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真空鍍一一真空濺鍍，也可稱磁控濺鍍，屬于高速低溫濺鍍法，在真空狀態(tài)充入惰性氣體氬氣(Ar)，并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，由于輝光放電(glow discharge)產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體產(chǎn)生氬氣正離子，正離子向陰極革El材高速運(yùn)動(dòng)，將靶材原子轟出，沉積在塑膠基材上形成薄膜。所謂的低溫真空濺鍍(Sputtering)表面鍍膜處理，主要是在金屬、塑膠、玻璃或其他材質(zhì)表面予以鍍膜處理，在一個(gè)通電的高真空密閉容器中，注入少許惰性氣體(...
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