技術(shù)編號(hào):8579958
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。在半導(dǎo)體工藝中,準(zhǔn)分子激光器(Cymer laser)發(fā)射的激光光斑的大小經(jīng)由一光學(xué)放大系統(tǒng)放大至所需的尺寸。所述光學(xué)放大系統(tǒng)如圖1所示,至少包括依次排列的安全遮光器(safety shutter) 10、第一透鏡11、第二透鏡12、放光鏡13及第三透鏡14,由圖1可知,激光15經(jīng)過所述光學(xué)放大系統(tǒng)后被放大。在日常的工藝過程中,由于機(jī)臺(tái)光強(qiáng)不斷變?nèi)?,光路中有一些透鏡會(huì)出現(xiàn)不同程度的損傷,其光斑經(jīng)過的地方出現(xiàn)燒糊的現(xiàn)象,使得光斑能量降低和光路產(chǎn)生變化,對(duì)產(chǎn)品...
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