技術編號：8413915
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。在等離子體刻蝕過程中，由于對刻蝕材料沒有好的選擇比，因此需要刻蝕終點檢測來檢測刻蝕工藝并停止刻蝕以減小對下面材料的過度刻蝕。終點檢測系統(tǒng)測量一些不同的參數(shù)，如刻蝕速率的變化、在刻蝕中被去除的腐蝕產(chǎn)物的類型或氣體放電中活性反應劑的變化。用于終點檢測的一種方法是發(fā)射光譜法。這一測量方法集成在刻蝕腔室中以便進行實時監(jiān)測。在連續(xù)波射頻等離子體刻蝕過程中，采用基于光強變化對刻蝕終點進行檢測。但是，由于光強的變化與等離子體有關，在雙頻或多頻脈沖等離子體中，等離子體發(fā)射...
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