技術(shù)編號(hào)：8160707
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一維納米材料，尤其涉及一種硅納米線的結(jié)構(gòu)及其合成方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展主題是更小、更快、更低能耗。然而，從微米電子時(shí)代進(jìn)入納米電子時(shí)代之后，傳統(tǒng)的半導(dǎo)體制造技術(shù)--光刻工藝(屬于所謂“自上而下”的技術(shù))逐漸到達(dá)其所能企及的極限，顯得越來(lái)越難以滿足現(xiàn)在和未來(lái)的要求。由此，“自下而上”的技術(shù)，或稱為自組裝技術(shù)被認(rèn)為是未來(lái)發(fā)展的趨勢(shì)。目前，人們已經(jīng)利用這種“自下而上”的技術(shù)合成了各種納米結(jié)構(gòu)，包括納米線、納米管，其潛在的應(yīng)用領(lǐng)域包括納米電子、納米光學(xué)、納米感測(cè)器等。由于硅是目前半導(dǎo)體業(yè)界最常用的...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。