技術編號:91708
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明是屬于一種陰極噴鍍裝置。離子鍍膜技術是近十幾年在真空技術中一種新的表面物理氣相沉積技術。它利用離子所具有的很大動能,轟擊被鍍工件表面而成膜,所以能使鍍層和工件結合牢固,可以制成多種具有優(yōu)異性能的表面膜。已有的中空陰極離子鍍膜技術存在的問題,多是陰極采用昂貴的鉭管(約3800元/公斤),在工作過程中加熱到約3000°K,使用壽命較短,遇到微量氧化氣氛就被燒壞,對維護和使用離子鍍膜技術帶來困難。已改正的冷電弧陰極離子鍍膜技術,屬于冷U陰極離子鍍膜技術,它雖比上述中空陰極技術有很大改進,但仍存在進氣方式欠佳、陰極內...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。