技術(shù)編號：8921537
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 在激光光譜學(xué)、原子激光法同位素分離等領(lǐng)域，原子能級間的吸收截面是非常重 要的參數(shù)。現(xiàn)在測量吸收截面的主要方法是飽和激發(fā)法。飽和激發(fā)法是利用激光激發(fā)電離 原子，產(chǎn)生離子信號，在激光功率足夠大的情況下，激發(fā)電離過程可以達(dá)到飽和，測得離子 信號隨激光功率密度變化的曲線，利用離子信號的飽和值與線性區(qū)斜率值的比值計算吸收 截面。飽和激發(fā)法的優(yōu)點在于，截面值的大小與上下能級的自發(fā)輻射系數(shù)和飽和曲線的飽 和值與斜率值的比值有關(guān)，與光作用區(qū)的原子數(shù)密度和電離產(chǎn)生的離子數(shù)...
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