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晶片的清洗方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:9848346

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對于網(wǎng)絡(luò)、數(shù)碼家電用半導體裝置而言,進一步要求高性能/高功能化、低耗電化。 因此,電路圖案的微細化正在發(fā)展,隨著微細化的發(fā)展,電路圖案的圖案傾倒成為問題。在 半導體裝置制造中,經(jīng)常應用以去除顆粒、金屬雜質(zhì)為目的的清洗工序,其結(jié)果,清洗工序 占據(jù)半導體制造工序整體的3~4成。在該清洗工序中,與半導體裝置的微細化相伴的圖案 高寬比變高時,在清洗或沖洗后,氣液界面通過圖案時圖案發(fā)生傾倒的現(xiàn)象為圖案傾倒。為 了防止圖案傾倒的發(fā)生,不得不變更圖案的設(shè)計、或者導致生...
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