技術(shù)編號：8376318
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。由于金屬薄膜具有良好的光學(xué)、聲學(xué)和電學(xué)特征，使其在機(jī)械、電子行業(yè)起到日益重要的作用。人們已經(jīng)采用化學(xué)氣相沉積(CVD)、離子注人和離子鍍等方法制備了不同材質(zhì)的納米金屬薄膜，然而在這幾種工藝的使用過程中，基片溫度過高、沉積速率較低，為納米金屬薄膜的實際用途帶來困難。為了克服上述問題，本發(fā)明設(shè)計一種電子回旋共振等離子體濺射法制備金屬薄膜，由于微波等離子體具有離化率高(等離子體密度高達(dá)11PlO1Vcm3)，工作壓力范圍寬，微波放電安全性好等優(yōu)良特性，使其在薄膜...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。