技術(shù)編號:8360402
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。近年來,由于電路圖案小型化,使用半導(dǎo)體曝光裝置在襯底上轉(zhuǎn)印希望的圖案變得困難。為了應(yīng)對這種情況,已提出兩種方法。首先,已提出了被稱為一維布局技術(shù)的技術(shù)(參考Michael C.Smayling等,“LowklLogic Design using Gridded Design Rules” SPIE 會議記錄第 6925 卷第 69250B 頁(2008))。圖1A至IC是示出了一維布局技術(shù)的圖。在一維布局技術(shù)中,提前形成圖1A中所示的線/空隙圖案(在下文中...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。
詳細(xì)技術(shù)文檔下載地址↓↓
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。
該分類下的技術(shù)專家--如需求助專家,請聯(lián)系客服
- 孫老師:1.機機器人技術(shù) 2.機器視覺 3.網(wǎng)絡(luò)控制系統(tǒng)
- 楊老師:物理電子學(xué)