域8b的形狀來說明表面4的相對于水平面的角度變化。

當(dāng)處理表面4(例如，對表面4殺菌)時(shí)，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可控制可移動(dòng)uv源40的運(yùn)動(dòng)，以確保通過可移動(dòng)uv源40傳送針對表面4上的每個(gè)目標(biāo)區(qū)域8a、8b的目標(biāo)輻射劑量。為此，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可說明由不同目標(biāo)區(qū)域8a、8b的尺寸的改變而導(dǎo)致的輻射強(qiáng)度的改變。例如，由于目標(biāo)區(qū)域8b的尺寸大于目標(biāo)區(qū)域8a，因此在與表面4相交時(shí)的光束44b的強(qiáng)度相應(yīng)地低于與表面4相交的光束44a的強(qiáng)度。因此，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可較慢地旋轉(zhuǎn)可移動(dòng)uv源40以獲得較大的角度θ，以說明較低的強(qiáng)度。如圖7b中所示，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可通過利用具有橢圓形狀的圓錐剖面的區(qū)域來計(jì)算目標(biāo)區(qū)域8b的增大?？蛇x擇地，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可使用一組離散的角度θ來旋轉(zhuǎn)可移動(dòng)uv源40，使用針對每個(gè)角度θ的特定時(shí)間來實(shí)現(xiàn)針對相應(yīng)目標(biāo)區(qū)域8a、8b的需要?jiǎng)┝康淖贤廨椛洹?/p>

除了移動(dòng)可移動(dòng)uv源40之外，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可基于將要執(zhí)行的期望的處理來執(zhí)行一個(gè)或更多個(gè)附加的操作。例如，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可例如通過調(diào)整提供到紫外光源80(圖6)的功率來調(diào)整紫外光束44a、44b的強(qiáng)度和/或紫外光束44a、44b的光譜功率。例如，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20可僅打開可移動(dòng)uv源40的多個(gè)紫外光源80的子組，以脈沖模式操作紫外光源80以及/或者減小或增大供應(yīng)到紫外光源80的功率等。此外，可移動(dòng)uv源40可包括使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20能夠調(diào)整紫外光束44a、44b的焦點(diǎn)(例如，特征剖面區(qū)域的尺寸和/或準(zhǔn)直度等)的機(jī)械裝置。例如，可移動(dòng)uv源40可包括透鏡和/或光圈等，其可由計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20操作以調(diào)整紫外光束44a、44b的特征剖面區(qū)域和/或準(zhǔn)直度。在這種情況下，可例如基于需要傳送到目標(biāo)區(qū)域的劑量和/或目標(biāo)區(qū)域的尺寸等將紫外光束44a、44b的特征剖面區(qū)域和/或準(zhǔn)直度調(diào)整為更大或更小。

雖然在圖2a和圖2b中結(jié)合包括可拆卸蓋54的容器50示出在此描述的方案，但理解的是，在此描述的方案可在各種類型的環(huán)境中在各種類型的公開中實(shí)現(xiàn)。例如，實(shí)施例可在被構(gòu)造為儲存至少一個(gè)易腐品(例如，食品)的儲存裝置的儲存區(qū)域(諸如冰箱、冰箱的隔間、用于生物物品的容器、冷卻器、背包、食品容器、塑料袋、飯盒和/或食品儲藏室(例如，在食品儲藏室中的架子)等)內(nèi)實(shí)現(xiàn)。此外，雖然容器已經(jīng)被描述為包括化妝品，但理解的是，包括諸如意大利面醬的食品的任意類型的可消耗的物體可被儲存在這樣的容器50中。

雖然在此示出并描述為用于用紫外光處理表面的方法和系統(tǒng)，但理解的是，發(fā)明的各方面還提供各種可選擇的實(shí)施例。例如，在一個(gè)實(shí)施例中，發(fā)明提供固定在至少一個(gè)計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)中的計(jì)算機(jī)程序，當(dāng)其被執(zhí)行時(shí)，使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)能夠用紫外光處理表面。為此，計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)包括諸如處理程序30(圖1)的程序代碼，這使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)在此描述的一些或全部進(jìn)程。理解的是，術(shù)語“計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)”包括現(xiàn)在已知的或以后開發(fā)的一個(gè)或更多個(gè)任意類型的有形表達(dá)介質(zhì)，從其可感知、再現(xiàn)或者通過計(jì)算裝置另外地傳輸程序代碼的拷貝。例如，計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)可包括：一個(gè)或更多個(gè)便攜式存儲制品；計(jì)算裝置的一個(gè)或更多個(gè)存儲器/存儲組件和/或紙等。

在另一實(shí)施例中，發(fā)明提供了提供諸如處理程序30(圖1)的程序代碼的拷貝的方法，該程序代碼使得計(jì)算機(jī)系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)在此描述的一些或全部進(jìn)程。在這種情況下，計(jì)算機(jī)系統(tǒng)可處理程序代碼的拷貝，以便為了在另一不同位置接收而生成并發(fā)送一組數(shù)據(jù)信號，該組數(shù)據(jù)信號已經(jīng)以這樣的方式設(shè)置和/或改變了其一個(gè)或更多個(gè)特性，從而在該組數(shù)據(jù)信號中編碼程序代碼的拷貝。相似地，本發(fā)明的實(shí)施例提供了獲取程序代碼的拷貝的方法，包括接收在此描述的該組數(shù)據(jù)信號并且把該組數(shù)據(jù)信號翻譯成固定在至少一個(gè)計(jì)算機(jī)可讀介質(zhì)中的計(jì)算機(jī)程序的拷貝的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)。不論哪種情況，可利用任意類型的通信鏈路發(fā)送/接收該組數(shù)據(jù)信號。

在又一實(shí)施例中，發(fā)明提供了生成用于用紫外光處理表面的系統(tǒng)的方法。在這種情況下，生成的步驟可包括把諸如計(jì)算機(jī)系統(tǒng)20(圖1)的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)配置為實(shí)現(xiàn)在此描述的用紫外光處理表面的方法。配置的步驟可包括獲得(例如，創(chuàng)建、維護(hù)、購買、修改、使用、使得其可用等)具有一個(gè)或更多個(gè)軟件模塊或不具有軟件模塊的一個(gè)或更多個(gè)硬件組件以及設(shè)置組件和/或模塊來實(shí)現(xiàn)在此描述的進(jìn)程。為此，配置的步驟可包括把一個(gè)或更多個(gè)組件部署到計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，這可包括以下步驟中的一個(gè)或更多個(gè)：(1)在計(jì)算裝置上安裝程序代碼；(2)向計(jì)算機(jī)系統(tǒng)添加一個(gè)或更多個(gè)計(jì)算裝置和/或i/o裝置；和/或(3)整合和/或修改計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，以使得其能夠執(zhí)行在此描述的進(jìn)程等。

為了說明和描述的目的，已經(jīng)呈現(xiàn)了發(fā)明的各個(gè)方面的上述描述。并不意圖是詳盡的或限制發(fā)明為公開的精確形式，顯然，許多修改和變化是可能的。對本領(lǐng)域技術(shù)人員而言會(huì)是明顯的這種修改和變化包括在由所附權(quán)利要求限定的發(fā)明的范圍內(nèi)。