技術(shù)編號(hào)：9326153
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。為了提高用于制造半導(dǎo)體設(shè)備的曝光裝置的分辨率，需要校正曝光裝置中包括的投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)像差。日本特開2004-64076號(hào)公報(bào)提出了如下光學(xué)裝置通過多個(gè)致動(dòng)器對(duì)投影光學(xué)系統(tǒng)中包括的鏡施加力以使鏡的反射面變形，來校正投影光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)像差。在曝光裝置中，如果將布置有曝光裝置的地板的振動(dòng)和曝光裝置的內(nèi)部產(chǎn)生的振動(dòng)等作為干擾發(fā)送到鏡，則鏡可能由于振動(dòng)而變形。日本特開2004-64076號(hào)公報(bào)中公開的光學(xué)裝置基于傳感器測(cè)量的鏡形狀與目標(biāo)形狀之間的偏差來控制各致動(dòng)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。