技術(shù)編號(hào):9925422
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。PVD工藝在某些(例如顯示器制造)中獲得越來越多的關(guān)注。良好沉積速率可利用對(duì)于某些PVD工藝的足夠的層特性而獲得。例如,濺射為顯示器制造或其他應(yīng)用的一項(xiàng)重要沉積工藝。濺射(例如,磁控濺射)為用于涂布基板(例如,玻璃基板或塑料基板)的技術(shù)。濺射通過經(jīng)由使用等離子體濺射目標(biāo)來產(chǎn)生涂布材料流。在此工藝期間,材料通過與來自等離子體的高能顆粒碰撞而從目標(biāo)的表面釋放。濺射可受等離子體參數(shù)(諸如壓力、功率、氣體和磁場(chǎng))控制。在真空中,經(jīng)濺射的材料從目標(biāo)朝向一個(gè)或多個(gè)基板...
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