技術(shù)編號：8867478
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。目前所使用的半導(dǎo)體硅片清洗裝置清洗過程中需要使用大量純水，并添加有機(jī)溶劑，會造成環(huán)境污染、人身危害和水資源浪費(fèi)等嚴(yán)重問題。中國實(shí)用新型專利(公開號CN2489887Y)公開了一種連續(xù)式超聲波清洗機(jī)，其存在清洗盲區(qū)，不能有效清洗微孔和狹縫，并且使用清洗劑還會對環(huán)境造成污染；中國發(fā)明專利(公開號CN101740342A)公開了一種綠色二氧化碳超臨界流體半導(dǎo)體清洗設(shè)備，主要是對半導(dǎo)體硅片清洗，但并未增加旋轉(zhuǎn)、振蕩等輔助清洗手段，最終實(shí)際清洗效果不理想；中國發(fā)明專...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。