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一種半導體器件中飽和電流性能的控制方法技術資料下載

技術編號:9812295

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離子注入是一種離子摻雜工藝,通過該工藝可以將高能量離子摻雜至襯底中以獲取理想的摻雜濃度和結深。由于離子注入工藝是一種不均衡的工藝制程,注入的元素不受擴散系數(shù)、溶解度和相位平衡約束條件影響,當襯底材料變?yōu)槠胶鉅顟B(tài)后,注入元素在一種規(guī)定的分布中擴散。離子注入的過程中,會在襯底表面逐漸形成并積累正電荷,這會阻斷后續(xù)離子繼續(xù)注入到襯底中,如果不將這些正電荷進行去除,會導致飽和電流的表現(xiàn)異常。正電荷可通過電子來進行中和,因此,為了能夠將離子注入過程中產生的正電荷進行...
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