技術(shù)編號(hào)：8198177
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及適合ZnO薄膜等的晶體生長(zhǎng)的ZnO基板以及ZnO基板的 處理方法。背景技術(shù)電子工學(xué)是以硅為首的半導(dǎo)體材料活躍的領(lǐng)域。但是，近年來，相對(duì) 于所要求的功能，由于硅材料自身的物理性能的局限，漸漸不能制造出能 夠滿足所要求功能的器件結(jié)構(gòu)。例如，不能進(jìn)行150。C以上的高溫動(dòng)作、沒 有高電場(chǎng)耐壓性等。另一方面，由于物質(zhì)種類的多樣和功能的多樣性，以高溫超導(dǎo)體 YBCO、紫外線發(fā)光材料ZnO、有機(jī)EL等為代表的氧化物、有機(jī)物作為下 一代的材料正在被矚目。它們有可能實(shí)現(xiàn)被硅這種材料限制而不能實(shí)現(xiàn)的 功能。例如、Z...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。