技術(shù)編號(hào):8461114
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于產(chǎn)生等離子體的表面波施加器,以及用于產(chǎn)生表面波等離子體的設(shè)備和方法。背景技術(shù)表面波等離子體是一種高頻等離子體(HF,也就是頻率介于IMHz或以下至大于1GHz之間),其中,等離子體由沿著與等離子體接觸的介電管傳播的電磁波(特別是射頻或微波)來(lái)維持。M.Moisan等人的文章提供了該領(lǐng)域中的參考書目的深度回顧。根據(jù)情況的不同,等離子體能夠生成于介電管的外部或內(nèi)部,又或者介電管的內(nèi)部和外部。在該技術(shù)中,等離子體和介電管構(gòu)成了沿著傳播區(qū)域生成等...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。
該類技術(shù)注重原理思路,無(wú)完整電路圖,適合研究學(xué)習(xí)。